DE202004020196U1 - Oberkiefer-Aufbißschiene - Google Patents

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Abstract

Oberkiefer-Aufbissschiene (10) mit einem Aufnahmebereich (12) für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite (14), dadurch gekennzeichnet, dass sich auf der Unterseite (14) der Aufbißschiene (10) im Frontzahnbereich ein Plateau (16) erstreckt und dass der Aufnahmebereich (12) derart ausgeführt ist, dass das Plateau (16) im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig geneigt ist.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Oberkiefer-Aufbissschiene mit einem Aufnahmebereich für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite.
  • Untersuchungen haben gezeigt, dass ein erheblicher Anteil der Bevölkerung Symptome einer Craniomandibulären-Dysfunktion (Cranium = Schädel; Mandibula = Unterkiefer) aufweisen, die im Folgenden als CMD bezeichnet wird. Dabei handelt es sich um eine Fehlfunktion im Zusammenspiel von Ober- und Unterkiefer, bedingt durch Störungen in der Funktion der Zähne, der Kiefergelenke und der Kiefermuskulatur. Zu der Symptomliste der CMD gehört unter anderem das nächtliche Pressen und Knirschen der Zähne, das zu erheblichen Zahnabrasionen führen kann, sowie Kopfschmerzen, Ohrschmerzen und Ohrgeräusche (Tinnitus), die ebenfalls zu einem erheblichen Anteil ihre Ursache in einer CMD haben.
  • Die derzeit übliche zahnärztliche Behandlung der CMD umfaßt unter anderem Einschleifmaßnahmen der Zähne sowie eine Therapie mittels einer Aufbissschiene. Derzeit bekannte Aufbissschienen lindern zwar die aufgrund des Pressens und Knirschens bedingten Symptome, beheben jedoch nicht deren Ursache, so dass ein langfristiger Heilerfolg nicht erzielt werden kann.
  • Es ist die Aufgabe der Erfindung eine Oberkiefer-Aufbissschiene der eingangs genannten Art dahingehend weiterzubilden, dass eine physiologische Zentrik der Kiefergelenke (CR-Position) herstellbar ist.
  • Diese Aufgabe wird durch eine Oberkiefer-Aufbissschiene mit den Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst. Danach ist vorgesehen, dass sich auf der Unterseite der Aufbissschiene im Aufnahmebereich für Frontzähne ein Plateau erstreckt, das im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig geneigt ist. Das heißt der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne ist derart ausgeführt, dass sich im eingesetzten Zustand der Schiene der angegebene Winkel ergibt. Bei dem Plateau handelt es sich um ein Frontzahn-Schienen-Plateau, auf das die entsprechenden Frontzähne des Unterkiefers im eingesetzten Zustand der Schiene aufsetzen. Unter „rückwärtiger Neigung" des Plateaus ist eine im eingesetzten Zustand nach hinten (distal) gerichtete Neigung zu verstehen.
  • Eine derartige Aufbissschiene wird in einer ersten, ca. eine Woche andauernden Phase der Behandlung eingesetzt und dient im wesentlichen zur Relaxierung des Kiefergelenkes und der Kiefermuskulatur sowie auch zu einer Entlastung der sich im Bereich des Kiefergelenkes befindlichen bilaminären Zone. Der genannte Winkel des Plateaus wird je nach Fehlposition des Kiefergelenkes in einem Winkel im Bereich zwischen 0° und 10° gewählt.
  • Die Oberkiefer-Aufbissschiene in der Ausführungsform gemäß Anspruch 1 wird auch als DROS®-I Schiene bezeichnet (DROS® = Diagnostische Relaxierungs-Orientierungs-Stabilisieruns-Schiene).
  • Besonders vorteilhaft ist es, wenn die Schiene derart ausgeführt ist, dass sich im eingesetzten Zustand kein Eckzahn- oder Seitenzahnkontakt ergibt. In diesem Fall berührt die Schiene im eingesetzten Zustand bei geschlossenem Unterkiefer nur die unteren Schneidezähne. Es liegt weder eine Eckzahnführung noch ein Seitenzahnkontakt vor.
  • Die Erfindung betrifft des Weiteren eine Oberkiefer-Aufbissschiene mit einem Aufnahmebereich für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite. Auf der Unterseite der Aufbissschiene erstreckt sich im Aufnahmebereich für Frontzähne ein Plateau, das im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 5° und 30° oder 5° bis 25° einschließt und rückwärtig geneigt ist. Diese auch als DROS®-II Schiene bezeichnete Schiene dient der Orientierung und Stabilisierung der Kiefergelenke.
  • Sie kann beispielsweise aus der oben genannten Schiene gemäß Anspruch 1 aufgebaut werden. Die Schiene gemäß Anspruch 3 weist ein Frontzahn-Schienenplateau auf, das im eingesetzten Zustand der Schiene gegenüber der Okklusionsebene um einen Winkel im Bereich von 5° bis 30° rückwärtig, d. h. nach hinten hin geneigt ist.
  • Abweichend von der Aufbissschiene DROS®-I gemäß Anspruch 1 ist bei der DROS®-II Schiene in einer weiteren Ausgestaltung vorgesehen, dass in einem oder beiden Eckzahnbereichen ein nach unten ragender Vorsprung vorgesehen ist, der auf einer schiefen Ebene eine zur Seite (lateral) geneigte Flanke aufweist, deren Neigungswinkel im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene gegenüber der Okklusionsebene bis zu 30° beträgt. Der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne ist in dieser Ausgestaltung der Erfindung somit derart angeordnet, dass sich im eingesetzten Zustand der genannte Neigungswinkel relativ zu der Okklusionsebene ergibt. Dadurch ergibt sich bei eingesetzter Schiene eine entsprechende Eckzahnführung, durch die sich ein Winkel von bis zu 30° durch die Eckzahnführung (Lateralbewegung Arbeitsseite) ergibt. Dadurch wird die Nichtarbeitsseite – Balanceseite entlastet.
  • In weiterer Ausgestaltung der Schiene (DROS®-II) ist vorgesehen, dass die Schiene derart ausgeführt ist, dass sich im eingesetzten Zustand pro Unterkieferzahn ein Schienenkontakt ergibt. Somit liegt eine maximale „Schienen-Interkuspidation" vor.
  • In bevorzugter Ausgestaltung der Erfindung weist der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne einen Abschnitt auf, durch den die Okklusionsebene verläuft. Der Aufnahmebereich für Oberkieferzähne kann derart ausgeführt sein, dass im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene sämtliche Oberkieferzähne aufgenommen sind.
  • Weitere Einzelheiten und Vorteile der Erfindung werden anhand eines in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiels näher erläutert. Es zeigen:
  • 1: eine Darstellung zur Verdeutlichung der Herstellung der erfindungsgemäßen Oberkiefer-Aufbissschiene nach Sperrung der Bisssituation vom ersten zentrischen Frühkontakt um 2 mm,
  • 2: eine Darstellung mit eingesetzter Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-I) gemäß der ersten Ausführungsform,
  • 3: eine Darstellung mit eingesetzter Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-II) gemäß einer zweiten Ausführungsform,
  • 4: eine schematische Seitenansicht der Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-I) in der ersten Ausführungsform und
  • 5: eine schematische Seitenansicht der Oberkiefer-Aufbissschiene (DROS®-II) in der zweiten Ausführungsform.
  • 1 verdeutlicht die Vorgehensweise zur Herstellung der erfindungsgemäßen Oberkiefer-Aufbissschiene.
  • Aus der Tageszentrik wird mit einem Zentrikregistrat der erste zentrische Frühkontakt ermittelt. Dieser ist in 1 durch einen Punkt im Bereich des Pfeilendes gekennzeichnet. Vom ersten zentrischen Frühkontakt wird die Bißsituation um 2 mm gesperrt, wie dies aus 1 hervorgeht. Auf der Grundlage dieser Bißsituation wird die erfindungsgemäße Aufbissschiene 10 in einer ersten Ausführungsform (DROS®-I) erstellt.
  • 2 zeigt die eingesetzte Schiene 10. Sie weist das Oberkiefer-Frontzahn-Schienenplateau 16 auf, das in der Bissposition nur mit den unteren Schneidezähnen 32–42 Kontakt hat. Es besteht weder eine Eckzahnführung noch ein Seitenzahnkontakt.
  • Die in 2 dargestellte Oberkiefer-Aufbissschiene 10 ist in einer schematischen Ansicht in 4 dargestellt.
  • Sie weist einen von oben zugänglichen Aufnahmebereich 12 für Oberkieferzähne sowie eine Unterseite 14 auf, die im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene 10 zu den Unterkieferzähnen gerichtet ist, wie dies aus 2 hervorgeht. Auf der Unterseite 14 der Schiene 10 erstreckt sich im Frontzahnbereich ein Plateau 16, das im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene 10 mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig, d.h. nach hinten geneigt ist. Der genannte Winkelbereich sowie die fehlende Eckzahnführung und der fehlende Seitenzahnkontakt führen dazu, dass eine neuromuskuläre Relaxation des Unterkiefergelenkes, der Ober- und Unterkiefermuskulatur sowie auch der bilaminären Zone eintritt.
  • Der Aufnahmebereich 12 für Zähne des Oberkiefers umfaßt auch den Bereich 12' zur Aufnahme von Backenzähnen, der derart ausgerichtet ist, dass er in der Okklusionsebene liegt.
  • Der sich oberhalb des Aufnahmebereiches 12 anschließende Bereich 13 hat keine wesentliche Bedeutung und liegt im eingesetzten Zustand der Schiene 10 palatinal an den Zähnen an. Die Bezugszeichen 11 kennzeichnen die Stabilität der Schiene 10 erhöhende Halteklammern. Aufgrund der Halteklammern kann der Aufnahmebereich 12 weniger tief ausgeführt werden.
  • Nach einer ca. einwöchigen Behandlungsdauer (Relaxierungsphase) mit der in 4 dargestellten Schiene 10, wird diese gemäß 3 und 5 aufgebaut. Wesentlich ist ein schaukelfreier, passgenauer Sitz der Schiene 10.
  • Die 3 und 5 zeigen die Schiene 20 in der zweiten erfindungsgemäßen Ausführungsform (DROS®-II).
  • Die Schiene 20 weist ebenfalls ein Frontzahn-Schienenplateau 26 auf der Unterseite 24 der Schiene 20 auf, das im eingesetzten Zustand mit den Unterkiefer-Schneidezähnen in Kontakt steht. Das Plateau 26 ist gegenüber der Okklusionsebene rückwärtig in einem Winkel im Bereich zwischen 5° und 30° geneigt. Dieser Winkelbereich dient im wesentlichen der Orientierung und schließlich der Stabilisierung des Kiefergelenkes in der gewünschten Position und somit zur Behebung bzw. Linderung der eingangs erwähnten CMD.
  • Das Bezugszeichen 22 kennzeichnet den nach oben offenen Aufnahmebereich für Oberkieferzähne. Der sich oberhalb des Aufnahmebereiches 22 anschließende Bereich 23 hat keine wesentliche Bedeutung und liegt im eingesetzten Zustand der Schiene 20 palatinal an den Zähnen an. Die Bezugszeichen 21 kennzeichnen die Stabilität der Schiene 20 erhöhende Halteklammern. Aufgrund der Halteklammern kann der Aufnahmebereich 22 weniger tief ausgeführt werden.
  • Wie auch bei dem Ausführungsbeispiel gemäß 4 ist ein Bereich 22' zur Aufnahme von Backenzähnen vorgesehen, der in der Okklusionsebene liegt. Wie oben ausgeführt, kann die Schiene 20 aus der Schiene 10 aufgebaut werden, so dass einige Elemente der Schienen 10, 20 identisch sind.
  • Abweichend von der Ausführungsform gemäß der 2 und 4 ist des Weiteren eine Eckzahnführung in Form eines von der Unterseite 24 nach unten ragenden Vorsprungs 28 vorgesehen, der im eingesetzten Zustand der Schiene 20 mit dem Unterkiefer-Eckzahn in Verbindung steht. Der Aufnahmebereich 22 ist derart ausgeführt, dass der Vorsprung 28 auf einer schiefen Ebene eine zur Seite (lateral) geneigte Flanke aufweist, deren Neigungswinkel im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene gegenüber der Okklusionsebene bis zu 30° beträgt.
  • Wie aus 3 ersichtlich, befindet sich bei eingesetzter Schiene 20 der Unterkiefer in maximaler „Schienen-Interkuspidation", d.h. es liegt pro Zahn ein Kontakt durch Feinjustierung vor.
  • Die aus 3 und 5 ersichtliche Schiene 20 wird über einen mehrwöchigen Zeitraum getragen und dient wie oben ausgeführt im wesentlichen der Orientierung und schließlich der Stabilisierung des Kiefergelenkes und zur Behebung oder Linderung der CMD und somit abweichend von vorbekannten Schienen nicht nur zur Linderung der sich durch die CMD ergebenden Beschwerden.

Claims (7)

  1. Oberkiefer-Aufbissschiene (10) mit einem Aufnahmebereich (12) für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite (14), dadurch gekennzeichnet, dass sich auf der Unterseite (14) der Aufbißschiene (10) im Frontzahnbereich ein Plateau (16) erstreckt und dass der Aufnahmebereich (12) derart ausgeführt ist, dass das Plateau (16) im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10) mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 0° und 10° einschließt und bei einem Winkel > 0° rückwärtig geneigt ist.
  2. Oberkiefer-Aufbissschiene (10) nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Schiene (10) derart ausgeführt ist, dass sich im eingesetzten Zustand der Schiene (10) keine Eckzahnführung und kein Seitenzahnkontakt ergibt.
  3. Oberkiefer-Aufbissschiene (20) mit einem Aufnahmebereich (22) für Oberkieferzähne sowie mit einer im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (20) zu den Unterkieferzähnen gerichteten Unterseite (24), dadurch gekennzeichnet, dass sich auf der Unterseite (24) der Aufbissschiene (20) im Frontzahnbereich ein Plateau (26) erstreckt und dass der Aufnahmebereich (22) derart ausgeführt ist, dass das Plateau (26) im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (20) mit der Okklusionsebene einen Winkel im Bereich von 5 ° und 30° einschließt und rückwärtig geneigt ist.
  4. Oberkiefer-Aufbissschiene (20) nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass in einem oder vorzugsweise beiden Eckzahnbereichen ein nach unten ragender Vorsprung (28) vorgesehen ist, der auf einer schiefen Ebene eine zur Seite (lateral) geneigte Flanke aufweist, deren Neigungswinkel im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene gegenüber der Okklusionsebene bis zu 30° beträgt.
  5. Oberkiefer-Aufbissschiene (20) nach Anspruch 3 oder 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Schiene (20) derart ausgeführt ist, dass sich im eingesetzten Zustand pro Unterkieferzahn ein Schienenkontakt ergibt.
  6. Oberkiefer-Aufbissschiene (10, 20) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Aufnahmebereich (12, 22) für Oberkieferzähne einen Abschnitt (12', 22') aufweist, der in der Okklusionsebene liegt.
  7. Oberkiefer-Aufbissschiene (10, 20) nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Aufnahmebereich (12, 22) für Oberkieferzähne derart ausgeführt ist, dass im eingesetzten Zustand der Aufbissschiene (10, 20) sämtliche Oberkieferzähne aufgenommen sind.
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