DE19924204A1 - Einrichtung und Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlen - Google Patents
Einrichtung und Verfahren zur Erzeugung von RöntgenstrahlenInfo
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Abstract
Es wird eine Einrichtung (10) und ein Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlen (11) vorgeschlagen, bei dem Laserlicht (12) auf die Oberfläche (14) eines Substrats (13) gerichtet wird. Dadurch wird auf der Oberfläche des Substrats (13) ein eine Röntgenstrahlenquelle bildendes Substrat-Atomplasma (16) erzeugt. Dabei ist das Substrat (13) in Richtung (17) des Laserlichts (12) vor einer zu untersuchenden Probe (18) angeordnet, wobei die Probe (18) für Analyse- oder Nachweiszwecke mit den Röntgenstrahlen (11) beaufschlagt wird, die durch das Substrat-Atomplasma (16) erzeugt werden.
Description
Die Erfindung betrifft eine Einrichtung zur Erzeugung
von Röntgenstrahlen, insbesondere für die Röntgenanaly
se, umfassend eine Laserlichtquelle, mittels der Laser
licht auf eine Oberfläche eines Substrats gerichtet
wird, wodurch auf der Oberfläche des Substrats ein eine
Röntgenstrahlenquelle bildendes Substrat-Atomplasma er
zeugbar ist, sowie ein Verfahren zur Erzeugung von
Röntgenstrahlen.
Im Stand der Technik sind grundsätzlich zwei Arten von
Röntgenstrahlenquellen bekannt. Einerseits werden Rönt
genstrahlen mit klassischen Röntgenröhren erzeugt, und
zwar in den unterschiedlichsten Bauarten und Varianten,
einschließlich derjenigen, die über eine Drehanode ver
fügen. Diese konventionelle Art der Erzeugung von Rönt
genstrahlen wird jedoch sowohl im Hinblick auf die In
tensität als auch bezüglich der Brillanz der erzeugten
Röntgenstrahlen trotz intensiver Bemühungen der For
schung voraussichtlich immer unbefriedigend bleiben, was
letztlich physikalisch bedingt ist.
Eine andere Möglichkeit der Erzeugung von Röntgenstrah
len ist das Herausfiltern geeigneter Röntgenstrahlen aus
dem Strahlungskontinuum der Synchrotronstrahlung für
spezielle Forschungs- und Analysevorhaben, wie es beim
natürlichen Betrieb von Synchrotron-Beschleunigern
entsteht. Die dort erzeugten Röntgenstrahlen können zwar
höchste Ansprüche erfüllen, jedoch lassen aufgrund ihrer
eingeschränkte Verfügbarkeit sowie die hohen Kosten
einen universellen Einsatz insbesondere auch bei einem
Analyseeinsatz vor Ort oder auch im Labor nicht zu.
Im Stand der Technik werden neuerdings Röntgenstrahlen
quellen besonders für Röntgenstrahlen niedriger Energie
beschrieben, die mit Hilfe von Hochleistungslasern auf
der Oberfläche eines geeigneten Substrats ein Sub
strat-Atomplasma bzw. eine Substrat-Atomplasmawolke
erzeugen, die wegen ihrer geringen Ausdehnung im µm-
Bereich eine intensive, räumlich eng begrenzte, punkt
förmige Röntgenquelle darstellt. Diese Technik wird
gegenwärtig als bevorzugte Hochleistungsröntgenquelle
angesehen, da sie in Laboratorien, d. h. vor Ort der
Analyse, ob nun in der Industrie oder im Bereich der
wissenschaftlichen Forschung, insbesondere aber auch in
der Halbleiterindustrie unmittelbar verwendet werden
kann.
Einrichtungen, mit denen ein Substrat-Atomplasma erzeugt
wird, weisen aber immer noch ein grundsätzliches Problem
auf, das bisher einschränkend auf die an sich gewollten
vielfältigen Einsatzmöglichkeiten in der Forschung aber
auch in der industriellen Analytik wirkt. Die Wechsel
wirkung des Laserlichts mit der Substratoberfläche
erzeugt bedauerlicherweise nicht nur das gewünschte
Substrat-Atomplasma, sondern es werden auch Trümmer
bruchstücke aus dem Oberflächenmaterial des Substrats
freigesetzt. Die Ausbreitung dieser Bruchstücke, die ein
bis mehrere µm groß sein können, ist gravierend nach
teilig und muß unbedingt vermieden werden, weil diese
sich beispielsweise auf den Spiegelflächen nachgeschal
teter Röntgenoptik niederschlagen bzw. weil sie die
eigentliche Probe, die mit den vom Substrat-Atomplasma
ausgehenden Röntgenstrahlen beaufschlagt wird, ver
schmutzt.
Es hat viele Versuche gegeben, die Entstehung von
Trümmerstücken auf der Oberfläche der Probe zu verhin
dern, beispielsweise dadurch, daß eine Targetsubstanz
dem Laserlicht in Form kleiner Tröpfchen einer orga
nischen Flüssigkeit dargeboten wird. Die Geschwindigkeit
und Abfolge der Tröpfchen wird beispielsweise mit einer
Laserimpulsfrequenz synchronisiert mit der Folge, daß
die Tröpfchen gewissermaßen einzeln "abgeschossen"
werden und sie lassen wegen ihres mikroskopisch kleinen
Volumens, das durch einen einzelnen Laserimpuls annä
hernd vollständig in ein Atomplasma überführt wird, kaum
noch Trümmerbruchstücke zu.
Ein wesentlicher Nachteil des Tröpfchenverfahrens
besteht darin, daß die Trümmer zwar vermindert, aber
nicht vollständig ausgeschlossen werden, wobei auch
nachteilig ist, daß eben dieses Verfahren auf flüssige
Targets mit geeigneter Viskosität und Oberflächenspan
nung beschränkt ist, um eine Tröpfchenbildung zu stabi
lisieren.
Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung eine
Einrichtung und ein Verfahren zur Erzeugung von
Röntgenstrahlen der eingangs genannten Art zu schaffen,
mit denen die bisherigen Einschränkungen auf flüssige
Targets aufgehoben wird und die eigentliche Probe, die
mit Röntgenstrahlen aus dem Atomplasma beaufschlagt
werden sollen, nicht mit Trümmerbruchstücken aus der
Substratoberfläche beaufschlagt oder auch nur beeinflußt
werden, wobei die Einrichtung und das Verfahren mit an
sich im Stand der Technik bekannten Einzelkomponenten
ausführbar und betreibbar sein sollen, so daß diese
kostengünstig sowohl in Forschungslaboratorien als auch
im Bereich der Analyse beispielsweise im Rahmen der
Herstellung von Halbleiterwafern in der industriellen
Analyse eingesetzt bzw. durchgeführt werden können.
Gelöst wird die Aufgabe gemäß der erfindungsgemäßen
Einrichtung dadurch, daß das Substrat in Richtung des
Laserlichts vor einer zu untersuchenden Probe angeordnet
ist.
Der Vorteil der erfindungsgemäßen Einrichtung ist, daß
damit ein bisher nicht einmal angedachter Weg beschrit
ten wird, d. h. die eigentlich zu untersuchende Probe,
die von den durch das Atomplasma erzeugten Röntgenstrah
len beaufschlagt wird, wird vom Substrat-Atomplasma
quasi abgeschirmt, so daß keine Trümmerbruchstücke, die
neben dem Substrat-Atomplasma als Werkstoff des Sub
strats bei der Beaufschlagung mittels Laserlicht entste
hen, die Probe erreichen können. Vielmehr werden die
Trümmerbruchstücke auf den Raum beschränkt, der von der
der Probe abgewandten Seite des Substrats gebildet wird,
d. h. auf der der Probe zugewandten Seite des Substrats
können die Probe bzw. ggf. vorgesehene röntgenoptischen
Komponenten nicht mehr verunreinigt werden.
Die Dicke des Substrats wird dabei durch Rechnungen bzw.
experimentell in Abstimmung mit der Art und der Energie
des Laserlichts derart festgelegt, daß noch eine ausrei
chend große Intensität der durch das Substrat-Atomplasma
erzeugten Röntgenstrahlen das Substrat durchquert und
auf die Probe fällt.
Prinzipiell ist es möglich, das Laserlicht über eine
vorbestimmte Zeit kontinuierlich auf das Substrat zur
Erzeugung eines Substrat-Atomplasmas einwirken zu
lassen. Dieses wird von der Dicke des Substrats abhängig
sein. Für viele Untersuchungen, insbesondere im Bereich
der Analytik, ist es allerdings sinnvoll, eine hohe
Intensität und eine hohe Brillanz der Röntgenstrahlen zu
erreichen, selbst wenn die Strahlung nur für kurze Zeit,
die allerdings für die Messung auch in vielen Fällen
ausreichend ist, zur Verfügung steht. Es wird deshalb
die Einrichtung derart vorteilhaft ausgestaltet, daß das
Laserlicht gepulstes Laserlicht ist.
Regelmäßig ist das Substrat von gleicher atomarer bzw.
molekularer Zusammensetzung wie die zu untersuchende
Probe. Es kann aber auch vorteilhaft sein, als Substrat
eine Folie zu verwenden, die ggf. auch von anderer
atomarer bzw. molekularer Beschaffenheit sein kann, als
die zu untersuchende Probe. Es handelt sich aber regel
mäßig um solche, die eine geringe Dicke aufweisen,
unabhängig davon, ob sie feste Substrate oder Substrate
in Folienform sind.
Das Substrat kann vorteilhafterweise so gewählt werden,
daß es als Filterelement wirkt, d. h. daß eine gewollte
charakteristische Röntgenlinie bzw. mehrere gewollte
charakteristische Röntgenlinien des Substratwerkstoffs
erzeugt bzw. durchläßt, d. h. daß die charakteristische
Röntgenlinie bzw. die charakteristischen Röntgenlinien
des Substrats gegenüber dem niederenergetischen Quasi
kontinuum bevorzugt durchgelassen wird bzw. werden.
Nach einer bestimmten Beaufschlagung eines bestimmten
Ortes des Substrats mit dem Laserlicht, ob nun über
einen längeren Zeitraum kontinuierlich oder aber mit mit
hoher Energie gepulsten Laserlichtes, wird der entspre
chende Ort des Auftreffens des Laserlichts auf der
Substratoberfläche "verbraucht", da es vermieden werden
muß, daß das Substrat-Atomplasma das Substrat durch
dringt und Trümmerbruchstücke auf die Probe bzw. nach
geschaltete Analyseoptik gelangen können. Um dennoch die
erfindungsgemäße Einrichtung für ein an sich unbe
schränktes Maß an Reihenuntersuchungen bzw. Reihenana
lysen zur Verfügung zu haben, ist es vorteilhaft, das
Substrat relativ zum darauf auftreffenden Laserlicht in
wenigstens zwei Freiheitsgraden bewegbar auszubilden, so
daß quasi nach einem erzeugten Substrat-Atomplasma für
eine Messung bzw. Analyse für die nächste Messung bzw.
Analyse das Substrat relativ zum Laserlicht verschoben
wird und dann erneut ein Substrat-Atomplasma erzeugbar
ist.
Neben der Verschiebbarkeit des Substrats in der Ebene
kann es auch vorteilhaft sein, das Substrat relativ zum
darauf auftreffenden Laserlicht um wenigstens eine Achse
drehbar auszubilden, so daß durch Verdrehung des Sub
strats jeweils wieder ein neuer Ort für die Ausbildung
eines Substrat-Atomplasmas für eine Neumessung erreich
bar ist. Es ist auch möglich, die Drehung und die
Verschiebung des Substrates zu überlagern.
Ein Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlen, insbe
sondere für die Röntgenfluoreszenzanalyse, mittels
Laserlicht, das auf eine Oberfläche eines Substrats
gerichtet wird, wodurch auf der Oberfläche des Substrats
ein eine Röntgenstrahlenquelle bildendes Substrat-Atom
plasma erzeugt wird, ist dadurch gekennzeichnet, daß
eine mit den erzeugten Röntgenstrahlen für Analyse- oder
Nachweiszwecke beaufschlagte Probe in Richtung des
Laserstrahls hinter dem Substrat angeordnet wird.
Der Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens besteht im
wesentlichen darin, daß damit eine Röntgenstrahlenquelle
bereitgestellt werden kann, die im Hinblick auf Inten
sität und Brillanz höchsten Ansprüchen genügt und damit
auf einfache Weise Nachweisgrenzen an Verunreinigungen
beispielsweise im Oberflächenbereich von Siliziumwafern
möglich sind, die bisher als mit laborgestützten konven
tionellen Röntgenstrahlenquellen in der Fachwelt als
unerreichbar galten.
Zur Ausführung des erfindungsgemäßen Verfahrens ist
grundsätzlich kontinuierliches Laserlicht benutzbar um
jedoch sehr hohe Intensitäten an Röntgenstrahlen für die
eigentliche Untersuchung einer Probe zu erreichen, ist
es vorteilhaft, gepulstes Laserlicht zu verwenden.
Für den Nachweis leichter Elemente beispielsweise auf
der Oberfläche einer Probe in Form eines Siliziumwafers
eignet sich hervorragend die Silizium-Ka Strahlungsli
nie, die das Silizium des Wafers selbst nicht anregt. Um
diese oder auch andere bevorzugte Strahlungslinien für
bestimmte Untersuchungen zur Verfügung zu haben, wird
das Substrat vorteilhafterweise mit einer oder mehreren
vorbestimmten und oder gewollten Röntgenlinie bzw.
Röntgenlinien nicht nur als über das Atomplasma erzeugte
Röntgenstrahlungsquelle verwendet, sondern auch vor
zugsweise als Filterelement, wobei die Röntgenstrahlung
mit der gewollt erzeugten bestimmten Röntgenlinie bzw.
den Röntgenlinien auf die Probe gerichtet wird. So ist
beispielsweise bei Auswahl bzw. Verwendung der erwähnten
Silizium-Ka Strahlungslinie ein Nachweis der leichten
Elemente bis hin zum Element Aluminium auf einfache
Weise möglich.
Um einerseits gesonderte Fokussierungseinrichtungen für
die Röntgenstrahlung zu vermeiden und auch Streuverluste
so gering wie möglich zu halten, wird die Probe schließ
lich vorzugsweise unmittelbar hinter dem Substrat
angeordnet.
Die Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die nach
folgenden schematischen Zeichnungen anhand eines Aus
führungsbeispiels im einzelnen beschrieben. Darin
zeigen:
Fig. 1 einen Ausschnitt aus der Einrichtung, im
wesentlichen das durch das Laserlicht beauf
schlagte Substrat sowie das dadurch gebildete
Substrat-Atomplasma zeigend, und
Fig. 2 in perspektivischer Darstellung das durch das
Laserlicht beaufschlagte Substrat sowie die
unter dem Substrat angeordnete Probe, von der
reflektierte Fluoreszenzstrahlung auf einen
Nachweisdetektor gelangt.
Die Einrichtung 10 zur Erzeugung von Röntgenstrahlen 11
ist in Fig. 1 unter Weglassung von hier nicht interes
sierenden Details dargestellt. So ist hier eine Laser
lichtquelle, mit der Laserlicht 12 erzeugt wird, nicht
dargestellt. Als Laserlichtquellen können im Prinzip
alle geeigneten, im Handel erhältlichen Laserlicht
quellen verwendet werden. Von der Laserlichtquelle aus
wird Laserlicht 12, bevorzugt in gepulster Form, in
Richtung 17 auf die Oberfläche 14 eines Substrats 13
gerichtet. Dieses wird bevorzugt geeignet fokussiert auf
die Oberfläche 14 des Substrats 13 gelenkt, um eine
möglichst kleindimensionierte, räumlich eng begrenzte
punktförmige Röntgenstrahlenquelle 15 zu erzeugen.
Durch das Laserlicht 12 wird ein Teil des Substrats 13
in ein Substrat-Atomplasma 16 überführt, das die Rönt
genstrahlenquelle 15 bildet. Ein Teil der durch das
Substrat-Atomplasma 16 erzeugten Röntgenstrahlen 11
durchquert das Substrat 13, das beispielsweise als Folie
oder als flächenförmige dünne Scheibe ausgebildet sein
kann.
Bei der Beaufschlagung der Oberfläche 14 des Substrats
13 mit Laserlicht 12 entstehen neben der als Röntgen
strahlenquelle gewünschten Atomplasmawolke 16 ein Krater
in der Oberfläche 14 des Substrats 13 sowie hier nicht
dargestellte unvermeidbare Trümmerbruchstücke.
Gemäß der Erfindung wird die Dicke 23 des Substrats 13
durch Rechnungen bzw. experimentell auf die verwendete
Lasereinrichtung bzw. das verwendete Laserlicht 12
derart abgestimmt, daß nach folgender Gleichung
Kratertiefe + Filterstrecke 24 = Dicke des Substrats
13 bzw. Dicke des
folienförmigen
Substrats 13
für die Absorption und Filterstrecke, vgl. Fig. 1, ca. 1
bis 5 µm an Dicke des Substrats 13 übrig bleibt.
Unterhalb, bezogen auf die Darstellung der Fig. 1 und
2, des Substrats 13, d. h. in Richtung 17 des Laserlichts
12 hinter dem Substrat 13, ist die eigentlich zu unter
suchende Probe 18, beispielsweise in Form eines auf
metallische Verunreinigungen zu untersuchenden Silizi
umwafers, angeordnet. Auf an sich bekannte Weise wird
aufgrund der einfallenden primären Röntgenstrahlen 11
auf die Probe 18 Röntgenfluoreszenzstrahlung 22 erzeugt,
die in einem flachen Winkel relativ zur Oberfläche der
Probe 18 auf an sich bekannte Weise auf einen Detektor
21 gegeben wird, mittels dem auf dem Gebiet der Rönt
genfluoreszenzanalyse bekannte Weise Aussagen quantita
tiver und qualitativer Art über die Verunreinigungen auf
bzw. in der Probe 18 gemacht werden können.
Fig. 2 zeigt ein Substrat 13, das hier rund und schei
benförmig ausgebildet ist und um eine Achse 19, bei
spielsweise in Richtung des Pfeiles 20, drehbar ist.
Prinzipiell kann das Substrat 13 beliebig flächig
entweder als dünne, starre Scheibe oder als Folie
ausgebildet sein.
Das Substrat 13 kann beispielsweise auch in wenigstens
zwei Freiheitsgraden bewegbar ausgebildet sein, d. h.
alternativ oder zusätzlich zu der Drehbarkeit um die
Achse 19.
Damit die oben aufgestellte einfache Gleichung nicht nur
für jeden einzelnen Impuls des Laserlichts 12 sondern
auch für eine möglichst ausgedehnte Folge solcher
Laserlichtimpulse gültig bleibt, muß das Substrat 13
entweder durch lineare Verschiebung und/oder Drehung
bewegt werden, so daß das Laserlicht 12 immer auf einen
noch unbeaufschlagten Ort auf der Oberfläche 14 des
Substrats 13 trifft. Um einen ökonomischen Betrieb der
Einrichtung 10 bzw. des Verfahrens zu gewährleisten,
sollten die Beaufschlagungsorte auf der Oberfläche 14
des Substrats 13 mittels Laserlicht 12 unter Berück
sichtigung der Einhaltung der obigen Gleichung so dicht
wie möglich liegen. Da sich das Substrat 13 für eine
Reihenmessung sehr schnell verbraucht, kann durch die
angegebene Methode das Substrat 14 optimal ausgenutzt
werden.
Hervorzuheben ist noch, daß die Erfindung einschließlich
der in den beiden Figuren dargestellten Ausgestaltungen
nicht auf die hier beispielhaft beschriebene Verwendung
beschränkt ist. Grundsätzlich kann die Einrichtung 10
und auch das erfindungsgemäße Verfahren mit allen
Substraten 13 betrieben werden, die sich als ausreichend
dünne flächenförmige Scheiben bzw. Folien herstellen
lassen und sie sind überall dort einsetzbar, wo inten
sive punktförmige Quellen für Röntgenstrahlen, insbe
sondere in Kombination mit geeigneten Röntgenoptiken,
benötigt werden.
Mit der Erfindung wird somit vorteilhafterweise er
reicht, daß
die Trümmerbruchstücke auf den Raum oberhalb der Oberfläche 14 des Substrats 13, bezogen auf die Geometrie der beiden Ausgestaltungen gemäß Fig. 1 und 2, beschränkt sind. Unterhalb des Substrats 13 können die Probe 18 bzw. hier nicht dargestellte röntgenoptische Komponenten nicht mehr verunreinigt werden.
die Trümmerbruchstücke auf den Raum oberhalb der Oberfläche 14 des Substrats 13, bezogen auf die Geometrie der beiden Ausgestaltungen gemäß Fig. 1 und 2, beschränkt sind. Unterhalb des Substrats 13 können die Probe 18 bzw. hier nicht dargestellte röntgenoptische Komponenten nicht mehr verunreinigt werden.
Die Röntgenstrahlen aus der Substrat-Atomplas
mawolke 16 werden vorteilhaft dahingehend
gefiltert, daß eine oder mehrere charakteri
stische Röntgenlinie bzw. Röntgenlinien des
Werkstoffs des Substrats 13 gegenüber dem
niederenergetischen Quasikontinuum bevorzugt
durchgelassen wird bzw. werden.
10
Einrichtung
11
Röntgenstrahl
12
Laserlicht
13
Substrat
14
Oberfläche (Substrat)
15
Röntgenstrahlenquelle
16
Substrat-Atomplasma
17
Richtung (Laserlicht)
18
Probe
19
Achse
20
Drehrichtung
21
Detektor
22
Fluoreszenzstrahl
23
Dicke
24
Filterstrecke
Claims (10)
1. Einrichtung zur Erzeugung von Röntgenstrahlen,
insbesondere für die Röntgenfluoreszenzanalyse, umfas
send eine Laserlichtquelle, mittels der Laserlicht auf
eine Oberfläche eines Substrats gerichtet wird, wodurch
auf der Oberfläche des Substrats ein eine Röntgenstrah
lenquelle bildendes Substrat-Atomplasma erzeugbar ist,
dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (13) in Rich
tung (17) des Laserlichts (12) vor einer zu untersu
chenden Probe (18) angeordnet ist.
2. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß das Laserlicht (12) gepulstes Laserlicht (12) ist.
3. Einrichtung nach einem oder beiden der Ansprüche 1
oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (13)
eine Folie ist.
4. Einrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (13) ein
Filterelement ist, das eine gewollte, charakteristische
Röntgenlinie des Substratwerkstoffs durchläßt bzw.
erzeugt.
5. Einrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (13)
relativ zum darauf auftreffenden Laserlicht (12) in
wenigstens zwei Freiheitsgraden bewegbar ist.
6. Einrichtung nach einem oder mehreren der Ansprüche 1
bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat (13)
relativ zum darauf auftreffenden Laserlicht (12) um
wenigstens eine Achse (19) drehbar ist.
7. Verfahren zur Erzeugung von Röntgenstrahlen, insbe
sondere für die Röntgenfluoreszenzanalyse, mittels
Laserlicht, das auf einer Oberfläche eines Substrats
gerichtet wird, wodurch auf der Oberfläche des Substrats
ein eine Röntgenstrahlenquelle bildendes Substrat-Atom
plasma erzeugt wird, dadurch gekennzeichnet, daß eine
mit den erzeugten Röntgenstrahlen für Analyse- oder
Nachweiszwecke beaufschlagte Probe in Richtung des
Laserlichts hinter dem Substrat angeordnet wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß als Laserlicht gepulstes Laserlicht verwendet wird.
9. Verfahren nach einem oder beiden der Ansprüche 7 oder
8, dadurch gekennzeichnet, daß das Substrat mit einer
oder mehreren vorbestimmten und/oder gewollten Röntgen
linie bzw. Röntgenlinien als Filterelement verwendet
wird, wobei die Röntgenstrahlung mit der erzeugten
Röntgenlinie bzw. den Röntgenlinien auf die Probe
gerichtet werden.
10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 7
bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Probe unmittelbar
hinter dem Substrat angeordnet ist.
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DE (1) | DE19924204A1 (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2019154475A1 (fr) | 2018-02-06 | 2019-08-15 | Jodon De Villeroche Gerard Alain Jacques Marie | Système de portage de caméras et leurs écrans fixes sur des attaches au rétroviseur intérieur ou autres emplacements |
CN108362717B (zh) * | 2018-05-21 | 2024-08-27 | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 | 一种激光等离子体x射线ct成像装置及方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4322852A1 (de) * | 1992-07-09 | 1994-01-13 | Agency Ind Science Techn | Elektronenspektroskopiegerät |
EP0723385A1 (de) * | 1995-01-18 | 1996-07-24 | Shimadzu Corporation | Apparat zur Erzeugung von Röntgenstrahlen und Röntgenstrahlmikroskop |
DE19743311A1 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Target für die Erzeugung gepulster Röntgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung |
US5781608A (en) * | 1995-06-14 | 1998-07-14 | Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry | X-ray exposure system |
EP0858249A1 (de) * | 1997-02-07 | 1998-08-12 | Hitachi, Ltd. | Röntgenstrahlenquelle mittels laser erzeugtem Plasma, und Vorrichtung für Halbleiterlithographie und Verfahren unter Verwendung derselben |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3342531A1 (de) * | 1983-11-24 | 1985-06-05 | Max Planck Gesellschaft | Verfahren und einrichtung zum erzeugen von kurz dauernden, intensiven impulsen elektromagnetischer strahlung im wellenlaengenbereich unter etwa 100 nm |
US4872189A (en) * | 1987-08-25 | 1989-10-03 | Hampshire Instruments, Inc. | Target structure for x-ray lithography system |
JPH0732073B2 (ja) * | 1991-07-19 | 1995-04-10 | 工業技術院長 | 極短波長レーザ用プラズマ発生装置 |
-
1999
- 1999-05-27 DE DE1999124204 patent/DE19924204A1/de not_active Ceased
-
2000
- 2000-05-23 EP EP00110869A patent/EP1056317A3/de not_active Ceased
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4322852A1 (de) * | 1992-07-09 | 1994-01-13 | Agency Ind Science Techn | Elektronenspektroskopiegerät |
EP0723385A1 (de) * | 1995-01-18 | 1996-07-24 | Shimadzu Corporation | Apparat zur Erzeugung von Röntgenstrahlen und Röntgenstrahlmikroskop |
US5781608A (en) * | 1995-06-14 | 1998-07-14 | Agency Of Industrial Science & Technology, Ministry Of International Trade & Industry | X-ray exposure system |
DE19743311A1 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Target für die Erzeugung gepulster Röntgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung |
EP0858249A1 (de) * | 1997-02-07 | 1998-08-12 | Hitachi, Ltd. | Röntgenstrahlenquelle mittels laser erzeugtem Plasma, und Vorrichtung für Halbleiterlithographie und Verfahren unter Verwendung derselben |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
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