DE2044373A1 - Verfahren und Einrichtung zur Be Stimmung des C Gehaltes bei chemischen Prozessen - Google Patents

Verfahren und Einrichtung zur Be Stimmung des C Gehaltes bei chemischen Prozessen

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Michael J . Prof Dr Rumpold Karl Dr Wien Viehbock Franz Dr Maria Enzersdorf Higatsberger, (Oster reich)
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    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N23/00Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00
    • G01N23/22Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material
    • G01N23/221Investigating or analysing materials by the use of wave or particle radiation, e.g. X-rays or neutrons, not covered by groups G01N3/00 – G01N17/00, G01N21/00 or G01N22/00 by measuring secondary emission from the material by activation analysis
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