DE2039728A1 - Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen

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DE2039728A1 DE19702039728 DE2039728A DE2039728A1 DE 2039728 A1 DE2039728 A1 DE 2039728A1 DE 19702039728 DE19702039728 DE 19702039728 DE 2039728 A DE2039728 A DE 2039728A DE 2039728 A1 DE2039728 A1 DE 2039728A1
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    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07F7/1876Preparation; Treatments not provided for in C07F7/20 by reactions involving the formation of Si-C linkages

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Description

München, 7·ϋ·7Ο
, Reoh^nwait Dr.W ■in Gen. Vüllm. (HL-Ni Vi/64)
.i8> Fa. DOW CORN^Ü^Corp nr
Midland/Mich. (USA) ?2
Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen
Bisher war bei dem hauptsächlich verwendeten Verfahren zur Herstellung von Alkenylalkoxysilanen der Einsatz eines Katalysators* zum Beispiel Chlorplatinsäure, erforderlieh. Es wurde nun eia Verfahren gefunden, bei dem im Gegensatz hierzu der Einsatz eines Katalysators vermieden wird, so daß die Möglichkeit störender Nebenwirkungen ausgeschlossen wird, die durch bestimmte Katalysatoren, die üblicherweise für derartige Zwecke Verwendung finden, hervorgerufen werden können. Außerdem werden mit deir. erfindungsgemäßen Verfahren beträchtlich höhere Ausbeuten erzielt.
Das erfindungsgemäße Verfahren zur Herstellung von Alkenyl· aikojcysilanen ist dadurch gekennzeichnet, daß (1) Disilane der allgemeinen Formel ■
?Vn ?V
(RO)nSi -Si(OR)n
worin R Alkylreste mit 1 bis 6 C-Atomen, R" Alkylreste
■. - 2 -
109808/2284
BAD OR|QfWAL
mit 1 bis 6 C-Atomen oder Phenylreste bedeuten und η 1 oder 2 ist, mit
(2) mindestens der stöchiometrlschen Menge eines Alkohols der Formel ROH und eines Alkins der Formel R"C=CR", worin R die angegebene Bedeutung hat und R1* Alkylreste mit 1 bis 6 C-Atomen, Phenylreste oder Wasserstoffatome bedeutet,
auf Temperaturen von mindestens etwa 175°C erhitzt und anschließend die gebildeten Alkenylalkoxysilane isoliert werden.
Beispiele für Alkylreste R in den angegebenen Formeln sind Methyl- (bevorzugt), Äthyl-, Propyl-, Isopropyl-, Butyl-, tert. Butyl-, Amyl- und Hexylreste. Die entsprechenden Alkoxyreste in dem Disilan (I) sind daher Methoxy- (bevorzugt), Äthoxy-, Propoxy-, Isopropoxy-, Eutoxy-, Amyloxy- und Hexoxyreste.
Beispiele für Alkylreste R' und R" sind dieselben wie für R angegeben. Darüber hinaus kann R1 definitionsgemäß auch ein Phenylrest und R" ein Fhenylrest oder ein WaEserstoffatom sein. R" ist vorzugsweise ein Wasserstoffatom.
Bei Durchführung des erf indungsgemä'ßen Verfahrens können die Reaktionspartner (1) und (2) entweder in einem geschlossenen System auf eine Temperatur von mindestens etwa 175 C oder in
109808/2284
BAD ORIGINAL
2Q-3972S
einem offenen System kontinuierlich auf eine Temperatur von mindestens etwa y%Pc. erhitzt werden.
Unter der Ausdruckswelse "geschlossenes System" 1st zu verstehen, daß die Reaktion unter Luftausschluß und notwendigerweise unter Druck, der vor der jeweils gewählten Reaktionstemperatur abhängig ist, in einem Reaktionsgefäß, das von einem zugeschmolzenen Glasrohr bis zu einen» Druckgutoklaven reichen kann, durchgeführt wird.
Unter diesen Bedingungen sind Reaktionstemperaturen von mindestens etwa 175°C erforderlich, da bei niedrigeren Temperaturen die Reaktion nicht anspringt oder so langsam verläuft, daß es praktischunwirtschaftlich ist. Reaktionstemperaturen im Bereieh von etwa £00 '-» 2^0 C haben sich hierbei besonders bewährt.
VIe bereits erwähnt, kann das erfinclungsger.äße Ve !'fahren jedoch auch in einem offenen System kontinuierlich, bei Temperaturen von mindestens etwa 35C°C durchgeführt werden. Unter der Ausdruckswelse "offenes System kontinuierlich" ist zu verstehen, daß die Beaktlonsteil* nehmer kontinuierlich durch ein erhitztes Rohr oder eine ähnliche Vorrichtung unter Atirosphärendruck; geleitet werden. Unter diesen Bedingungen sind Beaktionstemperaturen
■ . 4 -,
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BAD ORIGiNAL
von mindestens etwa 35O0C erforderlich; vorzugsweise wird bei 400° - 45O0C gearbeitet.
Unabhängig von dem gewählten System sollten Reaktionstemperaturen von 5000C nicht überschritten werden, da hierbei möglicherweise eine Pyrolyse eintritt, wodurch die Ausbeuten an den gewünschten Alkenylalkoxysilanen beträchtlich gesenkt werden.
W Unabhängig von dem gewählten System spielt ferner die Reihenfolge, in welcher die Reaktionsteilnehmer (1) und (2) miteinander in Berührung kommen, keine entscheidende Rolle. Wichtig ist jedoch, daß das Disilan (1) und das Gemisch (2) gleichzeitig erhitzt werden, um die bestmöglichen Ausbeuten zu erzielen.
Das Gemisch aus Alkohol und Alkin (2) sollte mindestens in stöchlometrischen Mengen eingesetzt werden. Ein Überschuß des Alkohols l£t jedoch vorteilhaft, da hierdurch höhere Ausbeuten an den gewünschten Alkenyl alkoxysilanen erreicht werden.
1 0 9 8 0 3 / 2 2 8 U
BAD ORIGINAL
Beispiel 1 . ■ .. . 10,5 g (0,05 Mol) des Dlsilans der Formel
5,4 e (0,1 Mol) Dimethylaeetylen und 3,2 g (0,1 "MoI). Methanol wurden in einem verschlossenen Glasrohr 10 Stunden auf SOO0C erhitzt. Nach dem Abkühlen wurden die überschüssigen Reaktionsteilnehmer und das als Nebenprodukt gebildete Silan der Formel CH3Si(OCH3)., durch Destillation entfernt« Durch weitere Destillation wurden 3,5 g (44 f*) des Alfcenylalköxysilans der Formel
CH3C=CSi(OCH3J2
H CH3
erhalten, l
Die Struktur dieser Verbindung wurde sowohl durch Infrarotanalyse, kernmagnetische Resonanzmessung und Massenspektralanalyse, als auch durch Methylierung unter Bildung der bekannten Verbindung der Formel
CH3 ; CH7C=CSi(CH3J3
H
bestätigt.
iO9 8O/228 - 6 - BAD
Beispiel 2
25,9 g (0,145 Mol) des Dlsilans der formel
CH,OSi - SlOCH11
3 t 3
(CH
23,5 g (0,44 Mol) Dirrethylacetylen und 13,9 g (Ο,Ί4 Mol) Methanol wurden Ib bis 20 Stunden auf 225°C erhitzt. Durch Destillation wurden 7,9 g (38 Ji) des Alkenylalkoxysilans der Formel
CH3C=CSiOCH,
H
erhalten.
Die Struktur dieser Verbindung wurde sowohl durch Infra· W rotanalyse, kernmagnetische Resonanzmessung und Massen-
spektralanalyse, als auch durch Methyllerung unter Bildung der bekannten Verbindung der Formel
ciu "■■.·■
CK5C=CSi(CH,),
bestätigt.
- ■ ■ 2 r
10980 Ö/2284
BAD ORIGINAL
Beispiel 3
?1 g (0,1 Mol) des Disilans der Formel
CH,
CH,
10,8 g (0,2 Mol) Pimethylacetyien und 3,2 g (0,1 Mol) Methanol wurden bei 4000C durch ein Quarzrohr geleitet (5 ml/Std·). Durch Gas-JftüssigkeitB-chroRiatographische Analyse wurde festgestellt, daß das Dlsllan vollständig verbraucht worden war unter Bildung des Alkenylalkoxysilisins der Formel
CH, CH,C==C31(0CH,).
Beispiel 4
Zu 21,0 g (0,1 Mol) des Disilans der Formel
CH3
3S1 - Si(OCH,),
CH,
1Q9|0_8/22
BAD ORJGlNAL
wurden 3,2 g (0,1 Mol) Methanol zugefügt, die in einer Geschwindigkeit von 10 ml/Std. durch ein auf 400°C erhitztes Quarzrohr geleitet wurden. Gleichzeitig wurde Acetylen in einer Geschwindigkeit von 25 ml/Std. eingeführt. Durch Gae-FlUssigkeits-chromatographische Analyse des Reaktionsgemisches wurde festgestellt, daß das Disllan unter Bildung (22,0 Flächen-··) des Alkenylalkoxysilans der For·
HC=CSi(OCH3J2 • t
H CH-vollständig verbraucht worden war.
Beispiel 5
17,0 g (0,1 Mol) des Disilans der Formel
CH,OSi - SiOCH, 2 ι J5
109808/2284
und ein Gemisch aus 10,8 g (0,2 Mol) Dimethylacetylen und 3*2 g (0,1 Mol) Methanol wurden durch ein erhitztes (400°C) Quarzrohr geleitet (5,0 ml/Std.). Durch Gas-Flüssigkeits-chromatographische Analyse wurde festgestellt, daß'das Disilan unter Bildung des Alkenylalkoxysilans der Formel
CH, • 3
CH,C=CSiOCH, 3» » 3
H (CH,)2 (44,3 Flächen-Ji) vollständig verbraucht worden war.
Beispiel 6
19 g (0,1 Mol) des Disilans der Formel
CH, (CH3O)2Si - SiOCH
11,0 g (0,? Mol) Dimethylacetylen und 3,2 g (0,1 Mol) Methanol wurden bei einer Temperatur von 4000C durch ein Quarzrohr geleitet (5,0 ml/Std.)· Durch Gas-Flüssigkeits-chromatographische Analyse wurde festgestellt, daß das Disilan unter Bildung der Alkenylalkoxysilane der Formeln
- 10 109808/2284
- ίο -
CH,C=CSiOCH, und CH,C=CSi(OCIL·)«
H (CH,)2 H CH
(20,5 bzw. 19,7 Flächen-fi) vollständig verbraucht worden war.
- 11 -
109808/2284
ORIGINAL INSPECTED

Claims (1)

  1. Pa te nta η Sprüche
    1* Verfahren zur Herstellung von Alkenylelkoxysilanen, dadurch gekennzeichnet , daß
    (1) Disilane der allgemeinen Formel
    (KO)nSi -Sl(OR)n
    worin P Alkylreste mit 1 bis 6 C-Atomen, R1 Alkyireste mit 1 bis 6 C-Atomen oder Phenylreste bedeuten und η 1 oder 2 ist, irit
    (Γ) mindestens der stöchlometrischen Menge eines Alkohols der Formel ROH und eines Alkins der Fonrel R1O=CR", worin R die angegebene Bedeutung hat und R" Alkylreste mit 1 bis 6 C-Atomen, Phenylreste oder Wasserstoff atome bedeutet,
    auf Temperaturen von mindestens etwa I75°C erhitzt und anschließend die gebildeten Alkenylalkoxysilane isoliert werden.
    2. Verfahren gema'ß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Reaktionspartner (1) und (2) in einem geschlossenen System auf eine Temperatur von mindestens etwa 175°C erhitzt werden.
    - 12 109808/2284
    BAD ORIGINAL
    j5. Verfahren gemäß Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet , daß die Reaktionspartner (1) und (2) in einem offenen System kontinuierlich auf eine Temperatur von mindestens etwa 35O°C erhitzt werden.
    4. Verfahren gemäß Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet , daß als Disilane solche der Formeln
    (CH)2
    CH3(CH3O)2Si-Si(OCH3), (CH3O)2Si - Si(0CH3)2 oder
    CH,OSi - SiOCH
    j t
    als Alkohol Methanol und als Alkin Dimethylacetylen verwendet werden.
    5. Verfahren gemäß Anspruch 1 und 3» dadurch gekennzeichnet , daß als Alkin Acetylen verwendet wird.
    109808/2284
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