DE19937624A1 - Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit - Google Patents

Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit

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Abstract

Die Erfindung betrifft eine Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit. Die Leuchtdiode umfaßt ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist, eine Schichtstruktur (14), die auf dem Halbleitersubstrat gebildet ist und eine untere Hüllschicht (140), eine aktive Schicht (142) und eine obere Hüllschicht (144) aufweist, eine Fensterschicht (16), die auf der oberen Hüllschicht gebildet ist und im Bereich nicht unter der vorderen Elektrode eine Ringnut mit vorgegebener Tiefe aufweist, die durch Ätzen geformt ist, eine Kontaktschicht (17), die auf der Fensterschicht außerhalb des Bereiches unter der vorderen Elektrode gebildet ist, eine leitfähige transparente Schicht (15), die im Randbereich auf der Kontaktschicht gebildet ist und mit der Kontaktschicht zu einem ohmschen Kontakt führt und im restlichen Bereich auf der Fensterschicht gebildet ist und mit der Fensterschicht zu einer Shottky-Sperre führt, und eine vordere Elektrode.

Description

Die Erfindung betrifft eine Leuchtdiode, insbesondere eine Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, gemäss der Ansprüche 1, 2, 3, 4, 5, 6 und 7.
Aus Patent US 5,789,768 von Bung-Jye Lee u. a. (mit dem gleichen Anmelder dieser Erfindung) ist eine Leuchtdiode bekannt, die in Fig. 1 gezeigt ist. Ein n- Typ-GaAs-Halbleitersubstrat 12 ist auf der hinteren bzw. unteren n-Typ- Elektrode 10 gebildet und eine verteilte Bragg-Reflektorschicht 30 ist auf dem Halbleitersubstrat 12 gebildet, die vorzugsweise aus AIGaInP oder AIGaAs besteht. Auf der verteilten Bragg-Reflektorschicht 30 ist eine Schichtstruktur 14 gebildet, die eine untere n-Typ-Hüllschicht 140 aus AIGaInP, eine aktive Schicht 142 aus AIGaInP und eine obere p-Typ-Hüllschicht 144 aus AIGaInP aufweist. Eine p-Typ-Fensterschicht 16 ist auf der oberen p-Typ-Hüllschicht 144 gebildet und besteht vorzugsweise aus transparentem Material, wie GaP, GaAsP, GaInP, AIGaInP oder AIGaAs. Eine p-Typ-Kontaktschicht 17 ist auf der Fensterschicht 16 gebildet und besteht vorzugsweise aus transparentem Material, wie GaP, GaAsP, GaInP oder GaAs. Eine leitfähige transparente Schicht 19 ist auf der Kontaktschicht 17 gebildet und füllt die mittlere Aussparung der Kontaktschicht 17 aus, wodurch die leitfähige transparente Schicht 19 mit der Fensterschicht 16 in Kontakt tritt und zu einer Shottky- Sperre führt. Diese leitfähige transparente Schicht 19 besteht vorzugsweise aus Material, wie Indiumzinnoxid, Indiumoxid oder Zinnoxid. Eine vordere p- Typ-Elektrode 20 ist auf der leitfähigen transparenten Schicht 19 gebildet.
Diese Leuchtdiode ist dadurch gekennzeichnet, daß durch den Kontakt zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Kontaktschicht 17 ein ohmscher Kontakt entsteht und durch den Kontakt zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Fensterschicht 16 eine Shottky-Sperre entsteht. Daher breitet sich der Strom aus der vorderen Elektrode 20 in der leitfähigen transparenten Schicht 19 aus und fließt anschließend durch den Bereich des ohmschen Kontakts und nicht den Bereich der Shottky-Sperre nach unten in die aktive Schicht 142. Dort stößt er gegen den Strom aus der hinteren Elektrode 10, so daß ein Licht erzeugt wird.
Bei dieser Leuchtdiode kann der Strom aus der vorderen bzw. oberen Elektrode 20 zwar den ohmschen Kontakt überqueren und von der Shottky- Sperre gesperrt werden, könnte dennoch sich ein Teil des Stroms beim Durchfließen durch die Fensterschicht 16 unter der vorderen Elektrode 20 verteilen, da die Fensterschicht 16 eine relativ große Dicke und eine Stromleitfähigkeit aufweist. Dieser Teil des Stroms stößt in der aktiven Schicht 142 gegen den Strom aus der hinteren Elektrode 10, wodurch ein Licht erzeugt wird. Dieses Licht wird jedoch von der vorderen Elektrode 20 abgeschirmt, so daß die Leuchtleistung niedrig ist.
Aus Patent US 5,153,889 von Hideto Sugawara u. a. ist auch eine Leuchtdiode bekannt, bei dem im zweiten Auführungsbeispiel zwischen der Fensterschicht und der oberen Hüllschicht eine Isolationsschicht vorgesehen ist, um die Stromausbreitung zu kontrollieren. Diese Leuchtdiode muß jedoch in zwei epitaxischen Vorgängen hergestellt werden. D. h. nachdem die Isolationsschicht auf der oberen Hüllschicht gebildet ist, muß zunächst der unnötige Abschnitt durch Ätzen entfernt werden, und dann wird die Fensterschicht gebildet. Daher sind die Herstellkosten, Herstellzeit und die Anzahl der Ausschüsse erheblich höher als bei nur einem einzelnen epitaxischen Vorgang.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, eine Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit zu schaffen, bei der die Stromausbreitung in der aktiven Schicht gut kontrolliert wird, wodurch eine hohe Leuchtleistung erreicht wird.
Der Erfindung liegt eine weitere Aufgabe zugrunde, eine Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit zu schaffen, bei der nur ein einzelner epitaxischer Vorgang erforderlich ist.
Im folgenden wird die Erfindung anhand der Zeichnungen beispielhaft erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode nach dem Stand der Technik,
Fig. 2 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 3 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem zweiten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 4 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem dritten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 5 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem vierten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 6 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem fünften Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 7 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem sechsten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 8 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem siebten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 9 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem achten Ausführungsbeispiel der Erfindung,
Fig. 10 eine Querschnittansicht einer Leuchtdiode gemäß einem neuten Ausführungsbeispiel der Erfindung.
In Fig. 2 ist das erste bevorzugte Ausführungsbeispiel der Erfindung gezeigt. Ein n-Typ-GaAs-Halbleitersubstrat 12 ist auf der hinteren bzw. unteren n-Typ- Elektrode 10 gebildet und eine verteilte Bragg-Reflektorschicht 30 ist auf dem Halbleitersubstrat 12 gebildet, die vorzugsweise aus AIGaInP oder AIGaAs besteht. Auf der verteilten Bragg-Reflektorschicht 30 ist eine Schichtstruktur 14 gebildet, die eine untere n-Typ-Hüllschicht 140 aus AIGaInP, eine aktive Schicht aus AIGaInP 142 und eine obere p-Typ-Hüllschicht 144 aus AIGaInP aufweist. Eine p-Typ-Fensterschicht 16 ist auf der oberen p-Typ-Hüllschicht 144 gebildet und besteht vorzugsweise aus transparentem Material, wie GaP, GaAsP, GaInP, AIGaInP oder AIGaAs. Die Fensterschicht 16 weist im Bereich nicht unter der vorderen Elektrode 20 (wird später beschrieben) eine Ringnut mit vorgegebener Tiefe auf, die durch Ätzen geformt ist. Eine p-Typ- Kontaktschicht 17 ist (wird später beschrieben) auf der Fensterschicht 16 außerhalb des Bereiches unter der vorderen Elektrode 20 gebildet und besteht vorzugsweise aus transparentem Material, wie GaP, GaAsP, GaInP oder GaAs. Eine leitfähige transparente Schicht 19 ist im Randbereich auf der Kontaktschicht 17 gebildet und führt mit der Kontaktschicht 17 zu einem ohmschen Kontakt. Der andere Bereich der leitfähigen transparenten Schicht 19 ist auf der Fensterschicht 16 gebildet und führt mit der Fensterschicht 16 zu einer Shottky-Sperre. Diese leitfähige transparente Schicht 19 besteht vorzugsweise aus transparentem Material, wie Indiumzinnoxid, Indiumoxid, Zinnoxid, Zinkoxid oder Magnesiumoxid. Eine vordere bzw. obere p-Typ- Elektrode 20 ist auf der leitfähigen transparenten Schicht 19 gebildet.
Wegen des ohmschen Kontakts zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Kontaktschicht 17, der Shottky-Sperre zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Fensterschicht 16 und der Anordnung der Ringnut, breitet sich der Strom aus der vorderen Elektrode 20 in der leitfähigen transparenten Schicht 19 aus und fließt anschließend durch den Bereich des ohmschen Kontakts und nicht den Bereich der Shottky-Sperre nach unten in die aktive Schicht 142, so daß die Möglichkeit mininiert wird, daß der Strom in den Bereich unter der vorderen. Elektrode 20 gelangt. Daher erzeugt der gesamte Strom aus der vorderen Elektrode 20 in der aktiven Schicht 142 außerhalb des Bereiches unter der vorderen Elektrode ein Licht, wodurch die Abschirmung durch die vordere Elektrode 20 vermieden wird, so daß die Leuchtleistung der Diode erhöht wird.
Für die Leuchtdiode gemäß dem ersten Ausführungsbeispiel der Erfindung ist nur ein einzelner epitaxischer Vorgang erforderlich. Im Vergleich zu der Leuchtdiode gemäß dem zweiten Ausführungsbeispiel des Patents US 5,153,889, die zwei epitaxische Vorgänge fordert, werden die Herstellkosten und -zeit sowie die Anzahl der Ausschüsse erheblich reduziert.
Fig. 3 zeigt das zweite Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß eine zusätzliche Isolationsschicht 18 vorgesehen ist und die Kontaktschicht 17 auch im Bereich unter der vorderen Elektrode 20 gebildet ist. Diese Isolationsschicht 18 mit geeigneter Dicke ist erforderlich, wenn die Shottky-Sperre nicht ausreichend ist, den Spannungsfall zwischen der vorderen Elektrode 20 und der hinteren Elektrode 10 zu überwinden, damit die Kontrolle der Stromausbreitung und die Erhöhung der Leuchtleistung gewährleistet werden können. Die Isolationsschicht 18 besteht aus Material, wie Siliziumoxid, Siliziumnitrit oder Aluminiumoxid.
Fig. 4 zeigt das dritte Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die Shottky- Sperre des ersten Ausführungsbeispiels durch eine Isolationsschicht 18 ersetzt wird. Diese Isolationsschicht 18 mit geeigneter Dicke ist erforderlich, wenn die Shottky-Sperre nicht ausreichend ist, den Spannungsfall zwischen der vorderen Elektrode 20 und der hinteren Elektrode 10 zu überwinden, damit die Kontrolle der Stromausbreitung und die Erhöhung der Leuchtleistung gewährleistet werden können.
Fig. 5 zeigt das vierte Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß nachdem die Kontaktschicht 17 auf der Fensterschicht 16 gebildet ist, in der Mitte eine zylindrische Vertiefung geformt wird, die sich praktisch bis zur unteren Fläche der Fensterschicht 16 erstreckt. Die leitfähige transparente Schicht 19 ist auf der Kontaktschicht 17 sowie an der Innenwand und auf dem Boden der Vertiefung gebildet. Die vordere Elektrode 20 befindet sich in der Mitte der Vertiefung auf der leitfähigen transparenten Schicht 19.
Da zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Kontaktschicht 17 der ohmsche Kontakt und zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Fensterschicht 16 die Shottky-Sperre gebildet ist, breitet sich der Strom aus der vorderen Elektrode 20 in der leitfähigen transparenten Schicht 19 aus und fließt anschließend durch den Bereich des ohmschen Kontakts und nicht den Bereich der Shottky-Sperre nach unten, so daß die Möglichkeit mininiert wird, daß der Strom in den Bereich unter der vorderen Elektrode 20 gelangt. Daher erzeugt der gesamte Strom aus der vorderen Elektrode 20 in der aktiven Schicht 142 außerhalb des Bereiches unter der vorderen Elektrode ein Licht, wodurch die Abschirmung durch die vordere Elektrode 20 vermieden wird, so daß die Leuchtleistung der Diode erhöht wird.
Fig. 6 zeigt das fünfte Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem vierten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die Shottky- Sperre des vierten Ausführungsbeispiels durch eine Isolationsschicht 18 ersetzt wird. Diese Isolationsschicht 18 mit geeigneter Dicke ist erforderlich, wenn die Shottky-Sperre nicht ausreichend ist, den Spannungsfall zwischen der vorderen Elektrode 20 und der hinteren Elektrode 10 zu überwinden, damit die Kontrolle der Stromausbreitung und die Erhöhung der Leuchtleistung gewährleistet werden können.
Fig. 7 zeigt das sechste Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem ersten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die vordere Elektrode 20 auf dem Randbereich der leitfähigen transparenten Schicht 19 und die Kontaktschicht 17 auf dem Mittelbereich der Fensterschicht 16 gebildet ist, so daß das Licht aus dem Mittelbereich ausgestrahlt wird. Diese Ausgestaltung eignet sich für eine direkte Lichtübertragung in die Lichtfaser.
Fig. 8 zeigt das siebte Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem sechsten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Fensterschicht 16, wo eine Shottky-Sperre entsteht, eine zusätzliche Isolationsschicht 18 vorgesehen ist. Diese Isolationsschicht 18 mit geeigneter Dicke ist erforderlich, wenn die Shottky-Sperre im sechsten Ausführungsbeispiel nicht ausreichend ist, den Spannungsfall zwischen der vorderen Elektrode 20 und der hinteren Elektrode 10 zu überwinden, damit die Kontrolle der Stromausbreitung und die Erhöhung der Leuchtleistung gewährleistet werden können.
Fig. 9 zeigt das achte Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem siebten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß die Dicke des Randbereiches der Fensterschicht 16 auf der obere Hüllschicht 144 durch Ätzen verkleinert wird, wodurch in der Mitte ein vorstehender Zylinder entsteht.
Fig. 10 zeigt das neute Ausführungsbeispiel der Erfindung. Der Unterschied gegenüber dem achten Ausführungsbeispiel besteht darin, daß zwischen der leitfähigen transparenten Schicht 19 und der Fensterschicht 16, wo eine Shottky-Sperre entsteht, eine zusätzliche Isolationsschicht 18 vorgesehen ist. Diese Isolationsschicht 18 mit geeigneter Dicke ist erforderlich, wenn die Shottky-Sperre im achten Ausführungsbeispiel nicht ausreichend ist, den Spannungsfall zwischen der vorderen Elektrode 20 und der hinteren Elektrode 10 zu überwinden, damit die Kontrolle der Stromausbreitung und die Erhöhung der Leuchtleistung gewährleistet werden können.
Die Funktion der obengenannten Ausführungsbeispiele wurden bereits durch Versuche bewiesen.
Die obige Beschreibung stellt nur die bevorzugten Ausführungsbeispiele der Erfindung dar und soll nicht als Definition der Grenzen und des Bereiches der Erfindung dienen. Alle gleichwertige Änderungen und Modifikationen gehören zum Schutzbereich der Erfindung, wie z. B. der Verzicht auf die verteilte Bragg- Reflektorschicht 30 auf dem Halbleitersubstrat 12 oder die Einbringung von Ionen in die Fensterschicht 16 durch Ionenimplantation zur Formung eines nichtleitenden Ringbereiches, durch den die Ringnut der Erfindung ersetzt werden kann.

Claims (8)

1. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) an geeigneter Stelle eine Nut mit vorgegebener Form aufweist, die sich praktisch von der oberen Fläche bis zur unteren Fläche der Fensterschicht (16) erstreckt, wodurch die Fensterschicht (16) in einen ersten und zweiten Teil geteilt wird, wobei der Strom im ersten Teil praktisch nicht in den zweiten Teil fließen kann,
eine Kontaktschicht (17), die auf dem ersten Teil der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), deren erster Teil auf der Kontaktschicht (17) gebildet ist und mit der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt und deren zweiter Teil an der Innenwand und auf dem Boden der Nut, sowie auf dem zweiten Teil der Fensterschicht (16) gebildet ist und mit der Fensterschicht (16) zu einer Shottky-Sperre führt, und
eine vordere Elektrode (20), die auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist, die sich auf dem zweiten Teil der Fensterschicht (16) befindet,
umfaßt.
2. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) an geeigneter Stelle eine Nut mit vorgegebener Form aufweist, die sich praktisch von der oberen Fläche bis zur unteren Fläche der Fensterschicht (16) erstreckt, wodurch die Fensterschicht (16) in einen ersten und zweiten Teil geteilt wird, wobei der Strom im ersten Teil praktisch nicht in den zweiten Teil fließen kann,
eine Kontaktschicht (17), deren erster Teil auf dem ersten Teil der Fensterschicht (16) und deren zweiter Teil auf dem zweiten Teil der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine Isolationsschicht (18), deren erster Teil an der Innenwand und auf dem Boden der Nut und deren zweiter Teil auf dem zweiten Teil der Kontaktschicht (17) gebildet ist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), die auf dem ersten Teil der Kontaktschicht (17) und der Isolationsschicht (18) gebildet ist und mit dem ersten Teil der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt, und
eine vordere Elektrode (20), die auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist, die sich über dem zweiten Teil der Fensterschicht (16) befindet,
umfaßt.
3. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) an geeigneter Stelle eine Nut mit vorgegebener Form aufweist, die sich praktisch von der oberen Fläche bis zur unteren Fläche der Fensterschicht (16) erstreckt, wodurch die Fensterschicht (16) in einen ersten und zweiten Teil geteilt wird, wobei der Strom im ersten Teil praktisch nicht in den zweiten Teil fließen kann,
eine Kontaktschicht (17), die auf dem ersten Teil der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine Isolationsschicht (18), deren erster Teil an der Innenwand und auf dem Boden der Nut und deren zweiter Teil auf dem zweiten Teil der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), die auf der Kontaktschicht (17) und der Isolationsschicht (18) gebildet ist und mit der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt, und
eine vordere Elektrode (20), die auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist, die sich über dem zweiten Teil der Fensterschicht (16) befindet,
umfaßt.
4. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) in der Mitte eine Vertiefung mit vorgegebener Form aufweist, die sich praktisch bis zur unteren Fläche der Fensterschicht (16) erstreckt,
eine Kontaktschicht (17), die auf der oberen Fläche der Fensterschicht (16) gebildet ist und entsprechend der Vertiefung eine Aussparung aufweist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), die an der Innenwand und auf dem Boden der Vertiefung der Fensterschicht (16) sowie auf der Kontaktschicht (17) gebildet ist und mit der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt, und
eine vordere Elektrode (20), die in der Mitte der Vertiefung auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist,
umfaßt.
5. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) in der Mitte eine Vertiefung mit vorgegebener Form aufweist, die sich praktisch bis zur unteren Fläche der Fensterschicht (16) erstreckt,
eine Kontaktschicht (17), die auf der oberen Fläche der Fensterschicht (16) gebildet ist und entsprechend der Vertiefung eine Aussparung aufweist,
eine Isolationsschicht (18), die an der Innenwand und auf dem Boden der Vertiefung der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), die auf der Kontaktschicht (17) und der Isolationsschicht (18) gebildet ist und mit der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt, und
eine vordere Elektrode (20), die in der Mitte der Vertiefung auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist,
umfaßt.
6. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) in der Mitte eine Erhebung mit vorgegebener Form aufweist,
eine Kontaktschicht (17), die auf der oberen Fläche der Erhebung der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), die auf der Kontaktschicht (17) und der restlichen Oberfläche der Fensterschicht (16) gebildet ist und mit der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt, und
eine vordere Elektrode (20), die im Bereich außerhalb der Erhebung auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist,
umfaßt.
7. Leuchtdiode mit einer großen Helligkeit, die
eine hintere Elektrode (10),
ein Halbleitersubstrat (12), das auf der hinteren Elektrode (10) gebildet ist,
eine untere Hüllschicht (140) eines ersten Leitfähigkeitstyps, die auf dem Halbleitersubstrat (12) gebildet ist,
eine aktive Schicht (142), die auf der unteren Hüllschicht (140) gebildet ist,
eine obere Hüllschicht (144) eines zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der aktiven Schicht (142) gebildet ist,
eine Fensterschicht (16) des zweiten Leitfähigkeitstyps, die auf der oberen Hüllschicht (144) gebildet ist, wobei die Fensterschicht (16) in der Mitte eine Erhebung mit vorgegebener Form aufweist,
eine Kontaktschicht (17), die auf der oberen Fläche der Erhebung der Fensterschicht (16) gebildet ist,
eine Isolationsschicht (18), die auf der Fensterschicht (16) außerhalb der oberen Fläche der Erhebung gebildet ist,
eine leitfähige transparente Schicht (19), die auf der Kontaktschicht (17) und die Isolationsschicht (18) gebildet ist und mit der Kontaktschicht (17) zu einem ohmschen Kontakt führt, und
eine vordere Elektrode (20), die im Bereich außerhalb der Erhebung auf der leitfähigen transparenten Schicht (19) gebildet ist,
umfaßt.
8. Leuchtdiode nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die aktive Schicht (142) AIGaInP enthält, die Fensterschicht (16) ein Material enthält, das aus der GaP, GaAsP, GaInP, AIGaInP und AIGaAs enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, die Kontaktschicht (17) ein Material enthält, das aus der GaP, GaAsP, GaInP und GaAs enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, die leitfähige transparente Schicht (19) ein Material enthält, das aus der Indiumzinnoxid, Indiumoxid, Zinnoxid, Zinkoxid und Magnesiumoxid enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, das Substrat (12) GaAs enthält, die untere Hüllschicht (140) AIGaInP enthält, die obere Hüllschicht (144) AIGaInP enthält, und die Isolationsschicht (18) ein Material enthält, das aus der Siliziumoxid, Siliziumnitrit und Aluminiumoxid enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, daß zwischen dem Halbleitersubstrat (12) und Schichtstruktur (14) eine verteilte Bragg- Reflektorschicht (30) gebildet ist, die ein Material enthält, das aus der AIGaInP und AIGaAs enthaltenden Gruppe ausgewählt ist, und daß die Nut mit vorgegebener Form eine Ringnut ist.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2190036A1 (de) * 2008-11-24 2010-05-26 LG Innotek Co., Ltd. Lichtemittierende Vorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE10224219B4 (de) * 2002-05-31 2010-05-27 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lichtemittierendes Halbleiterbauelement mit zumindest teilweise voneinander getrennten Lichterzeugungs- und Lichtauskopplungsbereichen
EP2226856A1 (de) 2009-03-03 2010-09-08 LG Innotek Co., Ltd. Lichtemittierende Vorrichtung
EP2015372A3 (de) * 2007-07-12 2013-02-06 OSRAM Opto Semiconductors GmbH Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6512248B1 (en) * 1999-10-19 2003-01-28 Showa Denko K.K. Semiconductor light-emitting device, electrode for the device, method for fabricating the electrode, LED lamp using the device, and light source using the LED lamp
US6448584B1 (en) * 2000-01-14 2002-09-10 Shih-Hsiung Chan Light emitting diode with high luminance and method for making the same
US6420732B1 (en) * 2000-06-26 2002-07-16 Luxnet Corporation Light emitting diode of improved current blocking and light extraction structure
US6459098B1 (en) 2000-07-26 2002-10-01 Axt, Inc. Window for light emitting diode
US6420736B1 (en) * 2000-07-26 2002-07-16 Axt, Inc. Window for gallium nitride light emitting diode
JP3910817B2 (ja) * 2000-12-19 2007-04-25 ユーディナデバイス株式会社 半導体受光装置
US7233028B2 (en) * 2001-02-23 2007-06-19 Nitronex Corporation Gallium nitride material devices and methods of forming the same
JP2002280602A (ja) * 2001-03-21 2002-09-27 Toshiba Corp 垂直共振器型発光ダイオード及びその発光ダイオードを用いた光送信モジュール
JP4148494B2 (ja) * 2001-12-04 2008-09-10 シャープ株式会社 窒化物系化合物半導体発光素子およびその製造方法
JP3872398B2 (ja) * 2002-08-07 2007-01-24 信越半導体株式会社 発光素子の製造方法及び発光素子
DE10261676A1 (de) * 2002-12-31 2004-07-22 Osram Opto Semiconductors Gmbh Leuchtdioden-Chip mit strahlungsdurchlässiger elektrischer Stromaufweitungsschicht
US20040227141A1 (en) * 2003-01-30 2004-11-18 Epistar Corporation Light emitting device having a high resistivity cushion layer
US7560739B2 (en) * 2004-06-29 2009-07-14 Intel Corporation Micro or below scale multi-layered heterostructure
CN1921156A (zh) * 2005-08-26 2007-02-28 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 发光二极体光源模组及其制造方法
JP2007123517A (ja) * 2005-10-27 2007-05-17 Toshiba Corp 半導体発光素子及び半導体発光装置
DE102005061797B4 (de) * 2005-12-23 2020-07-09 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lumineszenzdiodenchip mit Stromaufweitungsschicht und Verfahren zu dessen Herstellung
KR100734375B1 (ko) 2006-03-21 2007-07-03 엘지전자 주식회사 수직형 발광 소자 및 그 제조방법
US9488779B2 (en) 2013-11-11 2016-11-08 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company, Ltd. Apparatus and method of forming laser chip package with waveguide for light coupling
DE102017002332B4 (de) * 2017-03-13 2019-11-07 Azur Space Solar Power Gmbh Leuchtdiode

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08111544A (ja) * 1994-10-07 1996-04-30 Sharp Corp 半導体発光素子
DE19803006A1 (de) * 1997-01-29 1998-07-30 Sharp Kk Halbleiter-Lichtemissionselement und Verfahren zu dessen Herstellung
US5789768A (en) * 1997-06-23 1998-08-04 Epistar Corporation Light emitting diode having transparent conductive oxide formed on the contact layer
DE19817368A1 (de) * 1997-04-18 1998-12-24 Epistar Corp Leuchtdiode

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
NL176323C (nl) * 1975-03-11 1985-03-18 Philips Nv Halfgeleiderinrichting voor het opwekken van incoherente straling.
US5153889A (en) * 1989-05-31 1992-10-06 Kabushiki Kaisha Toshiba Semiconductor light emitting device
US5861636A (en) * 1995-04-11 1999-01-19 Nec Corporation Surface emitting visible light emiting diode having ring-shaped electrode
US6040590A (en) * 1996-12-12 2000-03-21 California Institute Of Technology Semiconductor device with electrostatic control

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH08111544A (ja) * 1994-10-07 1996-04-30 Sharp Corp 半導体発光素子
DE19803006A1 (de) * 1997-01-29 1998-07-30 Sharp Kk Halbleiter-Lichtemissionselement und Verfahren zu dessen Herstellung
DE19817368A1 (de) * 1997-04-18 1998-12-24 Epistar Corp Leuchtdiode
US5789768A (en) * 1997-06-23 1998-08-04 Epistar Corporation Light emitting diode having transparent conductive oxide formed on the contact layer

Non-Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Patent Abstracts of Japan & JP 08111544 A, JPO, 1996 *

Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10224219B4 (de) * 2002-05-31 2010-05-27 Osram Opto Semiconductors Gmbh Lichtemittierendes Halbleiterbauelement mit zumindest teilweise voneinander getrennten Lichterzeugungs- und Lichtauskopplungsbereichen
EP2015372A3 (de) * 2007-07-12 2013-02-06 OSRAM Opto Semiconductors GmbH Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterchips
EP3121858A1 (de) * 2007-07-12 2017-01-25 Osram Opto Semiconductors Gmbh Halbleiterchip und verfahren zur herstellung eines halbleiterchips
EP2190036A1 (de) * 2008-11-24 2010-05-26 LG Innotek Co., Ltd. Lichtemittierende Vorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
US8569784B2 (en) 2008-11-24 2013-10-29 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device and method for manufacturing the same
EP2226856A1 (de) 2009-03-03 2010-09-08 LG Innotek Co., Ltd. Lichtemittierende Vorrichtung
US9705037B2 (en) 2009-03-03 2017-07-11 Lg Innotek Co., Ltd. Light emitting device, light emitting device package and lighting system including the same

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Publication number Publication date
DE19937624B4 (de) 2007-05-24
US6225648B1 (en) 2001-05-01

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