DE19904493A1 - Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen MedienInfo
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Abstract
Bei einem Verfahren, das auf einer Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien durchgeführt wird, wird zunächst das aufzubereitende Medium in einen Vorreaktionsbehälter (7) eingeleitet, dem ozonhaltiges Gas (33) zugeführt wird. Von dem Vorreaktionsbehälter (7) wird das Medium in einen Hauptreaktionsbehälter (11) übergeleitet, dem ozonhaltiges Gas (35) zugeführt wird. In dem Hauptreaktionsbehälter (11) wird das Medium mit Elektronen (20) bestrahlt. Das Medium wird von dem Hauptreaktionsbehälter (11) in einen von dem Vorreaktionsbehälter (7) separaten Nachreaktionsbehälter (14) übergeleitet, dem ozonhaltiges Gas (37) zugeführt wird.
Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vorrichtung zur
Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien.
Organische Schadstoffe, insbesondere langkettige oder komplexe
Verbindungen, stellen hinsichtlich ihrer Abbaubarkeit in
pumpfähigen (d. h. flüssigen, dickflüssigen oder schlammartigen)
Medien wie zum Beispiel Abwasser, Trinkwasser oder Grundwasser
oftmals erhebliche Probleme dar. Um organische Schadstoffe
vollständig abzubauen, zu entfernen oder das Medium biologisch
verfügbar zu machen, sind verschiedene Verfahren bekannt, die
jedoch meist sehr kostenintensiv sind oder relativ uneffektiv
arbeiten und teilweise Reststoffe zur Entsorgung hinterlassen.
Solche Verfahren sind zum Beispiel Absorption an Aktivkohle,
Behandlung mit Ozon, Bestrahlung mit ultraviolettem Licht,
verschiedene Nano- oder Ultrafiltrationsverfahren sowie auch
Kombinationen unterschiedlicher Verfahren. Bei einigen dieser
Verfahren ist der verhältnismäßig niedrige Wirkungsgrad nachtei
lig, bei anderen das Entstehen von Rückständen und bei fast allen
der meist nur unvollständige Abbau der zu behandelnden Ver
bindungen. Schwankungen in der Menge des zu behandelnden Mediums
sowie in der Konzentration der zu behandelnden Schadstoffe werden
von diesen Verfahren nur schwer abgefangen.
Aus der DE 42 09 056 A1 sind ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur physikalisch-chemischen Abwasserreinigung mittels Elek
tronenbestrahlung bekannt. Dabei wird ein sauerstoffenthaltender
Gasstrom und gleichzeitig zumindest ein Teilstrom des zu
reinigenden Abwassers einer Elektronenbestrahlung unterworfen.
Bei der Elektronenbestrahlung entsteht in dem Gasstrom Ozon, das
sich mit dem zu reinigenden Abwasser vermischt. Unter der Wirkung
der Elektronenbestrahlung werden in dem Abwasser freie Radikale
gebildet, und in der Gegenwart des Ozons kommt es zu zahlreichen
chemischen Reaktionen, bei denen die Schadstoffe abgebaut werden.
Übrig bleiben im wesentlichen stabile anorganische Verbindungen,
die gar nicht oder nur geringfügig toxisch sind. Bei Inhalts
stoffen, bei denen es nicht zu einer vollständigen Mineralisie
rung kommt, werden die Restbestandteile in einen leicht biolo
gisch abbaubaren Zustand versetzt. Färbungen, Trübungen und
Feststoffanteile haben keinen Einfluß auf die Wirksamkeit des
Verfahrens.
Bei dem in der DE 42 09 056 A1 beschriebenen Verfahren werden ein
Bestrahlungsreaktor, in dem das zu behandelnde Abwasser mit
Elektronen bestrahlt wird, und ein weiterer Reaktionsbehälter
verwendet, in den ozonhaltiges Gas eingeleitet wird. Das Abwasser
wird in einem Kreislauf fortwährend zwischen dem Bestrahlungs
reaktor und dem Reaktionsbehälter umgepumpt, wobei ein Teil des
Abwassers abgezweigt wird und in einen nachgeschalteten Zusatz
behälter gelangt, in dem es entgasen kann. Nachteilig ist dabei,
daß es unbestimmt ist, wie lange ein gegebenes Schadstoffmolekül
im Bereich des Strahlungsreaktors und des Reaktionsbehälters
verweilt. Die Verweildauer ist statistisch gesehen groß, wenn nur
ein geringer Teil des Abwassers zu dem Zusatzbehälter geführt
wird. Dies bedeutet aber, daß die Durchsatzmenge niedrig ist.
Wird dagegen der in den Zusatzbehälter geführte Teil des
Abwassers erhöht, steigt das Risiko, daß ein gegebenes Schad
stoffmolekül in dem Bestrahlungsreaktor und in dem Reaktions
behälter nicht zerstört wurde. Außerdem können durch Entgasungen
ausgetragene Schadstoffe in die Umwelt gelangen.
Es ist Aufgabe der Erfindung, ein Verfahren und eine Vorrichtung
zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen
Medien zu schaffen, die hochwirksam, kostengünstig und in
überschaubarer Weise arbeiten.
Diese Aufgabe wird gelöst durch ein Verfahren zur Aufbereitung
von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien mit den
Merkmalen des Anspruchs 1 und durch eine Vorrichtung zur
Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien
mit den Merkmalen des Anspruchs 14. Vorteilhafte Ausgestaltungen
der Erfindung ergeben sich aus den Unteransprüchen.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren zur Aufbereitung von mit
Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien wird das aufzuberei
tende Medium (zum Beispiel mit organischen Substanzen ver
unreinigtes Abwasser, Trinkwasser oder Grundwasser oder mit
Wasser dünnflüssig aufgeschlämmtes verunreinigtes Erdreich) in
einen Vorreaktionsbehälter eingeleitet, dem ozonhaltiges Gas
zugeführt wird. In Gegenwart von Ozon können in dem Vorreaktions
behälter bereits chemische Reaktionen ablaufen, insbesondere
Oxidationsreaktionen. Von dem Vorreaktionsbehälter wird das
Medium in einen Hauptreaktionsbehälter übergeleitet, dem
ozonhaltiges Gas zugeführt wird. In dem Hauptreaktionsbehälter
wird das Medium mit Elektronen bestrahlt. Unter den in dem
Hauptreaktionsbehälter herrschenden Bedingungen wirken auf die
Schadstoffmoleküle gleichzeitig Ozon und energiereiche Elektronen
ein, was zu einem effektiven Abbau der Schadstoffe führt.
Insbesondere werden freie Radikale gebildet, die mit den
Schadstoffmolekülen schnell reagieren und diese unselektiv bis
hin zur vollständigen Mineralisierung abbauen. Von dem Hauptreak
tionsbehälter wird das Medium in einen von dem Vorreaktions
behälter separaten Nachreaktionsbehälter übergeleitet, dem
ozonhaltiges Gas zugeführt wird. In dem Nachreaktionsbehälter
können in Gegenwart von Ozon weitere chemische Reaktionen
ablaufen, um Nachreaktionen im pumpfähigen Medium, also einen
besonders effektiven Schadstoffabbau, zu erreichen.
Der Vorreaktionsbehälter, der Hauptreaktionsbehälter und der
Nachreaktionsbehälter sind voneinander getrennt ausgeführt. Das
aufzubereitende pumpfähige Medium durchläuft daher die Vor
richtung in definierter Weise, und das Verfahren kann bei großer
Durchsatzmenge an Abwasser, Trinkwasser, Grundwasser oder einem
anderen belasteten pumpfähigen Medium mit hoher Effizienz
durchgeführt werden. Besonders vorteilhaft ist es, wenn das
Verfahren so gesteuert wird, daß das Medium in dem Vorreaktions
behälter, in dem Hauptreaktionsbehälter und/oder in dem Nachreak
tionsbehälter eine definierte Verweildauer hat. Dazu zählt auch
die Möglichkeit, daß in Abhängigkeit von der Schadstoffbelastung
des Mediums der Vorreaktionsbehälter und/oder der Nachreaktions
behälter umgangen wird, so daß die Verweildauer des Mediums in
dem Vorreaktionsbehälter bzw. in dem Nachreaktionsbehälter gleich
Null ist.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform treten die Elektronen über
ein Strahleintrittsfenster in den Hauptreaktionsbehälter ein, und
zwischen dem Strahleintrittsfenster und dem Medium in dem
Hauptreaktionsbehälter wird ein sauerstoffhaltiges Gas, vorzugs
weise auf Luftbasis, in einer zum Kühlen des Strahleintrittsfen
sters eingerichteten Durchflußmenge durchgeführt. Das in dem Gas
beim Durchtreten der Elektronen erzeugte Ozon stellt zumindest
einen Teil des Ozons in dem ozonhaltigen Gas dar, das dem
Vorreaktionsbehälter, dem Hauptreaktionsbehälter und/oder dem
Nachreaktionsbehälter zugeführt wird. Das Verhältnis zwischen dem
Volumen des pro Zeiteinheit zwischen dem Strahleintrittsfenster
und dem Medium in dem Hauptreaktionsbehälter durchgeführten
sauerstoffhaltigen Gases und dem Volumen des pro Zeiteinheit in
den Hauptreaktionsbehälter übergeleiteten Mediums liegt vorzugs
weise im Bereich von 0,1 : 1 bis 10 : 1 oder noch mehr bevorzugt im
Bereich von 5 : 1 bis 7 : 1. Bei dieser Ausgestaltung ist keine
zusätzliche Kühlung des Strahleintrittsfensters erforderlich, das
von den hindurchtretenden Elektronen aufgeheizt wird. Das
Verfahren arbeitet also sehr wirtschaftlich, denn in dem zum
Kühlen benutzten Gasstrom wird von den hindurchtretenden
Elektronen das für die chemischen Reaktionen verwendete Ozon
erzeugt. Der Ausnutzungsgrad der eingesetzten Energie kann 85%
oder mehr betragen. Daher wird keine separate Ozonquelle
benötigt, oder man kann gegebenenfalls zumindest mit einem
Ozonerzeuger geringerer Leistung auskommen.
Vorzugsweise wird das aus dem Vorreaktionsbehälter und dem
Nachreaktionsbehälter austretende Gas sowie optional ein Teil des
aus dem Hauptreaktionsbehälter austretenden Gases (und zwar
vorzugsweise all das Gas, das nicht als ozonhaltiges Gas den
einzelnen Reaktionsbehältern zugeführt wird) in einem geschlosse
nen System gesammelt. Dem gesammelten Gas wird dabei über eine
Regeleinrichtung Frischluft zugeführt, um Gasverluste durch
chemische Reaktionen in dem Medium und durch Austragung mit dem
Medium aus dem Nachreaktionsbehälter zu ersetzen. Das so
gesammelte und mit Frischluft angereicherte Gas wird als das
sauerstoffhaltige Gas zwischen dem Strahleintrittsfenster und dem
Medium in dem Hauptreaktionsbehälter durchgeführt. Ferner wird
zumindest ein Teil des den Hauptreaktionsbehälter verlassenden
Gases als ozonhaltiges Gas dem Vorreaktionsbehälter, dem
Hauptreaktionsbehälter und/oder dem Nachreaktionsbehälter
zugeführt. Bei Verwendung eines derartigen geschlossenen
Gassystems treten praktisch keine Umweltbelastungen auf, da nur
eine sehr geringe Menge an Gas mit dem aufbereiteten und
behandelten Medium nach außen gelangt. Dieses Gas kann mit einer
geeigneten Auffangeinrichtung gesammelt und in die Anlage
zurückgeführt werden. Weiterhin wird durch das geschlossene
System gewährleistet, daß das Gas wieder zur Kühlung des
Strahleintrittsfensters eingesetzt wird; ausgetragene Schadstoffe
werden hierbei in der Gasphase abgebaut. Nach außen gelangendes
Gas kann mit einer geeigneten Filtereinrichtung gereinigt werden.
Bei einer bevorzugten Ausführungsform haben die zur Bestrahlung
verwendeten Elektronen eine Energie im Bereich von 0,4 MeV bis
6,0 MeV, wobei die Strahlleistung im Bereich von 4 kW bis 2400
kW liegt und die dem Medium in dem Hauptreaktionsbehälter
zugeführte Strahlendosis im Bereich von 0,1 kGy bis 1000 kGy
liegt. Die Konzentration des Ozons in dem ozonhaltigen Gas
beträgt vorzugsweise 0,1 g/m3 bis 1000 g/m3. Die chemischen
Reaktionen laufen besonders schnell ab, wenn das Medium in dem
Vorreaktionsbehälter, in dem Hauptreaktionsbehälter und/oder dem
Nachreaktionsbehälter mit ozonhaltigem Gas durchmischt wird, so
daß sich das ozonhaltige Gas nicht allein durch Diffusion
verteilen muß.
Bei Bedarf können dem Vorreaktionsbehälter zusätzlich zu dem
ozonhaltigen Gas weitere Chemikalien, vorzugsweise oxidations
fördernde Chemikalien, zugeführt werden. Sollten bei der Behand
lung in den zuvor beschriebenen Stufen organische Abbauprodukte
der Schadstoffe im Medium verbleiben, wird in einer bevorzugten
Ausführungsform das Medium aus dem Nachreaktionsbehälter in eine
biologische Reinigungseinrichtung übergeleitet und dort einer
biologischen Reinigung unterzogen. Dabei können die gegebenen
falls vorhandenen organischen Abbauprodukte der Schadstoffe durch
für den speziellen Anwendungsfall adaptierte Mikroorganismen in
einer biologischen Klärstufe abgebaut werden.
Falls erforderlich, z. B. bei einer besonders hohen Schadstoff
belastung des Mediums, kann das zuvor erläuterte Verfahren
mehrfach durchgeführt werden. Dazu wird das aus dem Nachreak
tionsbehälter oder der biologischen Reinigungseinrichtung
austretende Medium erneut dem Vorreaktionsbehälter zugeführt.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren, das auf der erfindungs
gemäßen Vorrichtung durchgeführt werden kann, handelt es sich
also um ein physikalisch-chemisches Verfahren zur Reinigung von
mit verschiedenartigen organischen und auch anorganischen
Chemikalien belasteten pumpfähigen Medien, welches auf der
Bestrahlung dieser Medien mit hochenergetischen Elektronen in
Kombination mit einer Behandlung mit Ozon und gegebenenfalls
anderen Oxidationsmitteln und gegebenenfalls einer biologischen
Nachreinigung beruht. Bei einer bevorzugten Ausführungsform
entsteht in dem sauerstoffhaltigen Gas, das zur Kühlung des
Strahleintrittsfensters verwendet wird, unter der Wirkung des
Elektronenstrahls Ozon. Dieses Ozon wird dabei in einem ge
schlossenen System zur Förderung der Oxidation von Schadstoffen
genutzt. Je nach Größe der Anlage können zum Beispiel 0,1 m3/h
bis 2000 m3/h von belastetem pumpfähigem Medium wie zum Beispiel
Abwasser oder verunreinigtem Grundwasser aufbereitet werden.
Besonders wirtschaftlich arbeiten Anlagen bei einer Durch
flußmenge im Bereich von 10 m3/h bis 1000 m3/h. Die zur Kühlung
des Strahleintrittsfensters erforderliche Durchflußmenge an
sauerstoffhaltigem Gas beträgt dabei typischerweise 100 m3/h bis
5000 m3/h, was im Einzelfall von der Bauart des eingesetzten
Elektronenstrahlers und dessen Parametern (Energie bzw. Be
schleunigungsspannung, Strahlleistung, Strahlstrom) sowie der
Geometrie des Strahleintrittsfensters abhängt. Die Verhältnisse
der Mengen an dem Vorreaktionsbehälter, dem Hauptreaktions
behälter und dem Nachreaktionsbehälter zugeführtem ozonhaltigem
Gas können variabel festgelegt und auf den Einzelfall optimiert
werden. So kann zum Beispiel das Verhältnis der pro Zeiteinheit
in den Hauptreaktionsbehälter eintretenden Mengen an zu behan
delndem Medium zu ozonhaltigem Gas im Bereich von 0,1 : 1 bis 1 : 10
(vorzugsweise 1 : 5 bis 1 : 7) liegen.
Ein positiver Nebeneffekt der Verwendung eines geschlossenen
Gaskreislaufs ist, daß aus dem zu behandelnden Medium ausgetra
gene flüchtige organische Substanzen mit Hilfe des in dem Gas
enthaltenen Ozon sowie durch Elektronenbestrahlung in der
Gasphase abgebaut werden können.
Im folgenden wird die Erfindung anhand eines Ausführungsbeispiels
näher beschrieben. Die Zeichnung zeigt in
Fig. 1 ein Blockdiagramm einer erfindungsgemäßen Vorrichtung
zum Ausführen eines erfindungsgemäßen Verfahrens zur
Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähi
gen Medien.
Ein Ausführungsbeispiel für eine Vorrichtung zur Aufbereitung von
mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien wird im folgenden
anhand des in Fig. 1 gezeigten Blockdiagramms erläutert.
Gleichzeitig wird dabei deutlich, wie ein auf dieser Vorrichtung
ausgeübtes Verfahren abläuft.
Das zu behandelnde und aufzubereitende pumpfähige Medium wird
über eine Zuführung 1 und ein Regulierventil 2 mit Hilfe einer
Fördereinrichtung 4 (zum Beispiel einer Pumpe) einem Vorreak
tionsbehälter 7 zugeführt. Während der Zuführung können dem zu
behandelnden Medium mit Hilfe einer Dosiereinrichtung 3 über eine
Chemikalienzugabe 5 mit einem Regulierventil 6 kontinuierlich
reaktionsfördernde Chemikalien zudosiert werden.
In dem Vorreaktionsbehälter 7 hat das Medium eine definierte
Verweildauer, die durch die eingestellte Strömungsgeschwindigkeit
bestimmt wird. Nach der Vorreaktion (siehe unten) wird das Medium
mittels einer Fördereinrichtung 9 (Pumpe) über eine Entleerungs
einrichtung 8 in einen Hauptreaktionsbehälter 11 geführt. Dort
strömt es von einem Zulauf 10 langsam in Richtung auf einen
Überlauf 12. In einer Behandlungskammer 42, die im oberen Bereich
des Hauptreaktionsbehälters 11 angeordnet ist, wird das Medium
einer Elektronenbestrahlung (siehe unten) ausgesetzt. Danach wird
das Medium mittels einer Fördereinrichtung 13 (Pumpe) vom
Überlauf 12 des Hauptreaktionsbehälters 11 in einen Nachreak
tionsbehälter 14 gefördert. Nach einer definierten Verweildauer,
die durch die Strömungsgeschwindigkeit bestimmt ist, kann das
Medium über eine Entleerungseinrichtung 15 mittels einer
Fördereinrichtung 16 (z. B. Pumpe) zu einer biologischen Reini
gungseinrichtung 17 gefördert werden. Die Verweildauer des
Mediums in der biologischen Reinigungseinrichtung 17 richtet sich
nach den Restinhaltsstoffen des behandelten Mediums und den in
der biologischen Reinigungsstufe 17 zum Einsatz kommenden
Mikroorganismen. Nach der biologischen Reinigung wird das
gereinigte Medium 19 mittels einer Fördereinrichtung 18 (Pumpe)
abgeführt.
Für die Elektronenbestrahlung des zu behandelnden Mediums wird
ein handelsüblicher Elektronenstrahler 20 mit einer Strahllei
stung im Bereich von 4 kW bis 2400 kW bei einer Beschleunigungs
spannung im Bereich von 0,4 MV bis 6,0 MV eingesetzt. Der für die
Behandlung notwendige Elektronenstrahl wird in einer Elektronen
strahlerzeugung 21 erzeugt und gelangt über ein Strahleintritts
fenster 23 an das zu behandelnde Medium. Das Strahleintrittsfen
ster 23 besteht zum Beispiel aus einer dünnen Titanfolie. Es
trennt das zum Betrieb des Elektronenstrahlers 20 erforderliche
Hochvakuum von dem darunterliegenden Bereich in der Bestrahlungs
kammer 42, in dem im wesentlichen Atmosphärendruck herrscht. Da
die Elektronen beim Durchtritt durch das Strahleintrittsfenster
23 einen Teil ihrer Energie verlieren, wird das Strahleintritts
fenster 23 so stark erwärmt, daß es gekühlt werden muß (siehe
unten). Die für den Elektronenstrahler 20 notwendige Energie wird
über eine Stromzuführung 22 bereitgestellt.
Bei Inbetriebnahme der Anlage muß sofort das Strahleintrittsfen
ster 23 des Elektronenstrahlers 20 gekühlt werden. Dies geschieht
zunächst mit Frischluft, die über eine Frischluftzufuhr 24 und
ein Regulierventil 25 einer Regeleinrichtung 26 zugeführt wird.
Mit Hilfe der Regeleinrichtung 26 werden die im folgenden
beschriebenen Gasvolumenströme eingeregelt. Die für die Kühlung
des Strahleintrittsfensters 23 notwendige Luftmenge wird diesem
mit Hilfe einer Fördereinrichtung 27 (zum Beispiel einem Gebläse)
über eine Luftzuführung 28 zugeführt. Diese Luftmenge strömt
zwischen dem im Ausführungsbeispiel horizontal angeordneten
Strahleintrittsfenster 23 (eine vertikale Anordnung ist auch
denkbar) und dem sich in etwa in Höhe des Überlaufs 12 befindenden
Pegel des Mediums in dem Hauptreaktionsbehälter 11. Dabei wird
einerseits das Strahleintrittsfenster 23 gekühlt und andererseits
von den hindurchtretenden Elektronen Ozon erzeugt. Die Elektronen
werden in dieser Luftschicht nur in geringem Maße abgebremst und
treten daher in das Medium in dem Hauptreaktionsbehälter 11 ein,
wo sie weitere Reaktionen auslösen.
Die mit Ozon angereicherte Kühlluft wird an einer Absaugung 29
mit Hilfe einer Fördereinrichtung 30 (Gebläse) abgesaugt und über
eine Fördereinrichtung 31 (Gebläse) dem Vorreaktionsbehälter 7,
dem Hauptreaktionsbehälter 11 und dem Nachreaktionsbehälter 14
als ozonhaltiges Gas zugeführt. Die einzelnen Volumenströme
lassen sich über Regulierventile 32, 34 und 36 regulieren und auf
ein für jeden Reaktionsbehälter optimales Niveau einstellen. Eine
reaktionsfördernde gleichmäßige Verteilung des in die Reaktions
behälter 7, 11 und 14 eintretenden ozonhaltigen Gases und eine
gründliche Durchmischung mit dem Medium in dem jeweiligen
Reaktionsbehälter 7, 11 bzw. 14 läßt sich mit Hilfe der Zuführun
gen 33, 35 bzw. 37 erreichen. Die ozonhaltigen Gasströme
durchströmen das zu behandelnde Medium in den jeweiligen
Reaktionsbehältern 7, 11 und 14 und werden danach an Absaugein
richtungen 40, 43 bzw. 38 durch Fördereinrichtungen (Gebläse) 41,
44 bzw. 39 der Regeleinrichtung 26 zugeführt. Die Regeleinrich
tung 26 regelt die Zufuhr von Frischluft über das Regulierventil
25, um die Luftmenge (Sauerstoffmenge) zu ersetzen, die durch
chemische Reaktionen sowie durch Austragung mit dem Medium
verlorengeht.
Im Ausführungsbeispiel gliedert sich das Verfahren zur Aufberei
tung von mit Schadstoffen belasteten pumpfähigen Medien in fünf
1 Teilbereiche, die in fünf verschiedenen Komponenten der in Fig.
1 dargestellten Anlage ablaufen, wie im folgenden nochmals
zusammengefaßt und in Teilaspekten näher erläutert:
1. Elektronenstrahlsystem und Ozonerzeugung: In dem Elektronen
strahler 20 werden freie Elektronen erzeugt und durch Hoch
spannung stark beschleunigt. Die Erzeugung und Beschleunigung der
Elektronen findet im Hochvakuum statt. Die Elektronen werden
durch elektromagnetische Felder zu einem fokussierten Strahl
gebündelt und gescannt und verlassen das Beschleunigersystem
durch ein Strahlaustrittsfenster, nämlich das Strahleintrittsfen
ster 23 (über das die Elektronen in die Behandlungskammer 42 des
Hauptreaktionsbehälters 11 eintreten). Um die hierbei freiwerden
de Wärmeenergie abzuführen, wird das Strahleintrittsfenster 23
mit einer großen Luftmenge gekühlt. Dabei werden die Luftmoleküle
von den Elektronen getroffen, und aus den Sauerstoffanteilen
1 entsteht Ozon in einer Konzentration von ca. 0,1 g/m3 bis 1000
g/m3.
2. Vorreaktion, Vorozonierung, Anoxidation: Das zu behandelnde
Medium wird kontinuierlich in den Vorreaktionsbehälter 7 geführt.
In dem Vorreaktionsbehälter 7 wird als ozonhaltiges Gas ein
Teilstrom der ozonhaltigen Kühlluft eingebracht. Die eingebrachte
Luft wird sehr fein verteilt, wobei das Medium eine intensive
Verwirbelung erfährt, die zu einer Beschleunigung der chemischen
Reaktionen führt. Die Verweildauer in dem Vorreaktionsbehälter
7 wird auf die spezifischen Reaktionen der Inhaltsstoffe des
Mediums abgestimmt. Die in dem Medium enthaltenen organischen
Substanzen werden von dem in der zugeführten Luft enthaltenen
Ozon, das sich in dem Medium löst, teilweise oxidiert oder
anoxidiert, was durch die Zugabe von zusätzlichen Oxidations
mitteln noch gefördert werden kann.
3. Elektronenbestrahlung des Mediums und Bestrahlungsbehälter:
Nach der Vorbehandlung im Vorreaktionsbehälter 7 wird das zu
behandelnde Medium in der Behandlungskammer (Bestrahlungskammer)
42 des Hauptreaktionsbehälters 11 kontinuierlich einer Elek
tronenbestrahlung ausgesetzt. Während der Elektronenbestrahlung
wird in den Hauptreaktionsbehälter 11 ebenfalls ein Teilstrom der
ozonhaltigen Kühlluft eingetragen. Durch die Gestaltung der
Zuführung 35 wird dabei das zu behandelnde Medium intensiv
durchmischt. Dadurch verbessert sich die Ozonaufnahme durch das
zu behandelnde Medium. Die Ausführung der Behandlungskammer 42
ermöglicht eine effektive Elektronenbestrahlung bei maximalem
Schadstoffabbau. Zusätzlich können durch die intensive, turbulen
te Luftströmung in der Behandlungskammer 42 flüchtige organische
Substanzen ausgetragen werden, welche dann in der Gasphase mit
dem Elektronenstrahl behandelt und abgebaut werden.
4. Nachreaktionsbehälter: Nach der Elektronenbestrahlung wird das
zu behandelnde Medium in den Nachreaktionsbehälter 14 geführt,
um chemische Nachreaktionen, welche mit niedrigeren Geschwindig
keiten ablaufen, zu ermöglichen. Die Verweildauer des Mediums im
Nachreaktionsbehälter 14 wird von den chemischen Parametern des
zu behandelnden Mediums bestimmt. Zur Verbesserung der Oxidation
organischer Inhaltsstoffe kann dem Nachreaktionsbehälter
ebenfalls ein Teilstrom der ozonhaltigen Kühlluft zugeführt
werden. Eine intensive Verwirbelung im Nachreaktionsbehälter 14
begünstigt diese Nachreaktionsprozesse.
5. Biologische Klärstufe: Sollten bei der Behandlung in den zuvor
beschriebenen Stufen organische Abbauprodukte der Schadstoffe im
Medium verbleiben, werden diese durch für den speziellen
Anwendungsfall adaptierte Mikroorganismen in der biologischen
Reinigungseinrichtung 17 abgebaut. Durch Entnahme von Proben nach
den einzelnen Behandlungsstufen und/oder eine geeignete Online-
Analytik kann der Ablauf des Schadstoffabbaus anhand ausgewählter
chemischer und physikalischer Parameter überprüft werden.
Durch die Gesamtkonzeption der Vorrichtung (Anlage) und des
darauf durchgeführten Verfahrens können organische Schadstoffe
in pumpfähigen Medien je nach Vorgaben des Einsatzzieles voll
ständig abgebaut oder auf ein bestimmtes Maß reduziert werden.
Dies kann auch in hohem Maße auf anorganische Belastungen im
Medium zutreffen.
Claims (18)
1. Verfahren zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten
pumpfähigen Medien, mit den Schritten:
- - Einleiten des aufzubereitenden Mediums in einen Vorreak tionsbehälter (7), dem ozonhaltiges Gas zugeführt wird,
- - Überleiten des Mediums von dem Vorreaktionsbehälter (7) in einen Hauptreaktionsbehälter (11), dem ozonhaltiges Gas zugeführt wird, und Bestrahlen des Mediums in dem Hauptreak tionsbehälter (11) mit Elektronen,
- - Überleiten des Mediums von dem Hauptreaktionsbehälter (11) in einen von dem Vorreaktionsbehälter (7) separaten Nachre aktionsbehälter (14), dem ozonhaltiges Gas zugeführt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
Elektronen über ein Strahleintrittsfenster (23) in den
Hauptreaktionsbehälter (11) eintreten und daß zwischen dem
Strahleintrittsfenster (23) und dem Medium in dem Hauptreak
tionsbehälter (11) ein sauerstoffhaltiges Gas, vorzugsweise
auf Luftbasis, in einer zum Kühlen des Strahleintrittsfen
sters (23) eingerichteten Durchflußmenge durchgeführt wird
und daß das in dem Gas beim Durchtreten der Elektronen er
zeugte Ozon zumindest einen Teil des Ozons in dem ozonhalti
gen Gas darstellt, das dem Vorreaktionsbehälter (7), dem
Hauptreaktionsbehälter (11) und/oder dem Nachreaktionsbehäl
ter (14) zugeführt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das
Verhältnis zwischen dem Volumen des pro Zeiteinheit zwischen
dem Strahleintrittsfenster (23) und dem Medium in dem
Hauptreaktionsbehälter (11) durchgeführten sauerstoffhalti
gen Gases und dem Volumen des pro Zeiteinheit in den Haupt
reaktionsbehälter (11) übergeleiteten Mediums im Bereich von
0,1 : 1 bis 10 : 1, vorzugsweise im Bereich von 5 : 1 bis 7 : 1,
liegt.
4. Verfahren nach Anspruch 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet,
daß das aus dem Vorreaktionsbehälter (7) und dem Nachreak
tionsbehälter (14) austretende Gas sowie optional ein Teil
des aus dem Hauptreaktionsbehälter (11) austretenden Gases
in einem geschlossenen System gesammelt wird, daß dem gesam
melten Gas über eine Regeleinrichtung (26) Frischluft zu
geführt wird, um Gasverluste durch chemische Reaktionen in
dem Medium und durch Austragung mit dem Medium aus dem Nach
reaktionsbehälter (14) zu ersetzen, daß das so gesammelte
und mit Frischluft angereicherte Gas als das sauerstoffhal
tige Gas zwischen dem Strahleintrittsfenster (23) und dem
Medium in dem Hauptreaktionsbehälter (11) durchgeführt wird
und daß zumindest ein Teil des den Hauptreaktionsbehälter
(11) verlassenden Gases als ozonhaltiges Gas dem Vorreak
tionsbehälter (7), dem Hauptreaktionsbehälter (11) und/oder
dem Nachreaktionsbehälter (14) zugeführt wird.
5. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 4, dadurch gekenn
zeichnet, daß die zur Bestrahlung verwendeten Elektronen
eine Energie im Bereich von 0,4 MeV bis 6,0 MeV haben, die
Strahlleistung im Bereich von 4 kW bis 2400 kW liegt und die
dem Medium in dem Hauptreaktionsbehälter (11) zugeführte
Strahlendosis im Bereich von 0,1 kGy bis 1000 kGy liegt.
6. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Konzentration des Ozons in dem ozonhalti
gen Gas im Bereich von 0,1 g/m3 bis 1000 g/m3 liegt.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Medium in dem Vorreaktionsbehälter (7),
das Medium in dem Hauptreaktionsbehälter (11) und/oder das
Medium in dem Nachreaktionsbehälter (14) mit ozonhaltigem
Gas durchmischt wird.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Medium in dem Vorreaktionsbehälter (7), in
dem Hauptreaktionsbehälter (11) und/oder in dem Nachreak
tionsbehälter (14) eine definierte Verweildauer hat.
9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, daß in
Abhängigkeit von der Schadstoffbelastung des Mediums der
Vorreaktionsbehälter (7) und/oder der Nachreaktionsbehälter
(14) umgangen wird, so daß die Verweildauer des Mediums in
dem Vorreaktionsbehälter (7) bzw. in dem Nachreaktions
behälter (14) gleich Null ist.
10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekenn
zeichnet, daß dem Vorreaktionsbehälter (7) zusätzlich zu dem
ozonhaltigen Gas Chemikalien, vorzugsweise oxidationsför
dernde Chemikalien, zugeführt werden.
11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekenn
zeichnet, daß das Medium aus dem Nachreaktionsbehälter (14)
in eine biologische Reinigungseinrichtung (17) übergeleitet
und dort einer biologischen Reinigung unterzogen wird.
12. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch
gekennzeichnet, daß das aus dem Nachreaktionsbehälter (14)
oder der biologischen Reinigungseinrichtung (17) austretende
Medium erneut dem Vorreaktionsbehälter (7) zugeführt wird.
13. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 12, dadurch
gekennzeichnet, daß der Ablauf des Schadstoffabbaus mittels
Entnahme von Proben nach vorgewählten Behandlungsstufen
und/oder mittels Online-Analytik anhand ausgewählter
chemischer und/oder physikalischer Parameter überwacht wird.
14. Vorrichtung zur Aufbereitung von mit Schadstoffen belasteten
pumpfähigen Medien, mit:
- - einem Vorreaktionsbehälter (7), in den das aufzubereitende Medium einleitbar ist und dem ozonhaltiges Gas zuführbar ist,
- - einem Hauptreaktionsbehälter (11), in den das Medium von dem Vorreaktionsbehälter (7) überleitbar ist und dem ozon haltiges Gas zuführbar ist,
- - einer Einrichtung (20) zur Bestrahlung des Mediums in dem Hauptreaktionsbehälter (11) mit Elektronen,
- - einem von dem Vorreaktionsbehälter (7) separaten Nachreak tionsbehälter (14), in den das Medium von dem Hauptreak tionsbehälter (11) überleitbar ist und dem ozonhaltiges Gas zuführbar ist.
15. Vorrichtung nach Anspruch 14, gekennzeichnet durch ein
Strahleintrittsfenster (23) für die Elektronen, das oberhalb
des für das Medium in dem Hauptreaktionsbehälter (11) vor
gesehenen Füllstands angeordnet ist, und zwar vorzugsweise
horizontal, und das durch eine zwischen dem Strahleintritts
fenster (23) und dem Füllstand des Mediums durchführbare
Gasströmung kühlbar ist.
16. Vorrichtung nach Anspruch 15, gekennzeichnet durch ein ge
schlossenes Gasförder- und -leitsystem mit einer Regelein
richtung (26), das dazu eingerichtet ist, aus dem Vorreak
tionsbehälter (7), dem Hauptreaktionsbehälter (11) sowie dem
Nachreaktionsbehälter (14) austretendes Gas zu sammeln, dem
gesammelten Gas über die Regeleinrichtung (26) zum Ausgleich
für Gasverluste durch chemische Reaktionen in dem Medium und
durch Austragung mit dem Medium aus dem Nachreaktions
behälter (14) Frischluft zuzuführen, das so gesammelte und
mit Frischluft angereicherte Gas zwischen dem Strahlein
trittsfenster (23) und dem Medium in dem Hauptreaktionsbe
hälter (11) durchzuführen und zumindest einen Teil dieses
Gases dem Vorreaktionsbehälter (7) und/oder dem Hauptreak
tionsbehälter (11) und/oder dem Nachreaktionsbehälter (14)
zuzuführen.
17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 16, dadurch
gekennzeichnet, daß die von der Einrichtung (20) zum Be
strahlen des Mediums bereitgestellten Elektronen eine Ener
gie im Bereich von 0,4 MeV bis 6,0 MeV haben, wobei die
Strahlleistung im Bereich von 4 kW bis 2400 kW liegt und dem
Medium in dem Hauptreaktionsbehälter (11) eine Strahlendosis
im Bereich von 0,1 kGy bis 1000 kGy zuführbar ist.
18. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 14 bis 17, gekennzeich
net durch eine biologische Reinigungseinrichtung (17), die
dem Nachreaktionsbehälter (14) nachgeschaltet ist.
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