DE2040158C3 - Verfahren und seine Anwendung zur Erzielung eines geringen Intensitätsverlusts beim Austritt aus einem Elektronenbeschleuniger - Google Patents
Verfahren und seine Anwendung zur Erzielung eines geringen Intensitätsverlusts beim Austritt aus einem ElektronenbeschleunigerInfo
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- H01J33/00—Discharge tubes with provision for emergence of electrons or ions from the vessel; Lenard tubes
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren, bei welchem ein Elektronenstrahl mit geringem Intensitätsverlust
durch ein Paar länglicher, mit Zwischenabstand nebeneinander
in der Kammerwand angeordneter Fenster aus der evakuierten Kammer eines Elektronenbeschlcunigers
austreten kann sowie eine Anwendung dieses Verfahrens bei einem Elektronenbeschleuniger,
welcher Min vier gegeneinander um 90 versetzt
angeordneten Ablenkspulen umgeben ist, durch die der Strahl entweder iii Richtung einer ersten Achse
oder in Richtung einer zweiter)) senkrecht auf dieser stehenden Achse lenkbar ist.
Elektronenstrahlerzeuger oder Elektronenbeschleuniger mit Beschleunigcrspannung von mehreren
Millionen Volt besitzen im allgemeinen eilten seht
langen Isolicrbehältcr. Dieser Behälter umschließt eine evakuierte Kammer, in welcher die Elektronen
beschleunigt und zu einem Strahl gebündelt werden, wobei eine außerordentlich hohe Potentialdifferenz
zwischen der Kathode am.einen Kammerende und der Anode am anderen Kammerende besteht. Die Anode
enthält ein elektronendurchlässiges Fenster, durch welches der Strahl aus der Kammer heraustritt und
auf die entsprechende Substanz auftrifft.
Herkömmliche Materialien für ein elekt/onendurchlässiges
Fenster sind dünne Metallfolien, die den Elektronenstrahl durchlassen und ein einer Öffnung
in der Behälterwand abdichtend angeordnet sind, so daß das Vakuum innerhalb der Kammer erhalten
bleibt. Wenn der Elektronenstrahl das Metallfenster passiert, werden Elektronen gestreut mit der Folge
einer Erhitzung des Fensters. Falls ein Teil des Metallfensters über einen zu tolerierenden Wert hinaus erwärmt
wird, erfolgen eine Oxydation sowie ein Verdampfen des Metalls, was zu einem Durchlöchern der
Metallfolie führt. Auf diese Weise wird das in der Kammer notwendige Vakuum zerstört. Um eine derartige
Überhitzung des Fensters zu verhindern, muß die Intensität des Elektronenstrahls genau gesteuert
werden, was einen Betrieb des Elektronenbeschleunigers
unterhalb seiner möglichen Leistung mit sich bringt.
Es wurden bereits verschiedene Möglichkeiten zum Verhindern der oben beschriebenen überhitzung
vorgeschlagen. So werden beispielsweise Kühlvorrichtungen benutzt, bei denen ein Luftstrom das Fenster
umstreicht; die Kühlwirkung dieses Luftstroms reicht jedoch nicht aus, um eine Überhitzung sicher
zu verhindern. Zur Vermeidung einer übermäßigen lokalen Erwärmung wurde auch bereits eine Vergrößerung
der Fensterfläche vorgeschlagen, so daß der Strahl über eine größere Fläche abgelenkt werden
kann.
Obwohl ein größeres Fenster eine größere Strahlungsintensität zuläßt, haben die in früheren Anordnungen
verwendeten vergrößerten Fenster eine ganze Anzahl schwerwiegender Nachteile und Begrenzungsfaktoren.
Einmal erfordert das dünne Fenstermaterial mechanische Abstützungen und Halterungen
von außerordentlich komplexer Natur, sobald die Fenster eine bestimmte Größe übersteigen. Der Elektronenstrahl
kann dabei nur /wischen diesen Abstützungen durch das Fenster austreten. Es entstehen aber
Strahlungsverluste, sobald der Strahl auf die undurchlässigen Stützträgeruuftriffi. Dies rührt daher, daß die
in konventionellen Fenster eine relativ große Lange gegenüber
ihrer Breite aufweisen. Die Länge der Fenster ist aber durch die Erfordernisse der Abstützung begrenzt,
was durch die Tatsache belegt wird, daß Fenstcrlangcn
von mehr als IXf) cm unbekannt sind und
5·; Einrichtungen mit Fenstern von mehr als 120 em
Länge unhandlich werden
Die notwendigerweise schmale Ausbildung der Fenster begrenzt weiterhin die Wirksamkeit von verschiedenen
mehr-dimensionalen Strahlahlenkungsverfahren
/um Verhindern einer Oberhit/ung Bei
derartigen Verfahren erfolgt die 'strahlablenkung nicht in einer einzigen Dimension, beispielsweise in
Fensterlängsrichtung, sondern der Strahl wird auch senkrecht zur Längsausdehnung des Fensters abge-
lenkt. Die schmale Feiistergcstalt erschwert erheblich
die Strahlablenkung ifl Fenslerlängsrichtung ohne
Rücksicht auf die Qucrvcrschiebungen des Strahls und
zieht eine Erwärmung der bereits erwärmten Fenster-
bereiche sowie eine daraus folgende Überhitzungsgefahr
nach sich.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren der eingangs genannten Art zu schaffen, durch welche bei
Austritt eines Elektronenstrahls hoher Intensität der Intensitätsverlust beim Durchtritt durch das Fenster
minimal gehalten und damit das Risiko einer Fensterüberhitzung verringert wird.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe gelöst durch die aufeinanderfolgenden Schritte eines Verfahrenszyklus
a) Ablenken des Elektronenstrahls über eine vorher bestimmte Zeitdauer in Längsrichtung eines
der Fenster (24 oder 26),
b) schnelles Überführen des Elektronenstrahls von diesem ersten Fenster (24 oder 26) zu dem zweiten
Fenster (26 bzw. 24),
c) Ablenken des Elektronenstrahls über eine vorher bestimmte Zeitdauer in Längsrichtung des
zweiten Fensters (26 bzw. 24), und
d) schnelles Überführen des Elektronenstrahls vom zweiten Fenster (26 bzw. 24) zurück zuri ersten
Fenster.
Dieses Verfahren hat den Vorteil der Benutzbarkeit
einer relativ großen Fensterfläche, da sich diese aus zwei Einzelfenstern zusammensetzt. Der Strahl
kann über die gesamte zusammengesetzte Fläche ohne nennenswerte Verluste an Intensität und damit Strahlungsenergie
an undurchlässigen Zonen abgelenkt werden.
Zweckmäßig ist die Richtung der Strahlablenkung im ersten Fenster der der Ablenkung im zweiten Fenster
entgegengesetzt,so daß mit einer in sich geschlossenen Bahn, auf der sich der Strahl über die Gesamtfläche
des Fensters bewegt, die Länge der Fenster voll ausgenutzt werden kann.
Die eingangs erwähnte Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens zeichnet sich vorzugsweise
dadurch aus, daß bei den Verfahrensschritten a) und c) der Stromfluß in einem ersten, aus zwei gegenüberliegenden
Spulen bestehenden Spulenpaar verändert wird und im zweiten Spulenpaar ein konstanter Strom
aufrechterhalten wird, so daß der Elektronenstrahl parallel zur ersten Achse in Längsrichtung der Fenster
abgelenkt wird, und daß bei den Verfahrensschritten b) und d) der Stromfluß im zweiter Spulenpaar auf
einen anderen konstanten Wert scnnell verändert wird, so daß der Strahl in Richtung der zweiten Achse
abgelenkt wird.
Die Erfindung wird nachstehend anhand eines bevorzugten
Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der Zeichnung näher erläutert. Es zeigt
Fig. 1 die perspektivische Darstellungeines Elektronenbeschleunigers
zur Anwendung des erfindungsgemäßen Verfahrens,
Fig. 2 eine Ansicht des Elektronenbeschleuniger.; in Richtung des Pfeils 2 in Fig. 1.
In Fig. 1 ist mit 10 ein für das erfindungsgemäße Verfahren verwendeter Elektronenbeschleuniger in
seiner Gesamtheit bezeichnet. Dieser besteht aus einem länglichen Behälter 12, der eine evakuierte Kammer 14 umschließt. Unmittelbar an einer Eridwand
16 des Behälters 12 befindet sich ein Heißkathoden-Emilter 18, In einiger Entfernung von der Endwand
16 vergrößert sich der Querschnitt des Behälters 12 zu einem Teil 20, welcher von einer Endwand 22 begrenzt
wird. In der f ndwand 22 befindet sich ein Paar Längsöffnimgen, in welche zwei clektronendurchlässige
Fenster 24 und 26 nebeinander eingesetzt sind.
Die Fenster 24 und 26 können in herkömmlicher
Weise aus einem elektronenstrahldurchlässigen Ma terial, z. B. einer dünnen Metallfolie, bestehen. Die
Fenster 24, 26 sind im wesentlichen rechteckig und nebeneinander angeordnet, wobei ihre Längsachsen
im wesentlichen parallel zueinander verlaufen. Die Fenster 24, 26 sind in die Behälterendwand 22 derart
eingebaut, daß sie die Kammer 14 luftdicht abschließen und ein darin vorhandenes Vakuum aufrechterhalten.
Die Fenster 24, 26 gehören zur Anode des Beschleunigers. Zwischen dieser Anode und der Kathode
18 besteht ein großer Potentialunterschied, so daß die von der Kathode angegebenen Elektronen einen
auf die Fenster 24 und 26 gerichteten Elektronenstrahl bilden. Die Steuerung der Richtung dieses
Elektronenstrahls erfolgt durch die vier elektronischen Ablenkspulen 28,30, 32 und 3'4, die paarweise
um 90° gegeneinander versetzt außerhalb des Behälters 12 angeordnet sind. Die Spulen 28, 30 sind derart
angeordnet, daß sie einen von der K.ihode 18 ausgesandten
Kathodenstrahl in Richtung der η b ig. 2 parallel
zu den Längsachsen der Fenster 24, 26 eingezeichneten !'-Achse ablenken. Die Spulen 32, 34
dagegen lenken den Elektronenstrahl in einer senkrecht zu -en Längsachsen der Fenster 24, 26 verlaufenden
.Y-Achse ab.
Bei der Durchführung des Verfahrens sind die Spulen 28,30,32, 34 stromdurchflossen, und das dadurch
erzeugte magnetische Feld kann deiart verändert werden, daß sich die Richtung des Elektronenstrahls
in der Kammer 14 ändert. Das dadurch erzielbare Ablenkungsschema führt dazu, daß die Intensität des
Elektronenstrahls maximiert werden kann, ohne das die Gefahr von Oberhitzungen der Fenster 24 und
26 besteht.
Die Art und Weise, in welcher der Elektronenstrahl gesteuert wird, kann der Fig. 2 entnommen werden.
Es sei vorausgesetzt, daß der Elektronenstrahl zu Beginn derart von den Spulen abelenkt ist, daß er beispielsweise
im Punkt 36 auf das Fenster 26 trifft. Dieser Γ unkt 36 ist willkürlich gewählt, da die Ablenkung
des Elektronenstrahls, wie unten näher ausgeführt wird, kontinuierlich in einer geschlossenen Bahn erfolgt,
so daß jeder Punkt dieser geschlossenen Bahn als Start- oder Endpunkt angesehen werden kann.
Der Stromfluß durch die Spulen 32, 34 wird zunächst auf einem konstanten Wert gehalten, so daß
keine Querbewegung des Strahls parallel zur X- Achse auftritt. Gleichzeitig wird der Stmm in den Spulen 28
und 30 verändert, so daß der Strahl über eine vorbestimmte Zeitdauer längs der strichpunktierten Linie
in Richtung der eingezeichneten Pfeile abgelenkt wi'd. Sobald der Strahl das Ende des Fensters 26 erreicht
hat, wird der Stromfluß in den Spulen 32 und 34 augenblicklich uin einen konstanten WeI verändert.
Diese augenblickliche Änderung tührt /u eirer schnellen Bewegung des Strahls längs der geraden Linie
40 parallel zur X- Achse. Diese schnelle Bewegung des Strahls vom Fenster 26 zum Fenster 24 verhindert
größere Veiiuste an Strahlungsenergie welche beim
Auftreffen des Strahls auf den zwischen den Fenstern 24 und 26 liegenden Teil der Endwand 22 auftreten.
Unter Aufrechterhaltung dieses geänderten konstanten Stromflusses in den Spulen 32 und 34 durch
welchen der Elektronenstrahl derart abgelenkt wird, daß er auf das Fenster 24 auftrifft, wird der Strom
in den Spulen 28, 30 wiederum verändert, so daß der Strahl in einer Vorbestimmten Zeitdauer über die
Länge des Fensters 24 entlang der strichpunktierten Linie 42 und in Richtung der dort eingezeichneten
Teile abgelenkt wird. Dabei ist die Richtung, in welcher der Strahl auf dem Fenster 24 entlangwandcrl,
um 180° gegenüber der Richtung der Ablenkung auf dem Fenster 26 gedreht. Sobald der Elektronenstrahl
das Ende des Fensters 24 erreicht hat, erfolgt augenblicklich eine Stromänderung in den Spulen 32 und
34 auf den ursprünglichen Wert, wodurch eine schnelle Querbewegüng des Strahls entlang der Linie
44 erfolgt, so daß der Strahl vom Fenster 24 zum Fenster 26 überspringt und der Ausgangspunkt 36 des
Ablenkzyklus wieder erreicht wird. Ebenso wie bei der oberen Querbewegung parallel zur A*-Achse erfolgt
auch diese Bewegung vom Fenster 24 zum Fenster
26 so schnell, daß größere Verluste an Strahlungsenergie an dem zwischen dem Fenster 24 und 26
liegenden Teil der Endwand 22 nicht auftreten.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird in vorteilhafter Weise die Vergrößerung der Leistungeines Elektronenbeschleunigers erreicht und die Möglichkeit geschaffen, einen hoch intensiven Elektronenstrahl zu erzeugen, ohne daß die Gefahr einer lokalen Überhitzung der durchlässigen Fenster bcsteht, durch welche der Strahl aus dem Beschleuniger austritt, Dieses Verfahren ist besonders für die Ablenkung eines Elektronenstrahls in einem Beschleuniger geeignet, dessen Endwand aus mehreren elektronendurchlässigen Fenstern besteht, da keine durch das Auftreten des Elektronenstrahls auf den undurchläs-^ sigen Wandzwischenteil bedingte Energievcrlustc auftreten.
Durch das erfindungsgemäße Verfahren wird in vorteilhafter Weise die Vergrößerung der Leistungeines Elektronenbeschleunigers erreicht und die Möglichkeit geschaffen, einen hoch intensiven Elektronenstrahl zu erzeugen, ohne daß die Gefahr einer lokalen Überhitzung der durchlässigen Fenster bcsteht, durch welche der Strahl aus dem Beschleuniger austritt, Dieses Verfahren ist besonders für die Ablenkung eines Elektronenstrahls in einem Beschleuniger geeignet, dessen Endwand aus mehreren elektronendurchlässigen Fenstern besteht, da keine durch das Auftreten des Elektronenstrahls auf den undurchläs-^ sigen Wandzwischenteil bedingte Energievcrlustc auftreten.
Hierzu I Blatt Zeichnungen
Claims (3)
1. Verfahren, bei welchem ein Elektronenstrahl mit geringem Intensitätsverlust durch ein Paar
länglicher, mit Zwischenabstand nebeneinander in der Kammerendwand angeordneter Fenster aus
einer evakuierten Kammer eines Elektronenbeschleunigers austreten kann, gekennzeichnet
durch die aufeinanderfolgenden Schritte eines Verfahrenszyklus
a) Ablenken des Elektronenstrahls über eine vorher bestimmte Zeitdauer in Längsrichtung
eines der Fenster (24 oder 26),
b) schnelles Überführen des Elektronenstrahls von diesem ersten Fenster (24 oder 26) zu
dem zweiten Fenster (26 bzw. 24),
Ablenken des Elektronenstrahls über eine vorher bestimmte Zeitdauer in Längsrichtung de zweiten Fensters (26 bzw. 24) und schnelles Überführen des Elektronenstrahls vom zweiten Fenster (26 bzw. 24) zurück zum ersten Fenster.
Ablenken des Elektronenstrahls über eine vorher bestimmte Zeitdauer in Längsrichtung de zweiten Fensters (26 bzw. 24) und schnelles Überführen des Elektronenstrahls vom zweiten Fenster (26 bzw. 24) zurück zum ersten Fenster.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Richtung der Strahlablenkung
im zweiten Fenster der der Ablenkung im ersten Fenster entgegengesetzt ist.
3. Anwendung des Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 oder 2 bei einem Elektronenbeschleuniger,
welcher von vier gegeneinander um 90 versetzt angeordneten Ablenkspulen umgeben
ist, durch die der Strahl entweder in Richtung einer ersten Achse odes in Richtung einer zweiten,
senkrecht auf dieser stehenden Achse ablenkbar ist, dadurch gekennzeichnet, dt ">
bei den Verfahrensschritten a) und c) der Stromfluß in einem ersten, aus zwei gegenüberliegenden Spulen bestehenden
Spulenpaar (28, 30) verändert wird und im zweiten Spulenpaar (32, 34) ein konstanter
Strom aufrechterhalten wird, so daß der Elektronenstrahl parallel zur ersten Achse ( V) in Längsrichtung
der Fenster (24, 26) abgelenkt wird, und daß bei den Verfahrensschritten b) und d) der
Stromfluß im /weiten Spulenpaar (32, 34) auf einen anderen konstanten Wert schnell verändert
wird, so daß der Strahl in Richtung der /weiten Achse (/V) abgelenkt wird.
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DE3709462A1 (de) * | 1987-03-23 | 1988-10-06 | Polymer Physik Gmbh | Ein- oder mehrstufiger elektronenbeschleuniger mit sprungstrahl |
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NL147578B (nl) | 1975-10-15 |
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