DE202014010268U1 - Oberkiefer-Aufbissschiene - Google Patents

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Abstract

Oberkiefer-Aufbissschiene (10) mit einem Aufnahmebereich (12) für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite (14), wobei sich auf der Unterseite (14) der Aufbißschiene (10) im Frontzahnbereich ein Plateau (16) erstreckt und wobei der Aufnahmebereich (12) derart ausgeführt ist, dass das Plateau (16) im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig geneigt ist, dadurch gekennzeichnet, dass beidseitig an den distalen, kieferseitigen Enden der Aufbissschiene (10) jeweils auf jeder Seite an der Aufbissschiene (10) ein zusätzlicher Dreh- und Stützpunkt (30) angeordnet ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Oberkiefer-Aufbissschiene mit einem Aufnahmebereich für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
  • Untersuchungen haben gezeigt, dass ein erheblicher Anteil der Bevölkerung Symptome einer Craniomandibulären-Dysfunktion (Cranium = Schädel; Mandibula = Unterkiefer) aufweisen, die im Folgenden als CMD bezeichnet wird. Dabei handelt es sich um eine Fehlfunktion im Zusammenspiel von Ober- und Unterkiefer, bedingt durch Störungen in der Funktion der Zähne, der Kiefergelenke und der Kiefermuskulatur. Zu der Symptomliste der CMD gehört unter anderem das nächtliche Pressen und Knirschen der Zähne, das zu erheblichen Zahnabrasionen führen kann, sowie Kopfschmerzen, Ohrschmerzen und Ohrgeräusche (Tinnitus), die ebenfalls zu einem erheblichen Anteil ihre Ursache in einer CMD haben.
  • Die derzeit übliche zahnärztliche Behandlung der CMD umfaßt unter anderem Einschleifmaßnahmen der Zähne sowie eine Therapie mittels einer Aufbissschiene.
  • Früher bekannte Aufbissschienen linderten zwar die aufgrund des Pressens und Knirschens bedingten Symptome, behoben jedoch nicht deren Ursache, so dass ein langfristiger Heilerfolg nicht erzielt werden konnte.
  • Aus der DE 20 2004 020 196 U ist nun zur Herstellung einer physiologischen Zentrik der Kiefergelenke (CR-Position) bereits eine Oberkiefer-Aufbissschiene bekannt, bei der sich auf der Unterseite der Aufbissschiene im Aufnahmebereich für Frontzähne ein Plateau erstreckt, das im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig geneigt ist. Das heißt der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne ist derart ausgeführt, dass sich im eingesetzten Zustand der Schiene der angegebene Winkel ergibt. Bei dem Plateau handelt es sich um ein Frontzahn-Schienen-Plateau, auf das die entsprechenden Frontzähne des Unterkiefers im eingesetzten Zustand der Schiene aufsetzen. Der Seitenzahnkontakt wird ausgeschaltet, somit auch die Frühkontakte bzw. Fehlkontakte, die zur unphysiologischen Abrasion führen. Unter „rückwärtiger Neigung” des Plateaus ist eine im eingesetzten Zustand nach hinten (distal) gerichtete Neigung zu verstehen.
  • Eine derartige Aufbissschiene wird in einer ersten, ca. eine Woche andauernden Phase der Behandlung eingesetzt und dient im wesentlichen zur Relaxierung des Kiefergelenkes und der Kiefermuskulatur sowie auch zu einer Entlastung der sich im Bereich des Kiefergelenkes befindlichen bilaminären Zone, da der dreidimensional bewegliche Unterkiefer frei ist und sich neu orientieren bzw. positionieren kann und sich damit die Kaumuskulatur entspannen kann. Der genannte Winkel des Plateaus wird je nach Fehlposition des Kiefergelenkes in einem Winkel im Bereich zwischen 0° und 10° gewählt.
  • Die Oberkiefer-Aufbissschiene in dieser Ausführungsform wird auch als DROS®-I Schiene bezeichnet (DROS® = Diagnostische Relaxierungs-Orientierungs-Stabilisierungs-Schiene).
  • Die DE 20 2004 020 196 U betrifft des Weiteren eine Oberkiefer-Aufbissschiene mit einem Aufnahmebereich für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite. Auf der Unterseite der Aufbissschiene erstreckt sich im Aufnahmebereich für Frontzähne ein Plateau, das im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 5° bis 25° einschließt und rückwärtig geneigt ist. Diese auch als DROS®-II Schiene bezeichnete Schiene dient dabei der Orientierung und Stabilisierung der Kiefergelenke.
  • In den letzten Jahren hat die Zahl der CMD-Erkrankungen nochmal deutlich zugenommen. Man geht davon aus, dass ca. 20% der Bevölkerung von behandlungsbedürftigen CMD-Symptomen betroffen sind. Besonders das Symptom Tinnitus wird mit einer Fehlfunktion im Kausystem (von Zähnen und Kiefergelenken) in Zusammenhang gebracht.
  • Bei diesen Patienten wird zunehmend ein sogenanntes Abrasionsgebiß beobachtet. Die Zähne werden hier immer kürzer und erscheinen abgenutzt. Das ist insbesondere im Frontzahnbereich zu beobachten. Aber häufig sind die Front- und Seitenzähne in gleicher Weise betroffen. Dieser Abrieb der Zahnsubstanz ist nicht physiologisch und kann zu Beschwerden führen. Ursachen hierfür sind Zähneknirschen und Kieferpressen (sogenannter Bruxismus) und Fehlkontakte der Zähne (sogenannte Malokklusion).
  • Die Ursachen für derartige Fehlkontakte können genetischen Ursprungs – beispielsweise die Nichtanlage von Zähnen – sein. Häufig liegen diese aber auch in einer unzureichenden zahnärztlichen, zahntechnischen oder kieferorthopädischen Behandlung. In der Folge kommt es zur massiven Verspannung der der Kau-, Kopfund Gesichtsmuskulatur mit Schmerzen und Beschwerden, die sich dann beispielsweise als Schulter- oder Rückenschmerzen zeigen können.
  • Auch Erosionsprozesse führen zu Zahnhartsubstanzverlust. Dieser beträgt in vielen Fällen mehrere Millimeter (ca. 2–8 mm). Die Folge hiervon ist eine Bissabsenkung und ein Verlust der vertikalen Dimension. Dieser Ausrichtungsverlust führt im Kiefergelenk zu einer Lageveränderung des Unterkieferkondylus nach hinten-oben (dorso-kranial) mit Kompression des Gelenks und Verkleinerung bzw. Verengung des Gelenkspaltes. Eine häufig beobachtete Folge hiervon ist die Entwicklung von Ohrenschmerzen, Ohrgeräuschen und Tinnitus, sowie Muskel-, Kiefer- und Kopfschmerzen oder auch andere CMD-Beschwerden.
  • Es ist die Aufgabe der Erfindung, eine gattungsgemäße Oberkiefer-Aufbissschiene dahingehend weiterzubilden, dass bei ihrem Einsatz auch Behandlungserfolge bei einer kiefergelenkbedingten Ohrsymptomatik, Tinnitus und anderen CMD-Beschwerden erzielt werden können.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Oberkiefer-Aufbissschiene mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Danach ist es bei einer gattungsgemäßen Oberkiefer-Aufbissschiene vorgesehen, dass beidseitig an den distalen, kieferseitigen Enden der Aufbissschiene ein zusätzlicher Dreh- und Stützpunkt angeordnet ist.
  • Gemäß der Erfindung wird auf der sogenannten DROS I Aufbissschiene parallel zum Inzisalplateau beidseits distal jeweis am letzten Backenzahnkontakt mit der Aufbissschiene ein mechanischer Dreh- und Stützpunkt (Hypomochlion) stufenweise aufgebaut, der höher als das Plateau ist. Da der Unterkiefer frei beweglich ist, kann der Gelenkkopf nun durch diesen zusätzlichen Hebel weiter nach untenvorne gelangen, wodurch sich der Gelenkspalt vergrößert, so dass die bilaminäre Zone und das Kiefergelenk dekomprimiert und entlastet werden. Der neue mechanische Dreh- und Stützpunkt wirkt hier als zusätzlicher Hebel, der eine Kraftkomponente im Geienkkopf nach unten-vorne erzeugt.
  • Die erfindungsgemäß weitergebildete DROS I Aufbissschiene wirkt somit gleichzeitig als „Relaxierungsschiene” wie auch als „Dekompressionsschiene” durch die gleichzeitig ablaufenden Wirkungsweisen „Relaxation der myogenen Strukturen” und „Dekompression des Kiefergelenks”.
  • Gemäß einer vorteilhaften Ausführungsform der Erfinding weisen die Dreh- und Stützpunkte eine Höhe von ca. 2–5 mm auf.
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn die DROS®–I Aufbissschiene derart ausgeführt ist, dass sich im eingesetzten Zustand kein Eckzahnkontakt ergibt. In diesem Fall berührt die Schiene im eingesetzten Zustand bei geschlossenem Unterkiefer nur die unteren Schneidezähne bzw. die letzten Backenzähne. Es liegt keine Eckzahnführung vor.
  • In bevorzugter Ausgestaltung der Erfindung weist der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne einen Abschnitt auf, durch den die Okklusionsebene verläuft. Der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne kann derart ausgeführt sein, dass im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene sämtliche Oberkieferzähne aufgenommen sind.
  • Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Es zeigen:
  • 1: eine Darstellung zur Verdeutlichung der Herstellung der erfindungsgemäßen Oberkiefer-Aufbissschiene nach Sperrung der Bisssituation vom ersten zentrischen Frühkontakt um 2 mm,
  • 2: eine Darstellung mit eingesetzter Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-I) gemäß dem Stand der Technik,
  • 3: eine Darstellung mit eingesetzter Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-II) gemäß dem Stand der Technik,
  • 4: eine schematische Seitenansicht der Oberkiefer-Aufbissschiene DROS®-I,
  • 5: eine schematische Seitenansicht der Oberkiefer-Aufbissschiene DROS®-II,
  • 6: eine Darstellung mit eingesetzter Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-I) gemäß der Erfindung und
  • 7: eine schematische Seitenansicht der Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-I) nach der vorliegenden Erfindung.,
  • 1 verdeutlicht die Vorgehensweise zur Herstellung der hier beschriebenen Oberkiefer-Aufbissschiene.
  • Aus der Tageszentrik wird mit einem Zentrikregistrat der erste zentrische Frühkontakt ermittelt. Dieser ist in 1 durch einen Punkt im Bereich des Pfeilendes gekennzeichnet. Vom ersten zentrischen Frühkontakt wird die Bißsituation um 2 mm gesperrt, wie dies aus 1 hervorgeht. Auf der Grundlage dieser Bißsituation wird eine erste Aufbissschiene 10 (DROS®-I) erstellt.
  • 2 zeigt die eingesetzte Schiene 10. Sie weist das Oberkiefer-Frontzahn-Schienenplateau 16 auf, das in der Bissposition nur mit den unteren Schneidezähnen 3242 Kontakt hat. Es besteht weder eine Eckzahnführung noch ein Seitenzahnkontakt.
  • Die in 2 dargestellte Oberkiefer-Aufbissschiene 10 ist in einer schematischen Ansicht in 4 dargestellt.
  • Sie weist einen von oben zugänglichen Aufnahmebereich 12 für Oberkieferzähne sowie eine Unterseite 14 auf, die im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene 10 zu den Unterkieferzähnen gerichtet ist, wie dies aus 2 hervorgeht. Auf der Unterseite 14 der Schiene 10 erstreckt sich im Frontzahnbereich ein Plateau 16, das im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene 10 mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig, d. h. nach hinten geneigt ist. Der genannte Winkelbereich sowie die fehlende Eckzahnführung und der fehlende Seitenzahnkontakt führen dazu, dass eine neuromuskuläre Relaxation des Unterkiefers, der Ober- und Unterkiefermuskulatur sowie auch der bilaminären Zone eintritt.
  • Der Aufnahmebereich 12 für Zähne des Oberkiefers umfaßt auch den Bereich 12' zur Aufnahme von Backenzähnen, der derart ausgerichtet ist, dass er in der Okklusionsebene liegt.
  • Der sich oberhalb des Aufnahmebereiches 12 anschließende Bereich 13 hat keine wesentliche Bedeutung und liegt im eingesetzten Zustand der Schiene 10 palatinal an den Zähnen an. Die Bezugszeichen 11 kennzeichnen die Stabilität der Schiene 10 erhöhende Halteklammern. Aufgrund der Halteklammern kann der Aufnahmebereich 12 weniger tief ausgeführt werden.
  • Nach einer ca. einwöchigen Behandlungsdauer (Relaxierungsphase) mit der in 4 dargestellten Schiene 10, wird diese gemäß 3 und 5 aufgebaut. Wesentlich ist ein schaukelfreier, passgenauer Sitz der Schiene 10.
  • Die 3 und 5 zeigen die zweite zu verwendende Schiene 20 (DROS®-II).
  • Die Schiene 20 weist ebenfalls ein Frontzahn-Schienenplateau 26 auf der Unterseite 24 der Schiene 20 auf, das im eingesetzten Zustand mit den Unterkiefer-Schneidezähnen in Kontakt steht. Das Plateau 26 ist gegenüber der Okklusionsebene rückwärtig in einem Winkel im Bereich zwischen 5° und 25° geneigt. Dieser Winkelbereich dient im wesentlichen der Orientierung und schließlich der Stabilisierung des Kiefergelenkes in der gewünschten Position und somit zur Behebung bzw. Linderung der eingangs erwähnten CMD.
  • Das Bezugszeichen 22 kennzeichnet den nach oben offenen Aufnahmebereich für Oberkieferzähne. Der sich oberhalb des Aufnahmebereiches 22 anschließende Bereich 23 hat keine wesentliche Bedeutung und liegt im eingesetzten Zustand der Schiene 20 palatinal an den Zähnen an. Die Bezugszeichen 21 kennzeichnen die Stabilität der Schiene 20 erhöhende Halteklammern. Aufgrund der Halteklammern kann der Aufnahmebereich 22 weniger tief ausgeführt werden.
  • Wie auch bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 4 ist ein Bereich 22' zur Aufnahme von Backenzähnen vorgesehen, der in der Okklusionsebene liegt. Wie oben ausgeführt, kann die Schiene 20 aus der Schiene 10 aufgebaut werden, so dass einige Elemente der Schienen 10, 20 identisch sind.
  • Abweichend von der Ausführungsform gemäß der 2 und 4 ist des Weiteren eine Eckzahnführung in Form eines von der Unterseite 24 nach unten ragenden Vorsprungs 28 vorgesehen, der im eingesetzten Zustand der Schiene 20 mit dem Unterkiefer-Eckzahn in Verbindung steht. Der Aufnahmebereich 22 ist derart ausgeführt, dass der Vorsprung 28 auf einer schiefen Ebene eine zur Seite (lateral) geneigte Flanke aufweist, deren Neigungswinkel im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene gegenüber der Okklusionsebene bis zu 30° beträgt.
  • Wie aus 3 ersichtlich, befindet sich bei eingesetzter Schiene 20 der Unterkiefer in maximaler „Schienen-Interkuspidation”, d. h. es liegt pro Zahn ein Kontakt durch Feinjustierung vor.
  • Die aus 3 und 5 ersichtliche Schiene 20 wird über einen mehrwöchigen Zeitraum getragen und dient wie oben ausgeführt im wesentlichen der Orientierung und schließlich der Stabilisierung des Kiefergelenkes und zur Behebung oder Linderung der CMD und somit abweichend von vorbekannten Schienen nicht nur zur Linderung der sich durch die CMD ergebenden Beschwerden.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist die in den 1 und 4 dargestellte Aufbissschiene 10 DROS I entsprechend der Darstellung in den 6 und 7 weitergebildet worden. Erfindungsgemäß ist es hier vorgesehen, dass beidseitig an den distalen, kieferseitigen Enden der Aufbissschiene ein zusätzlicher Dreh- und Stützpunkt 30 angeordnet ist. Ansonsten ist die Aufbissschiene 10 gleich augebaut wie diejenige nach den 2 und 4.
  • Gemäß der Erfindung wird auf der sogenannten DROS I Aufbissschiene 10 parallel zum Inzisalplateau 16 beidseits distal jeweis am letzten Backenzahnkontakt mit der Aufbissschiene 10 ein mechanischer Dreh- und Stützpunkt (Hypomochlion) 30 stufenweise aufgebaut (vgl. 7), der höher als das Plateau 16 ist.
  • Durch die inkursive dreidimensionale Bewegung des Unterkiefers treffen die unteren Frontzähne (4232) auf das Plateau 16 (0° > 10° – Relaxierungsphase) auf. Da der distale Anteil der Aufbissschiene ab den Zähnen 13 und 23 keinen Kontakt zu den Antagonisten hat – hier besteht ein Freiraum von ca. 2 mm – sollte der Dreh- und Stützpunkt 30 stufenweise von 2 bis 5 mm aufgebaut werden.
  • Der Dreh- und Stützpunkt 30 wirkt als Rotationszentrum und das Plateau 16 als Gleit und Führungsfläche. Es findet also eine distraktive, Rotations- und Führungs-Bewegung statt, die zu einer Verlagerung des Kondylus führt.
  • Bei einer Erhöhung des Dreh- und Stützpunktes 30 wäre die Linie vom Plateau 16 zum Dreh- und Stützpunkt um 0° geneigt. Beim weiteren Aufbau des Dreh- und Stützpunkt 30 um weitere 2–3 mm findet eine stufenweise Distraktion statt.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 202004020196 U [0005, 0008]

Claims (5)

  1. Oberkiefer-Aufbissschiene (10) mit einem Aufnahmebereich (12) für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite (14), wobei sich auf der Unterseite (14) der Aufbißschiene (10) im Frontzahnbereich ein Plateau (16) erstreckt und wobei der Aufnahmebereich (12) derart ausgeführt ist, dass das Plateau (16) im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig geneigt ist, dadurch gekennzeichnet, dass beidseitig an den distalen, kieferseitigen Enden der Aufbissschiene (10) jeweils auf jeder Seite an der Aufbissschiene (10) ein zusätzlicher Dreh- und Stützpunkt (30) angeordnet ist.
  2. Oberkiefer-Aufbissschiene (10) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Dreh- und Stützpunkte eine Stärke von ca. 2–5 mm aufweisen.
  3. Oberkiefer-Aufbissschiene (10) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schiene (10) derart ausgeführt ist, dass sich im eingesetzten Zustand der Schiene (10) keine Eckzahnführung ergibt.
  4. Oberkiefer-Aufbissschiene (10, 20) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Aufnahmebereich (12, 22) für Oberkieferzähne einen Abschnitt (12', 22') aufweist, der in der Okklusionsebene liegt.
  5. Oberkiefer-Aufbissschiene (10, 20) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Aufnahmebereich (12, 22) für Oberkieferzähne derart ausgeführt ist, dass im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10, 20) sämtliche Oberkieferzähne aufgenommen sind.
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