DE202011106761U1

DE202011106761U1 - Vakuum-Substratbehandlungsanlage

Info

Publication number: DE202011106761U1
Application number: DE201120106761
Authority: DE
Original assignee: Von Ardenne Anlagentechnik GmbH
Current assignee: Von Ardenne Asset GmbH and Co KG
Priority date: 2011-10-14
Filing date: 2011-10-14
Publication date: 2012-01-12
Anticipated expiration: 2021-10-15

Abstract

Horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage, umfassend mindestens eine Eingangsschleuse, mindestens eine Ausgangsschleuse sowie zwischen Eingangsschleuse und Ausgangsschleuse mindestens eine Beschichtungskammer mit mindestens einer Beschichtungseinrichtung und eine Transporteinrichtung, die sich im Innern der Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage von der Eingangsschleuse bis zur Ausgangsschleuse erstreckt und zum Transport plattenförmiger Substrate in horizontaler Lage ausgebildet ist, wobei an mindestens einer Stelle des durch die Transporteinrichtung definierten Transportwegs der Substrate oberhalb der Transporteinrichtung eine horizontale Wand (18) angeordnet ist, die eine obere Begrenzung eines Gasseparationstunnels bildet und die von an der Kammerwand (1, 2) angeordneten Konsolen (8) abgestützt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Konsolen (8) an der Kammerwand (1, 2) fest angebracht sind und zwischen den Konsolen (8) und der horizontalen Wand (18) auswechselbare Abstandhalter (11) angeordnet sind.

Description

Die Erfindung betrifft eine Vakuum-Substratbehandlungsanlage, beispielsweise eine Beschichtungsanlage für plattenförmige Substrate wie Glasscheiben oder dergleichen, bei der die Substrate im Durchlaufverfahren, d. h. von Atmosphäre zu Atmosphäre, in horizontaler Lage auf einer Transporteinrichtung liegend an mindestens einer Beschichtungseinrichtung vorbei transportiert und dabei beschichtet werden.
In solchen Anlagen ist es bekannt, zwischen verschiedenen Abschnitten, beispielsweise zwischen einer Schleuse und einer Beschichtungskammer, zwischen einer Pumpkammer und einer Beschichtungskammer, zwischen einer Pumpkammer und einer Transferkammer usw., sogenannte Gasseparationstunnel vorzusehen, die dazu dienen, den Querschnitt zu verringern, der dem Transport der Substrate dient, gleichzeitig aber dazu führen kann, dass Gasmoleküle zwischen den verschiedenen Abschnitten der Anlage verschleppt werden.
Solche Gasseparationstunnel werden üblicherweise dadurch gebildet, dass innerhalb einer Anlagenkammer eine horizontale Wand mit möglichst geringem Abstand zu der Transporteinrichtung oberhalb derselben angeordnet wird. Um diesen Abstand an verschiedene Substratdicken anpassen zu können oder einem größeren Bauraum, beispielsweise zur Anbringung von Messgeräten oder dergleichen, Rechnung zu tragen, ist es weiter bekannt, an Kammerwänden der Anlagenkammer Konsolen anzubringen, die senkrechte Langlöcher aufweisen, so dass die Konsolen in verschiedenen Höhen über der Transporteinrichtung, d. h. mit variablem Abstand von der Substrattransportebene, anbringbar sind.
Hierbei hat sich jedoch gezeigt, dass die exakte Einstellung eines gewünschten Abstands schwierig zu bewerkstelligen ist, weil die Langlöcher zwar einerseits eine stufenlose Höhenverstellung erlauben, andererseits jedoch gerade dadurch bei den Einstellarbeiten zum Verrutschen neigen, so dass die Einstallarbeiten mühsam und zeitaufwendig sind. Eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung besteht darin, dieses Problem zu lösen.
Dazu wird eine horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage vorgeschlagen, umfassend mindestens eine Eingangsschleuse, mindestens eine Ausgangsschleuse sowie zwischen Eingangsschleuse und Ausgangsschleuse mindestens eine Beschichtungskammer mit mindestens einer Beschichtungseinrichtung und eine Transporteinrichtung, die sich im Innern der Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage von der Eingangsschleuse bis zur Ausgangsschleuse erstreckt und zum Transport plattenförmiger Substrate in horizontaler Lage ausgebildet ist, wobei an mindestens einer Stelle des durch die Transporteinrichtung definierten Transportwegs der Substrate oberhalb der Transporteinrichtung eine horizontale Wand angeordnet ist, die eine obere Begrenzung eines Gasseparationstunnels bildet und die von an der Kammerwand angeordneten Konsolen abgestützt ist, wobei die Konsolen an der Kammerwand fest angebracht sind und zwischen den Konsolen und der horizontalen Wand auswechselbare Abstandhalter angeordnet sind.
Die an der Kammerwand fest angeordneten Konsolen ersetzen in dieser einfachsten Ausgestaltung der Erfindung die bekannten höhenverstellbaren Konsolen und stützen damit, über die an oder auf ihnen angeordneten Abstandhalter, die horizontale Wand in einer definierten Höhe. Aufwendige Einstellarbeiten können entfallen, indem die Abstandhalter entsprechend des gewünschten Abstands der horizontalen Wand zur Transporteinrichtung gestaltet werden.
In einer Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Abstandhalter stiftförmig sind und die fest angeordneten Konsolen Bohrungen aufweisen, in die die Abstandhalter einsteckbar sind. Dadurch wird ein Verrutschen oder Herausfallen der Abstandhalter sicher verhindert. Weist die fest angeordnete Konsole beispielsweise eine Sackbohrung auf, so stützt sich der Abstandhalter auf dem Boden der Sackbohrung ab. Verschieden lange Abstandhalter können verwendet werden, um verschiedene Höhen der horizontalen Wand zu realisieren.
In einer weiteren Ausgestaltung ist vorgesehen, dass die Abstandhalter zwischen ihren beiden Enden einen Bund aufweisen und die beiden Enden, jeweils vom Bund aus gemessen, unterschiedlich lang sind. Der Bund dient dazu, den Abstandhalter am Rand der Bohrung abzustützen. Dabei sind mit einem Abstandhalter wahlweise zwei verschiedene Höhen der horizontalen Wand einstellbar, indem im ersten Fall der Abstandhalter mit dem kürzeren Ende in die Bohrung gesteckt wird und das längere Ende sich auf die horizontale Wand zu erstreckt (großer Abstand) und im zweiten Fall der Abstandhalter mit dem längeren Ende in die Bohrung gesteckt wird und das kürzere Ende sich auf die horizontale Wand zu erstreckt (kleiner Abstand).
Eine andere Ausgestaltung sieht vor, dass an der Kammerwand höhenverstellbare Zusatzkonsolen angebracht sind, auf denen die horizontale Wand aufliegt, und die Abstandhalter zwischen den fest angebrachten Konsolen und den höhenverstellbaren Zusatzkonsolen angeordnet sind.
Hierbei können die Zusatzkonsolen beispielsweise so ausgeführt sein, wie dies bei den einzigen Konsolen bekannter Anlagen, die in der Beschreibungseinleitung beschrieben wurden, der Fall ist, d. h. sie können beispielsweise senkrechte Langlöcher aufweisen, die zur höhenverstellbaren Anbringung an einer Kammerwand dienen.
In diesem Fall sind die Abstandhalter zwischen den festen Konsolen und den höhenverstellbaren Konsolen angeordnet, die ihrerseits direkten Kontakt zur horizontalen Wand haben und diese abstützen. Dadurch, dass hierbei die horizontale Wand nicht nur durch einzelne Abstandhalter, sondern durch Zusatzkonsolen entlang ihres Randes abgestützt wird, kann die horizontale Wand mit geringerer Steifigkeit ausgeführt sein, als wenn die horizontale Wand direkt auf den Abstandhaltern aufliegt. Die Abstandhalter dienen dabei als Lehre für die einzustellende Höhe der Zusatzkonsolen.
Nachfolgend wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels und einer zugehörigen Zeichnung näher erläutert. Dabei zeigt die einzige 1 einen Teillängsschnitt durch eine horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage mit einem Gasseparationstunnel.
Eine Anlagenkammer ist begrenzt von seitlichen und unteren äußeren Kammerwänden 1 und nach oben durch einen Kammerdeckel 4, der auf Flanschen 3 aufliegt, verschlossen. An beiden Enden wird die Kammer durch quer zur Transportrichtung der Substrate angeordnete innere Kammerwände 2 begrenzt, die jeweils eine Transferöffnung für den Transport der Substrate durch die inneren Kammerwände 2 hindurch aufweisen.
In der Kammer ist eine Transporteinrichtung mit mehreren horizontalen Transportwalzen 5 angeordnet, auf denen die Substrate liegend durch die Anlage bewegt werden. Zwischen den Transportwalzen 6 sind untere Gasseparationselemente 7 statisch angeordnet, welche die untere Begrenzung des Gasseparationstunnels bilden, um den Querschnitt des Gasseparationstunnels möglichst gering zu halten. Über den Transportwalzen 6 ist eine horizontale Wand 18 angeordnet, welche als oberes Gasseparationselement die obere Begrenzung des Gasseparationstunnels bildet.
Unterhalb der Transferöffnung 5 jeder inneren Kammerwand 2 ist jeweils eine feste Konsole 8 in Form eines Winkelprofils angeordnet, das mittels Schrauben 9 an der inneren Kammerwand 2 befestigt ist. Die festen Konsolen 8 weisen Bohrungen 10 auf, in die Abstandhalter 11 eingesteckt sind.
Jeder Abstandhalter 11 weist einen Bund 12 sowie beidseitig vom Bund 12 ein längeres Ende 13 und ein kürzeres Ende 14 auf.
Die horizontale Wand 18 liegt auf höhenverstellbaren Zusatzkonsolen 15, die senkrechte Langlöcher 17 aufweisen. Durch diese Langlöcher sind die höhenverstellbaren Zusatzkonsolen 15 mittels Schrauben 16 an der jeweiligen inneren Kammerwand 2 befestigt.
Die Höhe der Zusatzkonsole 15 gegenüber der festen Konsole 8 und damit gegenüber der Transporteinrichtung wird durch die Gestaltung der Abstandhalter 11 bestimmt.
Es versteht sich von selbst, dass in gleicher Weise feste Konsolen 8 und höhenverstellbare Zusatzkonsolen 15 der beschriebenen Art auch an den äußeren Kammerwänden 1 angeordnet sein können, um die horizontale Wand 18 rundum abzustützen.
Bezugszeichenliste

1: äußere Kammerwand
2: innere Kammerwand
3: Flansch
4: Kammerdeckel
5: Transferöffnung
6: Transportwalze
7: unteres Gasseparationselement
8: feste Konsole
9: Schraube
10: Bohrung
11: Abstandhalter
12: Bund
13: längeres Ende
14: kürzeres Ende
15: höhenverstellbare Zusatzkonsole
16: Schraube
17: Langloch
18: horizontale Wand, oberes Gasseparationselement

Claims

Horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage, umfassend mindestens eine Eingangsschleuse, mindestens eine Ausgangsschleuse sowie zwischen Eingangsschleuse und Ausgangsschleuse mindestens eine Beschichtungskammer mit mindestens einer Beschichtungseinrichtung und eine Transporteinrichtung, die sich im Innern der Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage von der Eingangsschleuse bis zur Ausgangsschleuse erstreckt und zum Transport plattenförmiger Substrate in horizontaler Lage ausgebildet ist, wobei an mindestens einer Stelle des durch die Transporteinrichtung definierten Transportwegs der Substrate oberhalb der Transporteinrichtung eine horizontale Wand (18) angeordnet ist, die eine obere Begrenzung eines Gasseparationstunnels bildet und die von an der Kammerwand (1, 2) angeordneten Konsolen (8) abgestützt ist, dadurch gekennzeichnet, dass die Konsolen (8) an der Kammerwand (1, 2) fest angebracht sind und zwischen den Konsolen (8) und der horizontalen Wand (18) auswechselbare Abstandhalter (11) angeordnet sind.
Horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstandhalter (11) stiftförmig sind und die Zusatzkonsolen (15) Bohrungen (10) aufweisen, in die die Abstandhalter (11) einsteckbar sind.
Horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Abstandhalter (11) zwischen ihren beiden Enden (13, 14) einen Bund (12) aufweisen und die beiden Enden (13, 14), jeweils vom Bund (12) aus gemessen, unterschiedlich lang sind.
Horizontale Vakuum-Durchlaufbeschichtungsanlage nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass an der Kammerwand (1,2) höhenverstellbare Zusatzkonsolen (15) angebracht sind, auf denen die horizontale Wand (18) aufliegt, und die Abstandhalter (11) zwischen den fest angebrachten Konsolen (8) und den höhenverstellbaren Zusatzkonsolen (15) angeordnet sind.