DE19943102C2 - Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen - Google Patents

Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen

Info

Publication number
DE19943102C2
DE19943102C2 DE1999143102 DE19943102A DE19943102C2 DE 19943102 C2 DE19943102 C2 DE 19943102C2 DE 1999143102 DE1999143102 DE 1999143102 DE 19943102 A DE19943102 A DE 19943102A DE 19943102 C2 DE19943102 C2 DE 19943102C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
bis
radicals
carbon atoms
platinum
different
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE1999143102
Other languages
English (en)
Other versions
DE19943102A1 (de
Inventor
Armin Fehn
Frank Achenbach
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Wacker Chemie AG
Original Assignee
Wacker Chemie AG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Wacker Chemie AG filed Critical Wacker Chemie AG
Priority to DE1999143102 priority Critical patent/DE19943102C2/de
Publication of DE19943102A1 publication Critical patent/DE19943102A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19943102C2 publication Critical patent/DE19943102C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F15/00—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table
    • C07F15/0006—Compounds containing elements of Groups 8, 9, 10 or 18 of the Periodic Table compounds of the platinum group
    • C07F15/0086—Platinum compounds
    • C07F15/0093—Platinum compounds without a metal-carbon linkage

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Catalysts (AREA)

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft die Herstellung von Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin-Komplexen.
Verfahren zur Darstellung von Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin- Komplexen sind bereits bekannt. Allerdings weisen die bekannten Synthesewege meist gravierende Nachteile auf, da entweder ge­ ringe Ausbeuten, toxikologisch bedenkliche Lösungsmittel und/oder komplizierte Syntheseschritte beschrieben werden; zu­ sätzlich müssen die Reaktionsprodukte i. a. in einem weiteren Schritt durch Säulenchromatographie oder Umkristallisation ge­ reinigt werden. So wird z. B. von Collamati I. und Furlani, A. in J. Organometal. Chem. 17, 1969, 457-461 die Synthese von Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin-Komplexe ausgehend von Natrium in flüssigem Ammoniak beschrieben. Das entstehende Reaktions­ produkt wird zuerst mit Methanol aus Chloroform gefällt und an­ schließend aus Benzol umkristallisiert. Das Arbeiten mit Natri­ um in flüssigem Ammoniak wie auch mit Chloroform und Benzol ist jeweils nur mit großem Sicherheitsaufwand möglich, da die Stof­ fe sehr toxisch sind. Von Furlani, A. et al. wird in J. Organo­ met. Chem. 29, 1971, 321-327 die Synthese von Bis(alkinyl)bis- (phosphan)platin-Komplexe durch Umsetzung von Bis(phosphan)pla­ tindichlorid mit dem Alkin in Chlorofrom beschrieben. Hierbei liegen die Ausbeuten allerdings nur zwischen 25-31% und als Lö­ sungsmittel wurde wiederum das toxikologisch bedenkliche Chlo­ roform verwendet. Des Weiteren wird von Furlani, A. et al. in J. Organomet. Chem. 116, 1976, 113-122 die Synthese von Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin-Komplexe durch Umsetzung von Bis(phosphan)platin(alkin) mit weiterem Alkin beschrieben. Hier muß allerings in einem weiteren Schritt zunächst Bis(phosphan)- platin(alkin) synthetisiert werden, außerdem liegen die Ausbeu­ ten nur bei ca. 50%. Wiederum Furlani, A. et al. berichtete in J. Orgonmet. Chem. 165, 1979, 101-105 die Synthese von Bis(al­ kinyl)bis(phosphan)platin-Komplexe ausgehend von Bis(phosphan)- platindichlorid, Cu(I)J und Alkin in Dimethylamin. Hierbei wird das Zielprodukt in guten Ausbeuten erhalten, wobei allerdings in eim weiterem Schritt die Reinigung des Komplexes notwendig ist, um das Produkt von noch vorhandenem Kupfer-Katalysator und sonstigen Verunreinigungen zu befreien. Dazu ist wiederum Ben­ zol oder Chloroform nötig. Ebenso ist die Verwendung von sekun­ dären Aminen nicht unbedenklich, da diese zu stabilen sehr gif­ tigen Nitrosaminen abreagieren können.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Herstellung von Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin-Komplexen (C), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus
(PR1 3)2Pt(-C∼C-R2)2 (I),
(R1 2P-R3-PR1 2)Pt(-C∼C-R2)2 (II)
und
H-C∼C-R4-C∼C-[-Pt(PR1 3)2-C∼C-R4-C∼C-]e-H (III),
wobei
R1 gleich oder verschieden sein kann und einwertige, gegebe­ nenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen, Halogenatome, Wasserstoffatom, Hydroxy­ reste, -CN oder -SCN bedeutet, die entweder direkt oder über Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel an Phosphor ge­ bunden sind,
R2 gleiche oder verschiedene einwertige, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlen­ stoffatomen oder -SiR7 3,
R3 gleiche oder verschiedene zweiwertige, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 14 Kohlenstoff­ atomen,
R4 gleiche oder verschiedene zweiwertige, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlen­ stoffatomen sowie zweiwertige Silyl- oder Siloxanylreste,
R7 gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoff, Halo­ genatom, -OR6, wobei R6 gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoffatom oder einen einwertigen Kohlenwasser­ stoffrest mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutet, oder einwertige, gegebenenfalls substituierte Kohlenwasser­ stoffreste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen und
e eine ganze Zahl größer oder gleich 1 bedeutet,
durch Umsetzung von Bis(phosphan)platindihalogenid (A), ausge­ wählt aus der Gruppe bestehend aus
(PR1 3)2Pt(R5)2 (IV),
und
(R1 2P-R3-PR1 2)Pt(R5)2 (V)
wobei
R1 und R3 die obengenannte Bedeutung haben und
R5 gleich oder verschieden ist und Halogenatom, wie Fluor, Chlor, Brom oder Iod, bedeutet,
mit
Alkin (B), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus
H-C∼C-R2 (VI),
und
H-C∼C-R4-C∼C-H (VII),
wobei
R2 und R4 die obenstehenden Bedeutungen haben,
in Gegenwart von Amin (D), Alkohol (E) und von Kupfer(I)iodid (F).
Falls es sich bei den Resten R1, R2, R3, R4, R8 und R9 um substi­ tuierte Kohlenwasserstoffreste handelt, sind als Substituenten Halogenatome, wie F, Cl, Br und J, Cyanoreste, -SiR7 3 sowie Gruppen -OR6 bevorzugt, wobei R6 die oben genannte Bedeutung hat. Falls es sich beim Rest R6 um einen substituierten Kohlen­ wasserstoffrest handelt, sind als Substituenten Halogenatome wie F, Cl, Br und J, Cyanoreste sowie Aminoreste bevorzugt.
Das im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte Edukt (A) kann als cis- und/oder trans-Isomer vorliegen, wobei beide Isomere Bestandteil der vorliegenden Erfindung sein sollen.
Beispiele für Kohlenwasserstoffreste R1 sind Alkylreste, wie der Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, iso-Propyl-, 1-n-Butyl-, 2-n- Butyl-, iso-Butyl-, tert.-Butyl-, n-Pentyl-, iso-Pentyl, neo- Pentyl-, tert.-Pentylrest, Hexylreste, wie der n-Hexylrest, Heptylreste, wie der n-Heptylrest, Octylreste, wie der n- Octylrest und iso-Octylreste, wie der 2,2,4-Trimethylpentyl­ rest, Nonylreste, wie der n-Nonylrest, Decylreste, wie der n- Decylrest, Cycloalkylreste, wie Cyclopropyl-, Cyclopentyl-, Cy­ clohexyl-, Cycloheptylreste und Methylcyclohexylreste, ungesättigte Reste, wie der Allyl-, 5-Hexenyl-, 7-Octenyl-, Cyclohexe­ nyl- und Styrylrest, Arylreste, wie Phenylreste, o-, m-, p- Tolylreste, Xylylreste und Ethylphenylreste und Aralkylreste, wie der Benzylrest und der α- und β-Phenylethylrest.
Beispiele für halogenierte Reste R1 sind Halogenalkylreste, wie der 3,3,3-Trifluor-n-propylrest, der 2,2,2,2',2',2'-Hexafluor­ isopropylrest, der Heptafluorisopropylrest und Halogenarylre­ ste, wie der o-, m-, und p-Chlorphenylrest.
Bevorzugt handelt es sich bei Rest R1 um Aryl- und Alkylreste mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, wobei Methyl-, Ethyl-, Butyl-, Cyclohexyl-, Tolyl-, Xylyl- und Phenylreste besonders bevorzugt sind.
Bevorzugt handelt es sich bei Rest R3 um zweiwertige Kohlenwas­ serstoffreste mit 1 bis 12 Kohlenstoffatomen, wie z. B. -CH2-, -C2H2-, -C2H4-, -C3H6-, -C4H8-, -C5H10- und -C8H16-, wobei -CH2-, -C2H4- und -C3H6- besonders bevorzugt sind.
Beispiele für R2 sind die für R1 angegebenen Kohlenwasser­ stoffreste, Reste der Formel -C(R1)=CR1 2 mit R1 gleich der oben­ genannten Bedeutung.
Beispiele für substituierte Reste R2 sind die für R1 angegebenen halogensubstituierten Reste sowie -OR6-substituierte Reste, wie 1-Hydroxycyclohexyl-, 2-Hydroxy-2-methylethyl-, 1-Methoxy-1,1- diphenylmethyl-, Methoxymethyl-, Ethoxy-, Butoxy- und Phenoxy­ reste, Reste -C(O)OR6, Trimethylsilyl-, Triethylsilyl-, Meth­ oxydimethylsilyl-, Octyldimethylsilyl-, Phenyldimethylsilylre­ ste, 4-(Trimethylsilyl)phenyl-, 3-(Trimethylsilyl)phenyl-, 2- (Trimethylsilyl)phenyl-, 4-(tert.-Butyldimethylsilyl)phenyl-, 3-(tert.-Butyldimethylsilyl)phenyl-, 4-(n-Octyldimethylsi­ lyl)phenyl- und 4-(n-Octadecyldimethylsilyl)phenylreste.
Bevorzugt handelt es sich bei Rest R2 um Arylreste, wie Phenyl-, Tolyl-, Xylyl-, Mesityl-, 4-(Trimethylsilyl)phenyl-, 3-(Trimethylsilyl)phenyl-, 4-(tert.-Butyldimethylsilyl)phenyl-, 4-(n-Octyldimethylsilyl)phenyl-, 4-(n-Octadecyldimethylsi­ lyl)phenylreste, hydroxy- oder alkoxysubstituierte Kohlenwas­ serstoffreste mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen, wobei Phenyl-, Tolyl-, Xylyl-, 4-Trimethylsilyl)phenyl-, 4-(tert.-Butyldi­ methylsilyl)phenyl, 4-(n-Octyldimethylsilyl)phenyl, 1-Hydroxy- 1-methylethyl-, 1-Hydroxycyclohexyl-, 1-Hydroxy-1-phenylethyl- und 1-Hydroxy-1,1-diphenylmethylreste besonders bevorzugt sind.
Bevorzugt handelt es sich bei Rest R4 um zweiwertige Reste mit 1 bis 8 Kohlenstoffatomen, Silyl- oder Siloxanylreste, wie z. B. -CH2-, -C2H4-, -C3H6-, -C4H8-, -C5H10-, -C6H4-, -C8H16-, -CH2-N(H)- CH2-, -CH2-O-CH2-, -Si(CH3)2-, -Si(CH3)2[-O-Si(CH3)2]p- und -C6H4-Si(CH3)2[-O-Si(CH3)2]p-C6H4-, wobei p eine ganze Zahl von 1 bis 1000 ist. Besonders bevorzugt handelt es sich bei Rest R4 um -C4H8-, -C5H10-, -C6H4-, -, -Si(CH3)2[-O-Si(CH3)2]p- und -C6H4- Si(CH3)2[-O-Si(CH3)2]p-C6H4- mit p gleich der genannten Bedeutung.
Bevorzugt handelt es sich bei R5 um Chloratom.
Bevorzugt handelt es sich bei e um eine ganze Zahl von 1 bis 50, besonders bevorzugt um eine ganze Zahl von 1 bis 20.
Bevorzugt handelt es sich bei R6 um Methyl-, Ethyl-, Propyl-, n-Butyl-, iso-Butyl-, tert.-Butyl- und Phenylreste, wobei Me­ thyl-, Ethyl- und tert.-Butylreste besonders bevorzugt sind.
Bevorzugt handelt es sich bei R7 um Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, iso-Propyl-, tert.-Butyl-, Octyl-, Octadecyl-, Hydroxy-, Me­ thoxy-, Ethoxy- und Phenylreste, wobei Methyl-, tert.-Butyl- und Phenylreste besonders bevorzugt sind.
Beispiele für die im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Bis(phosphan)platindihalogenide (A) sind cis-Bis(trimethyl­ phosphan)platindichlorid, trans-Bis(trimethylphosphan)pla­ tindichlorid, cis-Bis(triethylphosphan)platindichlorid, trans- Bis(triethylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(triphenylphos­ phan)platindichlorid, trans-Bis(triphenylphosphan)platindi­ chlorid, cis-Bis(triphenylphosphan)platindibromid, trans- Bis(triphenylphosphan)platindibromid, cis-Bis(tributylphos­ phan)platindichlorid, trans-Bis(tributylphosphan)platindi­ chlorid, cis-Bis(tricyclohexylphosphan)platindichlorid, trans- Bis(tricyclohexylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(dimethylphe­ nylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(dimethylphenylphos­ phan)platindichlorid, cis-Bis(tri-o-tolylphosphan)platindi­ chlorid, trans-Bis(tri-o-tolylphosphan)platindichlorid, cis- Bis(tri-p-tolylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(tri-p- tolylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(tri-p-chorphenylphos­ phan)platindichlorid, trans-Bis(tri-p-chlorphenylphosphan)pla­ tindichlorid, cis-Bis(tri(2-cyanoethyl)phosphan)platindichlorid und trans-Bis(tri(2-cyanoethyl)phosphan)platindichlorid, wobei cis-Bis(triethylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(triethyl­ phosphan)platindichlorid, cis-Bis(triphenylphosphan)platindi­ chlorid, trans-Bis(triphenylphosphan)platindichlorid, cis- Bis(tributylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(tributylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(tricyclohexylphosphan)platindi­ chlorid, trans-Bis(tricyclohexylphosphan)platindichlorid, cis- Bis(dimethylphenylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(dimethyl­ phenylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(tri-o-tolylphos­ phan)platindichlorid, trans-Bis(tri-o-tolylphosphan)platindi­ chlorid, cis-Bis(tri-p-tolylphosphan)platindichlorid und trans- Bis(tri-p-tolylphosphan)platindichlorid bevorzugt und cis- Bis(triphenylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(triphenylphos­ phan)platindichlorid, cis-Bis(tributylphosphan)platindichlorid, trans-Bis(tributylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(tricyclohe­ xylphosphan)platindichlorid, cis-Bis(tri-o-tolylphosphan)pla­ tindichlorid und cis-Bis(tri-p-tolylphosphan)platindichlorid besonders bevorzugt sind.
Beispiele für die im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Alkine (B) sind 1-Propin, tert.-Butylacetylen, 1-Pentin, 1-He­ xin, Cyclohexylacetylen, 1-Octin, 1-Decin, 1-Dodecin, Propar­ gylalkohol, Propiolsäure, Propiolsäuremethylester, Propargyla­ min, 1-Ethinylcyclohexylamin, 1,1-Dimethylpropargylamin, 1-Di­ methylamino-2-propin, Ethylethinylether, Methylpropargylether, Tetrahydro-2-(2-propyloxy)-2H-pyran, 5-Chloro-1-pentin, 2-Ethi­ nylpyridin, Phenylacetylen, Tolylacetylen, Trimethylsilylacety­ len, 3-Butin-1-ol, 2-Methyl-3-butin-2-ol, 1-Ethinyl-1-cyclohe­ xanol, 1,1-Diphenyl-2-propin-1-ol, 3-Methyl-1-dodecin-3-ol, Diethinylbenzol, 1,7-Octadiin, 1,8-Nonadiin, Dipropargylamin, 1,3-Diethinyl-1,1,3,3-tetramethyldisiloxan und 1,3-Bis(ethinyl­ phenyl)-1,1,3,3-tetramethyldisiloxan, wobei tert.-Butylacety­ len, Cyclohexylacetylen, 1-Octin, 1-Decin, 1-Dodecin, Propar­ gylalkohol, Propiolsäuremethylester, Propargylamin, 1,1-Dime­ thylpropargylamin, 1-Dimethylamino-2-propin, Ethylethinylether, Phenylacetylen, Tolylacetylen, Trimethylsilylacetylen, 3-Butin- 1-ol, 2-Methyl-3-butin-2-ol, 1-Ethinyl-1-cyclohexanol, 1,1-Diphenyl-2-propin-1-ol, 3-Methyl-1-dodecin-3-ol, Diethinylbenzol, 1,7-Octadiin, 1,8-Nonadiin, Dipropargylamin, 1,3-Diethinyl­ tetramethyldisiloxan und 1,3-Bis(ethinylphenyl)tetramethyldisi­ loxan bevorzugt und tert.-Butylacetylen, Cyclohexylacetylen, 1- Octin, 1-Decin, 1-Dodecin, Propargylalkohol, Phenylacetylen, Tolylacetylen, Trimethylsilylacetylen, 3-Butin-1-ol, 2-Methyl- 3-butin-2-ol, 1-Ethinyl-1-cyclohexanol, 1,1-Diphenyl-2-propin- 1-ol, 3-Methyl-1-dodecin-3-ol, Diethinylbenzol, 1,7-Octadiin, 1,8-Nonadiin, 1,3-Diethinyltetramethyldisiloxan und 1,3- Bis(ethinylphenyl)tetramethyldisiloxan besonders bevorzugt sind.
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird Alkin (B) in Mengen von vorzugsweise 0,5 bis 10,0 mol-Teilen, besonders bevorzugt 2,0 bis 5,0 mol-Teilen, jeweils bezogen auf einen Mol-Teil einge­ setztes Bis(phosphan)platindihalogenid (A), verwendet.
Bei dem im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Amin (D) handelt es sich vorzugsweise um solches der Formel
(R8)3-xNHx (VIII),
wobei
R8 gleich oder verschieden sein kann und einwertige gegebenen­ falls substituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlen­ stoffatomen bedeutet und
x 0, 1 oder 2 ist.
Beispiele für R8 sind die für Rest R1 für Kohlenwasserstoffreste angegebenen Beispiele sowie substituierte Reste, wie Hydroxyme­ thyl-, Hydroxyethyl-, Methoxyethyl- und Ethoxyethylreste.
Bevorzugt handelt es sich bei Reste R8 Alkylreste, wie der Me­ thyl-, Ethyl-, n-Propyl-, iso-Propyl-, 1-n-Butyl-, 2-n-Butyl-, iso-Butyl-, tert.-Butyl-, n-Pentyl-, iso-Pentyl, neo-Pentyl-, tert.-Pentylrest, Hexylreste, wie der n-Hexylrest, Heptylreste, wie der n-Heptylrest, Octylreste, wie der n-Octylrest und iso- Octylreste, wie der 2,2,4-Trimethylpentylrest, Nonylreste, wie der n-Nonylrest, Decylreste, wie der n-Decylrest, Cycloalkylre­ ste, wie Cyclopropyl-, Cyclopentyl-, Cyclohexyl-, Cycloheptyl­ reste und Methylcyclohexylreste, Arylreste, wie Phenylreste, o-, m-, p-Tolylreste und Xylylreste und Aralkylreste, wie der Benzylrest und der α- und β-Phenylethylrest, besonders bevor­ zugt um den Methyl-, Ethyl-, n-Propyl-, iso-Propyl-, 1-n-Butyl-, 2-n-Butyl-, iso-Butyl-, tert.-Butyl-, n-Pentyl-, iso-Pentyl, neo-Pentyl-, tert.-Pentylrest, Hexylreste, wie der n-Hexylrest, Heptylreste, wie der n-Heptylrest, Octylreste, wie der n- Octylrest und iso-Octylreste, wie der 2,2,4-Trimethylpentylrest und Cyclohexylrest.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren können Amine der Formel (VIII) mit x gleich 0, 1 oder 2 gleichermaßen eingesetzt wer­ den, wobei insbesondere aus toxikologischer Sicht Amine der Formel (VIII) mit x gleich 2 besonders bevorzugt sind, da diese Amine keine stabilen Nitrosamine bilden.
Beispiele für im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte Amine der Formel (VIII) sind Diethylamin, Triethylamin, N,N-Dimethyl­ isopropylamin, 1-Propylamin, Dipropylamin, Diisopropylamin, Me­ thylpropylamin, Tripropylamin, 1-Butylamin, 2-Butylamin, tert.- Butylamin, Dibutylamin, N-Methylbutylamin, Tributylamin, Amyl­ amin, tert.-Aminylamin, Hexylamin, Dihexylamin, Piperidin, Cy­ clohexylamin, Cycloheptylamin, Cyclooctylamin, N-Methylcyclohexylamin, Dicyclohexylamin, Hexadiendiamin, Tetramethylethy­ lendiamin, Ethylendiamin, Heptylamin, Octylamin und 2- Aminoethanol, wobei Diethylamin, Triethylamin, 1-Propylamin, Dipropylamin, Diisopropylamin, Tripropylamin, 1-Butylamin, 2- Butylamin, tert.-Butylamin, Dibutylamin, N-Methylbutylamin, Tributylamin, Amylamin, tert.-Aminylamin, Hexylamin, Dihexyla­ min, Cyclohexylamin, Cycloheptylamin, Cyclooctylamin N-Methyl­ cyclohexylamin, Heptylamin und Octylamin bevorzugt und 1-Pro­ pylamin, 1-Butylamin, 2-Butylamin, tert.-Butylamin, Amylamin, tert.-Aminylamin, Hexylamin und Cyclohexylamin besonders bevor­ zugt sind.
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird Amin (D) in Mengen von vor­ zugsweise 0,05 bis 10000 mol-Teilen, besonders bevorzugt 1,0 bis 50 mol-Teilen, jeweils bezogen auf einen mol-Teil an einge­ setztem Bis(phosphan)platindihalogenid (A), verwendet.
Bei dem im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Alkohol (E) handelt es sich vorzugsweise um solchen der Formel
R9OH (IX),
wobei
R9 einwertige, von aliphatischen Kohlenstoff-Kohlenstoff- Mehrfachbindungen freie, gegebenenfalls substituierte Kohlen­ wasserstoffreste mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen bedeutet.
Bei R9 handelt es sich bevorzugt um einwertige, von Kohlen­ stoff-Kohlenstoff-Mehrfachbindungen freie, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 15 Kohlenstoffato­ men.
Beispiele für im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzte Alko­ hole der Formel (IX) sind primäre Alkohole, wie Methanol, Ethanol, 1-Propanol, 1-Butanol, 1-Pentanol, 1-Hexanol, 1-Heptanol, 1-Octanol, 1-Nonanol, 1-Decanol, 1-Undecanol, 1-Dodecanol, 2- Methylpropanol, Neopentylalkohol, 2-Methyl-1-butanol, 3-Methyl- 1-butanol, 2-Ethyl-1-butanol, 3,3-Dimethyl-1-butanol, 3-Methyl- 1-pentanol und 2,4,4-Trimethyl-1-pentanol; sekundäre Alkohole, wie 2-Propanol, 2-Butanol, 2-Pentanol, 3-Pentanol, 2-Hexanol, 3-Hexanol, 2-Heptanol, 3-Heptanol, 2-Octanol, 3-Octanol, 3,3- Dimethyl-2-butanol, 3-Methyl-2-pentanol, 4-Methy-2-pentanol, 4,4-Dimehyl-2-pentanol, tertiäre Alkohole, wie 2-Methyl-2- propanol, tert.-Amylalkohol, 2,3-Dimethyl-2-butanol, 2-Methyl- 2-pentanol, 3-Methyl-3-pentanol, cyclische Alkohole, wie Cyclo­ pentanol, Cyclopentylmethanol, Cyclohexanol, Cyclohexylmetha­ nol, und substituierte Alkohole, wie Ethylenglykol, 1,3-Propan­ diol, 1,2-Propandiol, 2-Methyl-1,3-Propandiol, 1,4-Butandiol und 2,3-Butandiol, 1,5-Pentandiol, 1,4-Pentandiol, 1,2-Pentan­ diol und 2,4-Dimethyl-2,4-pentandiol, wobei Methanol, Ethanol, 1-Propanol, 1-Butanol, 1-Pentanol, 1-Hexanol, 1-Heptanol, 1- Octanol, 2-Methylpropanol, Neopentylalkohol, 3,3-Dimethyl-1- butanol, 3-Methyl-1-pentanol, 2,4,4-Trimethyl-1-pentanol, 2- Propanol, 2-Butanol, 2-Pentanol, 3-Pentanol, 3,3-Dimethyl-2- butanol, 2-Methyl-2-propanol, tert.-Amylalkohol, 2-Methyl-2- pentanol, 3-Methyl-3-pentanol, Cyclopentanol, Cyclohexanol, Ethylenglykol, 1,3-Propandiol und 1,2-Propandiol bevorzugt und Methanol, Ethanol, 1-Propanol, 1-Butanol, Neopentylalkohol, 2- Propanol, 2-Butanol, 3,3-Dimethyl-2-butanol, tert.-Amylalkohol und Cyclohexanol besonders bevorzugt sind.
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird Alkohol (E) in Mengen von vorzugsweise 0,05 bis 10000 mol-Teilen, besonders bevorzugt 1,0 bis 500 mol-Teilen, jeweils bezogen auf einen mol-Teil an eingesetztem Bis(phosphan)platindihalogenid (A), verwendet.
Im erfindungsgemäßen Verfahren wird Kupfer(I)iodid (F) in Men­ gen von vorzugsweise 0,001 bis 3,0 mol-Teilen, besonders bevor­ zugt 0,1 bis 0,5 mol-Teilen, jeweils bezogen einen mol-Teil an eingesetztem Bis(phosphan)platindihalogenid (A), verwendet.
Außer den Komponenten (A) bis (F) können im erfindungsgemäßen Verfahren noch weitere Stoffe (G) eingesetzt werden, wie zum Beispiel Kaliumjodid, Alkane, Wasser, Toluol, Ether, wie Die­ thylether und tert.-Butylmethylether, und Ester, wie Ethylace­ tat, was jedoch nicht bevorzugt ist.
Bei den im erfindungsgemäßen Verfahren eingesetzten Komponenten (A) bis (F) sowie gegebenenfalls (G) kann es sich jeweils um eine einzelne Art einer solchen Komponente, wie auch um ein Ge­ misch aus mindestens zwei verschiedenen Arten einer solchen Komponente handeln.
Die Durchführung des erfindungsgemäßen Verfahrens kann auf be­ liebige Weise erfolgen, wie beispielsweise durch gleichmäßige Vermischung der einzelnen Komponenten, wobei die Reihenfolge dabei beliebig sein kann.
Erfindungsgemäß eingesetzte Komponente (A) kann dabei direkt eingesetzt werden oder in situ durch Reaktion eines (Diole­ fin) PtR5 2 mit PR1 3 oder R1 2P-R3-PR1 2 im Alkohol (E) erzeugt werden und ohne Aufarbeitung durch Zugabe von (B), (D), Kupfer(I)jodid (F) und gegebenenfalls (G) zum Produkt (C) weiterreagieren. Beispiele für verwendbare Diolefine sind Norbornadien, Hexadi­ en, Cyclooctadien und Cylooctatetraen.
Bevorzugt wird die erfindungsgemäße Reaktion so geführt, daß die Edukte (A), (B), (D), (E) und Kupfer(I)jodid (F) in beliebiger Reihenfolge eingewogen werden. Anschließend wird die Mi­ schung für eine Dauer von bevorzugt 1 Minute bis 72 Stunden, besonders bevorzugt 10 Minuten bis 4 Stunden, gerührt. Die An­ satzgröße kann dabei in großem Rahmen variieren, wie bevorzugt ausgehend von 0,5 g von Edukt (A) bis 1000 kg von (A).
Das erfindungsgemäße Verfahren wird bei Temperaturen von vor­ zugsweise -25°C bis 200°C, besonders bevorzugt bei 25°C bis 100°C, und vorzugsweise beim Druck der umgebenden Atmosphäre, also ca. 1000 hPa, durchgeführt. Es kann aber auch bei niedri­ gerem oder höherem Druck gearbeitet werden.
Die erfindungsgemäße Umsetzung kann dabei unter Luftatmosphäre aber auch unter Schutzgas, wie z. B. Stickstoff oder Argon, er­ folgen.
Nach Beendigung der erfindungsgemäßen Umsetzung wird das Pro­ dukt, welches im allgemeinen aus der Reaktionslösung ausfällt, abgetrennt und getrocknet. Alle bekannten Verfahren zur Ab­ trennung von Feststoffen aus Flüssigkeiten, wie z. B. Filtrati­ on, Abnutschen, Zentrifugieren, etc., können angewandt werden, um die erfindungsgemäß erhaltene Bis(alkinyl)bis(phos­ phan)platin-Komplexe zu isolieren.
Die erfindungsgemäß hergestellten Bis(alkinyl)bis(phosphan)pla­ tin-Komplexe können für alle Zwecke eingesetzt werden, für die auch bisher Platin-Verbindungen verwendet wurden, wie z. B. als Katalysator für zu Elastomeren vernetzbaren Organopolysiloxan­ massen.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat den Vorteil, daß Bis(alki­ nyl)bis(phosphan)platin-Komplexe auf einfache Art und Weise unter sehr milden Bedingungen in einer Eintopfsynthese herge­ stellt werden können.
Des weiteren hat das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil, daß vollständig reine Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin-Komplexe erhalten werden, so daß kein zusätzlicher Reinigungsschritt notwendig ist.
Ferner hat das erfindungsgemäße Verfahren den Vorteil, daß die Bis(alkinyl)bis(phosphan)platin-Komplexe mit hohen Ausbeuten erhalten werden.
Das erfindungsgemäße Verfahren hat den weiteren Vorteil, daß es wirtschaftlich ist, da ausschließlich leicht zugängliche und in der industriellen Chemie gebräuchliche Ausgangstoffe verwendet werden.
In den nachstehend beschriebenen Beispielen beziehen sich alle Angaben von Teilen und Prozentsätzen, falls nicht anders ange­ geben, auf das Gewicht. Sofern nicht anders angegeben, werden die nachstehenden Beispiele bei einem Druck der umgebenden At­ mosphäre, also etwa bei 1000 hPa, und bei Raumtemperatur, also bei etwa 20°C, bzw. bei einer Temperatur, die sich beim Zusam­ mengeben der Reaktanden bei Raumtemperatur ohne zusätzliche Heizung oder Kühlung einstellt, durchgeführt. Alle Edukte sind hinlänglich bekannt und können zum Beispiel von Sigma-Aldrich Chemie GmbH, Deutschland bezogen werden. Die Edukte werden ohne weitere Reinigung eingesetzt.
Me bedeutet Methylrest, Bu Butylrest und Ph bedeutet Phenyl­ rest.
Beispiel 1
Eine Suspension von 0,400 g (0,51 mmol) cis-Bis-(triphenylphos­ phan)-platin(II)-chlorid, 0,150 g (1,21 mmol) 1-Ethinylcyclo­ hexanol, 0,019 g Kupfer(I)iodid, 20 ml Diethylamin und 20 ml wässrigem Ethanol (95%ig) wird 10 Minuten gerührt. Anschließend wird die Mischung 30 Minuten unter Rückfluß erhitzt. Nach dem Abkühlen auf Raumtemperatur wird der Niederschlag von der Lö­ sung abfiltriert. Es werden 0,406 g analysenreines Zielprodukt erhalten, was einer 83%igen Ausbeute entspricht. Basierend auf dem Herstellungsverfahren und den NMR-Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nachfolgenden Formel:
trans-(Ph3P)2Pt[-C∼CC6H10(OH)]2.
Beispiel 2
Eine Suspension von 9,33 g (11,8 mmol) cis-Bis-(triphenylphos­ phan)-platin(II)-chlorid, 3,26 g (33,9 mmol) Phenylacetylen, 0,443 g Kupfer(I)iodid, 30 ml Cyclohexylamin und 120 ml Ethanol (99%ig, vergällt) wird 10 Minuten gerührt. Anschließend wird die Mischung 3 Stunden unter Rückfluß erhitzt. Nach dem Abküh­ len auf Raumtemperatur wird der Niederschlag von der Lösung ab­ filtriert und mit 15 ml Ethanol gewaschen. Man erhält 10,51 g (96% Ausbeute) eines gelbfarbenen Pulvers. Basierend auf dem Herstellungsverfahren und den NMR-Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nachfolgenden Formel:
trans-(Ph3P)2Pt(-C∼C-Ph)2.
Beispiel 3
Eine Suspension von 0,670 g (1,0 mmol) cis-Bis-(tri-n-butyl­ phosphan)-platin(II)-chlorid, 0,225 g (2,2 mmol) Phenylacety­ len, 0,010 g Kupfer(I)iodid, 5 ml Triethylamin und 20 ml Etha­ nol (99%ig, vergällt) wird 60 Minuten gerührt. Anschließend wird die Mischung 30 Minuten unter Rückfluß erhitzt. Nach dem Abkühlen auf Raumtemperatur wird der Niederschlag von der Lö­ sung abgetrennt und mit Methanol gewaschen. Man erhält 0,640 g oder eine 80%ige Ausbeute an Produkt. Basierend auf dem Her­ stellungsverfahren und den NMR-Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nachfolgenden Formel:
trans-(n-Bu3P)2Pt(-C∼C-Ph)2.
Beispiel 4
Die in Beispiel 1 beschriebene Verfahrensweise wird wiederholt mit der Abänderung, daß anstelle des Ethinylcyclohexanols 0,120 g (1,21 mmol) Ethinyltrimethylsilan, anstelle des Diethylamins Propylamin und anstelle des Ethanols Methanol eingesetzt wer­ den. Man erhält 0,390 g (84% Ausbeute) eines hellgelbfarbenen Pulvers. Basierend auf dem Herstellungsverfahren und den NMR- Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nachfolgenden Formel:
trans-(Ph3P)2Pt(-C∼C-SiMe3)2.
Beispiel 5
Eine Suspension von 0,400 g (0,51 mmol) trans-Bis-(triphenyl­ phosphan)-platin(II)-chlorid, 0,179 g (1,21 mmol) 3-Phenyl-1- butin-3-ol, 0,019 g Kupfer(I)iodid, 10 ml Diethylamin und 20 ml Ethanol (99%ig, vergällt) wird 60 Minuten unter Rückfluß er­ hitzt. Nach dem Abkühlen auf Raumtemperatur wird der Nieder­ schlag von der Lösung abfiltriert und mit 10 ml Ethanol (99%, vergällt) gewaschen. Es werden 0,460 g oder eine 89-%ige Aus­ beute an analysenreinem Zielprodukt erhalten. Basierend auf dem Herstellungsverfahren und den NMR-Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nachfolgenden Formel:
trans-(Ph3P)2Pt[-C∼C(CH3)(Ph)(OH)]2.
Beispiel 6
Eine Suspension von 0,34 g (0,51 mmol) [1,2-Bis(diphenylphos­ phino)ethan]-platin(II)-chlorid, 0,211 g (1,21 mmol) 4-Trime­ thylphenylacetylen, 0,01 g Kupfer(I)iodid, 15 ml Propylamin und 10 ml Propanol wird unter Argonschutzgas und unter Lichtaus­ schluß 30 Minuten bei Raumtemperatur gerührt und anschließend filtriert. Der Niederschlag wird mit 20 ml Diethylether gewa­ schen und getrocknet. Man erhält 0,355 g (74% Ausbeute) eines hellgelbfarbenen Pulvers. Basierend auf dem Herstellungsverfah­ ren und den NMR-Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nachfolgenden Formel:
(Ph2PCH2CH2PPh2)Pt(-C∼C-C6H4-SiMe3)2.
Beispiel 7
Eine Suspension von 2,0 g (3,0 mmol) trans-Bis-(tri-n-butyl­ phosphan)-platin(II)-chlorid, 0,55 g (3,0 mmol) 1,3-Diethinyl- 1,1,3,3-tetramethyldisiloxan (bezogen von ABCR GmbH ), 0,020 g Kupfer(I)iodid, 20 ml Cyclohexylamin und 50 ml Methanol wird unter Argonatmosphäre 6 Stunden bei 78°C gerührt. An­ schließend wird der Niederschlag von der Lösung abgetrennt und mit Methanol gewaschen. Man erhält 2,1 g oder eine 90%ige Ausbeute an Produkt. Basierend auf dem Herstellungsverfahren und den NMR-Spektren ist das Produkt ein Platin-Komplex der nach­ folgenden Formel:
-[trans-(n-Bu3P)2Pt(-C∼C-SiMe2-O-SiMe2-C∼C-]-n.

Claims (4)

1. Verfahren zur Herstellung von Bis(alkinyl)bis(phosphan)pla­ tin-Komplexen (C), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus
(PR1 3)2Pt(-C∼C-R2)2 (I),
(R1 2P-R3-PR1 2)Pt(-C∼C-R2)2 (II)
und
H-C∼C-R4-C∼C-[-Pt(PR1 3)2-C∼C-R4-C∼C-]e-H (III),
wobei
R1 gleich oder verschieden sein kann und einwertige, gegebe­ nenfalls substituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen, Halogenatome, Wasserstoffatom, Hydroxy­ reste, -CN oder -SCN bedeutet, die entweder direkt oder über Sauerstoff, Stickstoff oder Schwefel an Phosphor ge­ bunden sind,
R2 gleiche oder verschiedene einwertige, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlen­ stoffatomen oder -SiR7 3,
R3 gleiche oder verschiedene zweiwertige, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 14 Kohlenstoff­ atomen,
R4 gleiche oder verschiedene zweiwertige, gegebenenfalls sub­ stituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlen­ stoffatomen sowie zweiwertige Silyl- oder Siloxanylreste,
R7 gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoff, Halo­ genatom, -OR6, wobei R6 gleich oder verschieden sein kann und Wasserstoffatom oder einen einwertigen Kohlenwasser­ stoffrest mit 1 bis 20 Kohlenstoffatomen bedeutet, oder einwertige, gegebenenfalls substituierte Kohlenwasser­ stoffreste mit 1 bis 24 Kohlenstoffatomen und
e eine ganze Zahl größer oder gleich 1 bedeutet,
durch Umsetzung von Bis(phosphan)platindihalogenid (A), ausge­ wählt aus der Gruppe bestehend aus
(PR1 3)2Pt(R5)2 (IV),
und
(R1 2P-R3-PR1 2)Pt(R5)2 (V)
wobei
R1 und R3 die obengenannte Bedeutung haben und
R5 gleich oder verschieden ist und Halogenatom, wie Fluor, Chlor, Brom oder Iod, bedeutet,
mit
Alkin (B), ausgewählt aus der Gruppe bestehend aus
H-C∼C-R2 (VI),
und
H-C∼C-R4-C∼C-H (VII),
wobei
R2 und R4 die obenstehende Bedeutungen haben,
in Gegenwart von Amin (D), Alkohol (E) und von Kupfer(I)iodid (F).
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem eingesetzten Amin (D) um solches der Formel
(R8)3-xNHx (VIII)
handelt, wobei
R8 gleich oder verschieden sein kann und einwertige gegebenen­ falls substituierte Kohlenwasserstoffreste mit 1 bis 24 Kohlen­ stoffatomen bedeutet und
x 0, 1 oder 2 ist.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem Amin um solches der Formel (VIII) mit x gleich 2 handelt.
4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es sich bei dem eingesetzten Alko­ hol (E) um solchen der Formel
R9OH (IX)
handelt, wobei
R9 einwertige, von aliphatischen Kohlenstoff-Kohlenstoff- Mehrfachbindungen freie, gegebenenfalls substituierte Kohlen­ wasserstoffreste mit 1 bis 15 Kohlenstoffatomen bedeutet.
DE1999143102 1999-09-09 1999-09-09 Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen Expired - Fee Related DE19943102C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1999143102 DE19943102C2 (de) 1999-09-09 1999-09-09 Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1999143102 DE19943102C2 (de) 1999-09-09 1999-09-09 Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19943102A1 DE19943102A1 (de) 2001-03-15
DE19943102C2 true DE19943102C2 (de) 2001-12-13

Family

ID=7921358

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1999143102 Expired - Fee Related DE19943102C2 (de) 1999-09-09 1999-09-09 Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19943102C2 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014520904A (ja) * 2011-06-29 2014-08-25 ダウ コーニング コーポレーション ヒドロシリル化反応硬化性組成物、並びに、その調製及び使用方法
CN103122243B (zh) * 2013-01-28 2015-01-28 宁波大学 一种铂化合物荧光材料及其制备方法

Non-Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
BÄHR, G., BURDA, P. in Houben-Weyl, "Methoden der Organischen Chemie", Georg Thieme Verlag, Stuttgart 1970, Vol. XIII/1, S. 738-739 *
Comprehensive Organometallic Chemistry, Eds. G. Wilkinson, F.G.A Stone, E.W. Abel, Pergamon Press,New York, 1982, Vol. 2, S. 720 *
CROSS, R.J., DAVIDSON, M.F.: J.Chem.Soc. Dalton Trans. 1986, 1987-1992 *
SONOGASHIRA, K., YATAKE, T., TOHDA, Y., TAKAHASHI,S., HAGIHARA, N. J.C.S. Chem.Comm. 1977, 291-292 *

Also Published As

Publication number Publication date
DE19943102A1 (de) 2001-03-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2238145B1 (de) Durch bestrahlung aktivierte hydrosilylierungsreaktionen
DE2366359C2 (de) ω-Alkenylsilane, Verfahren zu ihrer Herstellung und ihre Verwendung
EP3186265B1 (de) Platinkomplexe und deren verwendung in durch hydrosilylierungsreaktion vernetzbaren massen
DE2035582A1 (de) Organometallverbindungen und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP3966217B1 (de) Kationische germanium(ii)-verbindungen, verfahren zu deren herstellung und deren verwendung als katalysator in der hydrosilylierung
DE19943102C2 (de) Verfahren zur Herstellung von Bis(acetylid)bis(phosphan)platin-Komplexen
DE69311213T2 (de) Verfahren zur Herstellung von 1-Aza-2-silacyclopentan-Verbindungen
EP3966218A1 (de) Herstellung von siloxanen in gegenwart von kationischen germanium(ii)-verbindungen
EP0601578B1 (de) Verfahren zur Entfernung von Wasserstoffhaltigen Silanen aus Silanen
EP0267406B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Alkoxysilanen
DE2114027A1 (de) Verfahren zur Herstellung von Methallylsilicinnverbindungen
EP4041804B1 (de) Verfahren zur herstellung von siloxanen aus hydridosiliciumverbindungen
DE69020491T2 (de) Silacyclobutane und Herstellungsverfahren.
González-López et al. Coupling of acetylene molecules on ruthenium clusters, involving cleavage of C–Si bonds in the alkyne and coordination of a phenyl ring of a SiPh 3 group
GILMAN et al. Some 2-Biphenylyl Substituted Organosilicon Compounds
WO2021170225A1 (de) Verfahren zur herstellung von alkoxysil(ox)anen aus hydridosiliciumverbindungen
DE3208829A1 (de) Verfahren zum methylieren von siliciumverbindungen
EP2121709B1 (de) Iridiumkatalysiertes herstellungsverfahren für siliciumorganische verbindungen
DD270915A5 (de) Verfahren zur herstellung von bis-silyl-substituierten cyclepentadienen
EP2872522A1 (de) Oxasilacyclen und verfahren zu deren herstellung
DE3728801A1 (de) (2-phenylpropan-2-yl) silan-verbindungen und ein verfahren zu deren herstellung
DE102011076687A1 (de) Pt-haltiger Katalysator, dessen Herstellung und dessen Einsatz bei der Hydrosilylierung von Si-H-haltigen Verbindungen
JP2022172690A (ja) 化合物及びその製造方法
DE19962563C1 (de) Verfahren zur Herstellung von 1,3-Dihalogen-1,1,3,3-tetra(organyl)disiloxanen
SAKURAI et al. Me3Si4/SiMe3 Me3Si SiMe3

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee