DE2055662C3 - Monolithisch integrierte Festkörperschaltung - Google Patents
Monolithisch integrierte FestkörperschaltungInfo
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
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Description
Bei der Verwendung von integrierten Schaltungen, insbesondere in Kraftfahrzeugen oder Telefonapparaten,
wird häufiger beobachtet, daß die integrierten Schaltungen durch falsche Polung der Betriebsspannung 4(1
oder durch entsprechende Störimpulse zerstört werden. Dieser Nachteil kann zwar durch geeignete Formgebung
und Anordnung der Sockelstifte und Passungen teilweise behoben werden. Eine falsche Polung ergibt
sich aber auch durch eine fehlerhafte Polung beim Anschluß der Stromversorgung, beispielsweise der
Batterien.
Die Erfindung betrifft eine monolithisch integrierte Festkörperschaltung nach dem Gattungsbegriff des
Anspruchs 1. r>0
Bei einer derartigen Festkörperschaltung, wie sie aus der französischen Offenlegungsschrift 20 26 673 bekannt
ist, wird der PN-Übergang zwischen dem Grundkörper und der zweiten HaibieiierschiclH in
Sperrichtung gepolt, um einen die beiden Stromversor- r'5
gungspole überbrückenden Kondensator zu bilden, dessen einer Kondensatorbelag vom Grundkörper
selbst gebildet wird. Damit sollen hohe Stromspitzen während Umschaltvorgängen aufgefangen werden.
Eine entsprechende Stromversorgung für eine monoli- M)
thisch integrierte Festkörperschaltung ist auch aus der US-Patentschrift 35 38 397 bekannt.
Der Erfindung liegt dagegen die Aufgabe des Schutzes gegen falsche Polung der Betriebsspannung
oder gegen Zerstörung einer monolithisch integrierten b>
Festkörperschaltung durch entsprechende Störimpulse zugrunde.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch die it n kennzeichnenden Teil des Anspruchs 1 angegebene
Maßnahme gelöst.
Die Erfindung wird im folgenden anhand der F i g. 1 und 2 der Zeichnung erläutert
Bei der monolithisch integrierten Schaltung nach der Erfindung fließt der Versorgungsstrom zwar über den
Grundkörper 3, jedoch nicht über den PN-Übergang Ii zwischen der ersten Halbleiterschicht 10 und dem
Grundkörper 3, wie es bei der monolithisch integrierten Festkörperschaltung nach der DE-OS 19 59 744 der Fall
ist Dieser PN-Übergang 11 muß nämlich in Sperrichtung gepolt bleiben, wenn er üblicherweise zur
elektrischen Trennung der einzelnen Halbleiter-Schaltungselemente zu dienen hat, wie Valvo, »Integrierte
Halbleiterschaltungen« (1966) Seiten 13 und 14 zu entnehmen ist
Sei der bekannten monolithisch integrierten Festkörperschaltung
nach der vorstehend genannten DE-OS 19 59 744 dient der betreffende PN-Übergang zwischen
der betroffenen Halbleiterschicht und dem Grundkörper nämlich nicht zur elektrischen Trennung der
Halbleiter-Schaltungselemente, sondern zur Nachbildung von Flußdioden der speziellen Schaltung eines
Transistor-Flipfiops.
Die Erfindung geht von einer gegen Fehlpolung sicheren Schaltung mit einer monolithisch integrierten
Festkörperschal lung 1 und einer Schutzdiode 9 im Batteriestromkreis gemäß der F i g. 1 mit der eingezeichneten
Polung aus. Die in der Schaltung gemäß der F i g. 1 noch enthaltenen weiteren Schaltungselemente
(Kondensatoren, Widerstand) sollen Siebglieder und weitere zur Funktion der monolithischen Festkörperschaltung
noch erforderliche äußere Schaltungselemente andeuten.
Die F i g. 2 zeigt die monolithisch integrierte Festkörperschaltung
nach der Erfindung. Die einzelnen Halbleiter-Schaltungselemente liegen in einer ersten
Halbleiterschicht 10 des einen Leitungstyps auf einer Oberflächenseite 4 eines plattenförmigen Grundkörpers
3 des anderen Leitungstyps, so daß sich eine PN-Übergangsfläche 11 bildet. Gleichstrommäßig sind
die Halblciter-Schaltungselemente der Festkörperschaltung durch Isolierzonen 8, welche die Halbleiterschicht
10 durchdringen, voneinander getrennt. Üblicherweise wird die erste Halbleiterschicht 10
epitaktisch auf dem Grundkörper 3 erzeugt. Die Schaltungselemente der Festkörperschaltung sind durch
Leitbahnen 7 entsprechend der zu realisierenden Schaltung verbunden.
Normalerweise erfolgt die Stromversorgung der Schaltungselemente über die Leitbahnen 7 von der
einen Oberflächenseite 4 der Festkörperschaltung her. Bei der monolithisch integrierten Festkörperschaltung
nach der Erfindung erfolgt dagegen die Stromversorgung auch über den plattenförmigen Grundkörper 3, so
daß der eine Stromversorgungspol 2 mit der Polung des Vorzeichens vom Leitungstyp der Epitaxieschicht, also
bei dem vorliegenden Beispiel des negativen Vorzeichens, an dem Grundkörper 3 angeschlossen wird.
Die Verpolungssicherheit bei der monolithisch integrierten Festkörperschaltung nach der Erfindung
ergibt sich dadurch, daß der betreffende Stromversorgungspol 2 nicht unmittelbar an den Grundkörper 3,
sondern an einer an der anderen Oberflächenseite 5 gelegenen zweiten Halbleiterschicht des einen Leitungstyps
angeschlossen wird, welche mit dem Grundkörper 3 einen PN-Übergang 12 bildet. Der eine
Stromversorgungspol 2 kann unmittelbar an dieser
zweiten Halbleiterschicht 6 oder auch über eine Fiiichenelektrode angebracht werden.
Eine besonders leichte Herstellbarkeit der monolithisch integrierten Festkörperschaltung na.ch der
Erfindung ergibt sich, wenn die zweite Halbleiterschicht 6 sich über die gesamte andere Oberfiächenseite 5
erstreckt. In diesem Fall kann nämlich die zweite Haibleiterschicht 6 gleichzeitig mit der auf der einen
Oberflächenseite 4 herzustellenden ersten Halbleiterschicht 10 gebikifct werden. Die zweite Halbleiterschicht
6 kann natürlich auch durch Rekristallisation aus der Legierungsschmelze oder durch Diffusion hergestellt
v/erden.
Die Verpolungssicherheit der monolithisch integrierten
Festkörperschaltung nach der Erfindung ergibt sich
dadurch, daß der PN-Übergang 12 bei richliger Polung in Flußrichtung und bei falscher Polung in Sperrichtung
zu liegen kommt, so daß die monolithisch integrierte Festkörperschaltung nicht zerstört werden kann, soweit
die Abbruchspannung des PN-Übergangs J 2 hinreiu chend groß gewählt wird.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
Claims (2)
1. Monolithisch integrierte Festkörperschaltung, deren Halbleiter-Schaltungselemente innerhalb
einer ersten Halbleiterschicht des einen Leitungstyps auf der einen Oberflächenseite eines plattenförmigen
Grundkörpers des anderen Leitungstyps angeordnet sind, wobei der so gebildete PN-Übergang
zwischen dem Grundkörper und der ersten Halbleiterschicht in Sperrichtung gepolt ist und der
Grundkörper zugleich der Stromversorgung für die Schaltungselemente dient, und bei der an der
anderen Oberflächenseite des plattenförmigen Grundkörpers eine zweite Halbleiterschicht des
einen Leitungstyps parallel zur Flächenausdehnung des plattenförmigen Grundkörpers verlaufend angeordnet
ist, welche zweite Halbleitorschicht einen weiteren PN-Übergang mit dem Grundkörper bildet
und an der ein Stromversorgungspol angeschlossen ist, dadurch gekennzeichnet, daß der
Stromversorgungspol (2) des dem Leitungstyp der Halbleiterschichten (6, 10) entsprechenden Vorzeichens
an der zweiten Halbleiterschicht (6) angeschlossen ist, so daß die Stromversorgung de;>
Grundkörpers (3) über den in Flußrichtung gepolten PN-Übergang (12) zwischen der zweiten Halbleiterschicht
(6) und dem Grundkörper (3) erfolgt.
2. Monolithisch integrierte Festkörperschaltung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sich
die zweite Halbleiterschicht (6) über die gesamte !0
andere Oberflächenseite (5) des Grundkörpers (3) erstreckt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19702055662 DE2055662C3 (de) | 1970-11-12 | 1970-11-12 | Monolithisch integrierte Festkörperschaltung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19702055662 DE2055662C3 (de) | 1970-11-12 | 1970-11-12 | Monolithisch integrierte Festkörperschaltung |
Publications (3)
Publication Number | Publication Date |
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DE2055662A1 DE2055662A1 (de) | 1972-05-18 |
DE2055662B2 DE2055662B2 (de) | 1979-02-15 |
DE2055662C3 true DE2055662C3 (de) | 1979-10-18 |
Family
ID=5787900
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19702055662 Expired DE2055662C3 (de) | 1970-11-12 | 1970-11-12 | Monolithisch integrierte Festkörperschaltung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE2055662C3 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US4476479A (en) * | 1980-03-31 | 1984-10-09 | Tokyo Shibaura Denki Kabushiki Kaisha | Semiconductor device with operating voltage coupling region |
-
1970
- 1970-11-12 DE DE19702055662 patent/DE2055662C3/de not_active Expired
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE2055662A1 (de) | 1972-05-18 |
DE2055662B2 (de) | 1979-02-15 |
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