DE19857253C2

DE19857253C2 - Single-lifting device

Info

Publication number: DE19857253C2
Application number: DE1998157253
Authority: DE
Inventors: Ryo Yamagishi; Kenichi Yoshizawa; Ayumi Suda; Toshiaki Tsunoka
Original assignee: Komatsu Electronic Metals Co Ltd; Komatsu Machinery Corp
Current assignee: Sumco Techxiv Corp; Komatsu NTC Ltd
Priority date: 1997-12-11
Filing date: 1998-12-11
Publication date: 2003-11-20
Anticipated expiration: 2018-12-12
Also published as: TW442830B; DE19857253A1; JPH11171688A

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf eine Einkristall-Hebevorrichtung nach dem Gattungsbegriff des Patentanspruches 1.The present invention relates to a single crystal lifting device according to the generic term of claim 1.

BACKGROUND

Ein Siliziumwafer zur Verwendung in einer intergrierten Schaltung wurde typischerweise durch scheibenmäßiges Unterteilen eines Halbleiter-Ingots präpariert, der durch eine Einkristall-Hebevorrichtung angehoben ist. Eine Forderung in neuerer Zeit nach einer integrierten Schaltung mit einer größeren Kapazität hat zu einer strengeren Anforderung für eine Einkristall- Hebevorrichtung geführt, die ermöglicht, daß ein Halbleiter-Ingot bzw. -Block mit einem größeren Durchmesser mit einer Stabilität angehoben werden kann, und verschiedene Typen von Einkristall-Hebevorrichtungen sind vorgeschlagen und kommerziell umgesetzt worden, um dieses Erfordernis zu erfüllen.A silicon wafer for use in an integrated circuit has been developed typically by slicing a semiconductor ingot prepared, which is raised by a single crystal lifting device. A Recent demand for an integrated circuit with a larger one Capacity has become a stricter requirement for a single crystal Lifting device that allows a semiconductor ingot or block with a larger diameter can be lifted with stability, and various types of single crystal lifts are proposed and have been implemented commercially to meet this requirement.

Zum Beispiel offenbart die DE 31 52 850 A1 eine Einkristall-Hebevorrichtung, in der ein geschmolzenes Silizium-Material dazu angepaßt ist, in einem Schmelztiegel aufgenommen zu werden, der in einer Vakuumkammer vorgesehen ist, die eine Hauptkammer und eine obere Kammer aufweist, und eine Ziehkammer, die horizontal drehbar ist, ist oberhalb der oberen Kammer angeordnet, um einen Halbleiter-Ingot, der angehoben ist, aufzunehmen. For example, DE 31 52 850 A1 discloses a single crystal lifting device, in which is a molten silicon material adapted in one Melting crucible to be accommodated, which is provided in a vacuum chamber which has a main chamber and an upper chamber, and a Drawing chamber, which can be rotated horizontally, is above the upper chamber arranged to receive a semiconductor ingot that is raised.

Eine Einkristall-Hebevorrichtung, wie sie dort beschrieben ist, ist typischerweise oberhalb der Ziehkammer mit einem Hebemechnismus versehen, von dem sich ein Draht vertikal nach unten in die Ziehkammer hinein erstreckt. Der Draht besitzt ein unteres Ende, an dem ein Kristallkeim zum Eintauchen in eine Schmelze aus Silizium-Material befestigt werden kann. Der Hebemechanismus arbeitet dahingehend, den Draht aufzuwickeln, während einem Silizium- Einkristall, der an dem Kristallkeim anhängt, ermöglicht wird, zu wachsen, um einen Halbleiter-Ingot zu bilden, der in die Ziehkammer hinein angehoben werden soll. Nach einer Separation von der oberen Kammer wird die Ziehkammer horizontal gedreht und dann wird der angehobene Halbleiter-Ingot aus der Innenseite der Ziehkammer herausgezogen.A single crystal hoist as described there is typical above the drawing chamber with a lifting mechanism, of which a wire extends vertically down into the drawing chamber. The wire has a lower end at which a crystal seed for immersion in a Melt made of silicon material can be attached. The lifting mechanism works to wind up the wire during a silicon Single crystal attached to the seed crystal is allowed to grow to to form a semiconductor ingot that is lifted into the pull chamber should. After a separation from the upper chamber, the drawing chamber horizontally rotated and then the raised semiconductor ingot is removed from the Pulled out inside of the drawing chamber.

Die Einkristall-Hebevorrichtung nach dem Stand der Technik, wie sie vorstehend beschrieben ist, ist allerdings frei von irgendeiner Einrichtung, um den Hebemechanismus, der oberhalb der Ziehkammer vorgesehen ist, in einer gegebenen Hebeposition zu positionieren. Demzufolge ermöglicht diese nicht, daß der Hebemechanismus übereinstimmend positioniert wird, wenn ein Einkristall fortährt, beim Drehen der Ziehkammer angehoben zu werden, und zwar zu einer Hebeposition, und wobei sein unteres Ende mit der oberen Kammer verbunden ist. Nachteilig ist deshalb, daß ein Einkristall nicht akkurat angehoben werden kann.The prior art single crystal lifting device as described above is, however, free of any means to which the Lifting mechanism, which is provided above the drawing chamber, in one position given lifting position. As a result, this does not allow the lifting mechanism is positioned in unison when a single crystal continues to be raised as the drawing chamber rotates to one Lifting position, and with its lower end connected to the upper chamber is. It is therefore disadvantageous that a single crystal cannot be raised accurately can.

Insbesondere dann, wenn die Hauptkammer und die Ziehkammer auf ein Vakuum evakuiert werden, kann die Säule, die die evakuierte Ziehkammer trägt, eine Deformation haben, was, gekoppelt mit irgendeinem nachteiligen Effekt, den die Bodenkontaktfläche der evakuierten Hauptkammer ausüben kann, unpassenderweise nicht ermöglicht, daß der Hebemechanismus gleichbleibend mit Genauigkeit positioniert werden kann, und es ist auch nicht ausgeschlossen, daß sich ein fehlerhaftes Produkt ergibt.Especially when the main chamber and the drawing chamber are under vacuum can be evacuated, the column that carries the evacuated drawing chamber, one Deformation has what, coupled with some adverse effect, that the Can exert ground contact area of the evacuated main chamber, improperly does not allow the lifting mechanism to remain consistent with Accuracy can be positioned, and it is not excluded that a defective product results.

Auch wird bei der Anordnung nach dem Stand der Technik, bei der ein angehobener Halbleiter-Ingot, während er in der Ziehkammer gehalten wird, herausgezogen wird, nachdem die Ziehkammer manuell horizontal gedreht ist, ein Stoß, den die Bewegung der Ziehkammer erzeugt, und eine Trägheitskraft, die verursacht wird, den Halbleiter-Ingot an seinem Kristallhalsbereich brechen kann, der dort liegt, wo der Ingot und der Draht miteinander verbunden sind, was das Risiko mit sich bringt, daß er abfällt.Also in the arrangement according to the prior art, in which a raised semiconductor ingot while held in the pull chamber is pulled out after the drawing chamber is manually rotated horizontally Shock generated by the movement of the drawing chamber and an inertial force which the semiconductor ingot can break at its crystal neck area, which is where the ingot and wire are connected, what that Carries the risk that it will fall off.

Insbesondere werden, wie in den verangenen Jahren, wenn Halbleiter-Ingots im Durchmesser größer und demzufolge schwerer werden, in unbequemer Weise deren Ausfälle, indem sie aufgrund eines Bruchs ihrer Halsbereiche herunterallen, noch häufiger.In particular, as in previous years, when semiconductor ingots in the Diameters become larger and consequently heavier, in an inconvenient way their failures by falling down due to a break in their neck areas, more often.

SUMMARY OF THE INVENTION

Es ist demgemäß eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, solche Unannehmlichkeiten, die im Stand der Technik angetroffen werden, zu eliminieren, und eine Einkristall-Hebevorrichtung vorzugeben, die geeignet ist, eine Hebeeinrichtung mit Genauigkeit zu positionieren, und die eine geringe Wahrscheinlichkeit besitzt, daß ein Halbleiter-Ingot herabfallen kann, wenn die Ziehkammer gedreht wird.It is accordingly an object of the present invention to provide such Inconvenience encountered in the prior art eliminate, and to provide a single crystal lifting device that is suitable to position a lifting device with accuracy, and the one low Has a likelihood that a semiconductor ingot may fall if the Drawing chamber is rotated.

Diese Aufabe, wird gelöst durch die kennzeichnenden Merkmale des Patentanspruches 1.This task is solved by the characteristic features of the Claim 1.

Der erfindungsgemäße Aufbau, schafft eine hohe Positioniergenauigkeit der Ziehkammer, die zu deren Kristall-Anhebeposition von einer Kristall- Herausnahmepositon zusammen mit der Kristall-Hebeeinrichtung zu deren Anhebepositionen gedreht worden ist, um so zu ermöglichen, dass ein Einkristall gleichermaßen mit einer Genauigkeit angehoben wird, die in einer herkömmlichen Einkristall-Hebevorrichtung erreicht wird, in der deren Kristall- Hebeeinrichtung, in ihrer Position festgelegt ist. Ein Halbleiter-Ingot mit einer hohen Qualität wird dadurch erhalten. The structure of the invention creates a high positioning accuracy Pulling chamber which is moved to a crystal Take-out position together with the crystal lifting device Lift positions have been rotated so as to allow a single crystal is equally raised with an accuracy that in a conventional single crystal lifting device is achieved in which their crystal Lifting device is fixed in its position. A semiconductor ingot with one this maintains high quality.

Es ist bevorzugt, daß die Referenzrolle der Positioniereinrichtung schwenkbar auf einem Gleitteil befestigt wird, das so angeordnet ist, um vertikal zu gleiten, wobei die Gleiteinrichtung dazu angepaßt ist, nach unten durch eine Erregereinrichtung erregt bzw. mit Energie beaufschlagt zu werden.It is preferred that the reference roller of the positioning device is pivotable is fixed a sliding member which is arranged to slide vertically, wherein the sliding device is adapted downwards by an excitation device to be excited or energized.

Dieser Aufbau ermöglicht, dass die Einrichtung zum Positionieren davor bewahrt wird, dass sie aufgrund einer übermäßigen, äußeren Kraft beschädigt wird, und zwar aufgrund der Tatsache, dass die Erregereinrichtung kontrahiert wird, wenn sich die Ziehkammer absenkt, wenn die Kristall-Hebeeinrichtung in ihrer Drehposition verschoben wird, um der Referenzrolle zu ermöglichen, in Kontakt mit einer oberen Oberfläche der Referenzführung zu gelangen.This structure enables the positioning device to be prevented from doing so will be damaged due to excessive external force, and due to the fact that the excitation device is contracted if the drawing chamber lowers when the crystal lifting device is in its Rotation position is shifted to allow the reference roll to be in contact with an upper surface of the reference guide.

Es ist auch bevorzugt, daß die Einkristall-Hebevorrichtung weiterhin einen ersten Abweichungs-Detektor zum Erfassen einer Abweichung in der Drehposition der Einkristall-Hebeeinrichtung und einen zweiten Abweichungs-Detektor zum Erfassen einer Abweichung in der vertikalen Positon der Einkristall- Hebeeinrichtung aufweist, wobei der erste und der zweite Detektor in der Nähe der Positoniereinrichtung angeordnet sind.It is also preferred that the single crystal lifter continue to have a first one Deviation detector for detecting a deviation in the rotational position of the Single crystal lifting device and a second deviation detector for Detect a deviation in the vertical position of the single crystal Has lifting device, the first and the second detector in the vicinity the positioning device are arranged.

Dieser Aubau ermöglicht, den Signalen von dem ersten und dem zweiten Abweichungs-Detektor unmittelbar zu bestätigen, daß die Kristall-Hebeeinrichtung korrekt positioniert ist, und, in dem Fall des Auftretens eines Fehlers oder einer Abnormalität zu ermöglichen, daß die Vorrichtung in einem Not-Halt gestoppt wird, um so zu verhindern, daß die Vorrichtung stark beschädigt wird.This construction enables the signals from the first and the second Deviation detector immediately confirm that the crystal lifting device is correctly positioned, and, in the event of an error or an Abnormality to allow the device to stop in an emergency stop so as to prevent the device from being severely damaged.

Vorzugsweise weist die Heeeinrichtung eine Druckfluidquelle, einen Hebezylinder, der aus einem hydraulischen Zylinder besteht, und ein Servo-Ventil zum Umschalten und Unterbrechen einer Zufuhr des Druckfluids von der Druckfluidquelle in den Hebezylinder hinein, auf.The lifting device preferably has a pressure fluid source, a Lift cylinder, which consists of a hydraulic cylinder, and a servo valve to switch and interrupt a supply of the pressure fluid from the Pressurized fluid source into the lifting cylinder.

Dieser Aufbau ermöglicht aufgrund der Verwendung eines Servomotors eine Minderung eines Stoßes, der dann erzeugt wird, wenn die Ziehkammer angehoben oder abgesenkt wird. Als Folge können der Bruch eines Kristalls an seinem Halsbereich und das folgliche Herabfallen eines Halbleiter-Ingots, wie dies nach dem Stand der Technik erfahren wurde, nicht länger auftreten oder werden efektiv verhindert.This construction enables a due to the use of a servo motor Mitigation of a shock that is generated when the drawing chamber is raised or lowered. As a result, a crystal can break its neck area and the consequent falling of a semiconductor ingot like this was experienced according to the prior art, no longer occur or will effectively prevented.

BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS

Die vorliegende Erfindung wird besser anhand der nachfolgenden, detaillierten Beschreibung und der Zeichnungen, die beigefügt sind, die bestimmte erläuternde Ausführungsformen der Erfindung darstellen, verstanden werden. Hierbei sollte angemerkt werden, daß solche Ausführungsformen, wie sie in den beigefügten Zeichnungen dargestellt sind, nicht dazu vorgesehen sind, die vorliegende Erfindung in irgendeiner Art und Weise einzuschränken, sondern dazu, eine Erläuterung und das Verständnis zu erleichtern.The present invention will become more apparent from the following detailed Description and drawings attached to the specific illustrative Represent embodiments of the invention are understood. Here should it should be noted that such embodiments as in the attached Drawings are shown, are not intended to be the present To limit invention in any way but to make a Explanation and understanding to facilitate.

In den beigefügten Zeichnungen:In the attached drawings:

Fig. 1 zeigt eine Seitenansicht, die eine Einkristall-Hebevorrichtung darstellt, die eine Ausführungsform der vorliegenden Erfindung verkörpert; Fig. 1 shows a side view illustrating a single-crystal lifting device incorporating an embodiment of the present invention;

Fig. 2 zeigt eine vergrößerte Seitenansicht, die einen Bereich einer Dreh einrichtung in einer Einkristall-Hebevorrichtung, die in Fig. 1 dargestellt ist, zeigt; Fig. 2 is an enlarged side view showing a portion of a rotating device in a single crystal lifting device shown in Fig. 1;

Fig. 3 zeigt eine Draufsicht eines Bereichs der Vorrichtung der Fig. 2, in der Rich tung des Pfeils III gesehen; Fig. 3 shows a plan view of a portion of the device of Fig. 2, seen in the direction of arrow III;

Fig. 4 zeigt eine vergrößerte Ansicht eines Bereichs der Vorrichtung, die in Fig. 1 dargestellt ist, definiert durch einen Kreis IV; Fig. 4 shows an enlarged view of a portion of the device shown in Fig. 1 defined by a circle IV;

Fig. 5 zeigt eine Draufsicht eines Bereichs der Vorrichtung, die in Fig. 4 dargestellt ist, in der Richtung des Pfeils V gesehen; Fig. 5 shows a plan view of a portion of the device shown in Fig. 4 viewed in the direction of arrow V;

Fig. 6 zeigt eine Seitenansicht eines Bereichs der Vorrichtung, die in Fig. 5 darge stellt ist, in der Richtung des Pfeils VI gesehen; Fig. 6 shows a side view of a portion of the device shown in Fig. 5 is seen in the direction of arrow VI;

Fig. 7 zeigt eine Seitenansicht eines Bereichs der Vorrichtung, dargestellt in Fig. 6, in Richtung VII gesehen; Fig. 7 shows a side view of a portion of the device shown in Fig. 6 viewed in the direction VII;

Fig. 8 zeigt eine Seitenansicht eines Bereichs der Vorrichtung, dargestellt in Fig. 6, in Richtung des Pfeils VIII gesehen; und Figure 8 shows a side view of a portion of the device shown in Figure 6 viewed in the direction of arrow VIII; and

Fig. 9 zeigt eine schematische Darstellung, die einen Betrieb der Einkristall-Hebe vorrichtung, die in den Fig. 1 bis 8 dargestellt ist, erläuternd zeigt. Fig. 9 is a diagram showing an operation of the single crystal lifting device shown in Figs. 1 to 8, explanatory.

PREFERRED EMBODIMENTS OF THE INVENTION

Nachfolgend wird eine Einkristall-Hebevorrichtung, die in einer geeigneten Form ge mäß der vorliegenden Erfindung ausgeführt ist, im Detail unter Bezugnahme auf die beigefügten Zeichnungen angegeben.Below is a single crystal lifting device, which is in a suitable form according to the present invention, in detail with reference to the attached drawings.

Eine Einkristall-Hebevorrichtung, die so ausgeführt ist, ist in Fig. 1, von der Seite ge sehen, dargestellt, wobei verschiedene Teile davon im Detail in den Fig. 2 ff. darge stellt sind.A single crystal lifting device which is designed in this way is shown in FIG. 1, seen from the side, various parts of which are shown in detail in FIGS . 2 ff.

Wie dargestellt ist, umfaßt die Einkristall-Hebevorrichtung, die allgemein mit einem Bezugszeichen 1 bezeichnet ist, eine Vakuumkammer 4, die auf einem Sockel bzw. einer Unterlage 3 befestigt ist, die wiederum auf einer Basis 2 montiert ist, die unter halb eines Bodenniveaus FL liegt. In der Nähe der Vakuumkammer 4 ist, um zu stehen, eine Säule 1a so aufgebaut, daß sie ihr unteres Ende an dem Sockel 3 befe stigt besitzt.As shown, the single crystal hoist, generally designated by reference numeral 1 , includes a vacuum chamber 4 which is mounted on a base 3 which in turn is mounted on a base 2 which is below half a floor level FL lies. In the vicinity of the vacuum chamber 4 , to stand, a column 1 a is constructed so that it has its lower end on the base 3 BEFE Stigt.

Die Vakuumkammer 4 weist eine Hauptkammer 4a auf, wobei deren Unterseite auf einem Niveau ungefähr zu demjenigen des Bodens FL steht, und eine obere Kam mer 4b, die so aufgebaut ist, um geöffnet und geschlossen zu werden, um dadurch hermetisch zu dichten, wobei die Hauptkammer 4a nach oben geöffnet wird, indem sie eine obere Öffnung 4c besitzt. Die obere Kammer 4b ist auch so aufgebaut, um horizontal drehbar zu sein, wenn ein Material, wie beispielsweise Silizium (Silizium- Material) in einen Tiegel hinein (nicht dargestellt) gegossen wird, der in der Haupt kammer 4a angeordnet ist.The vacuum chamber 4 has a main chamber 4a, wherein its underside to that of the floor FL is approximately on a level, and b is an upper Kam mer 4, which is constructed so as to be opened and closed, to thereby be hermetically sealed, the main chamber 4 a is opened upwards by having an upper opening 4 c. The upper chamber 4 b is also constructed to be horizontally rotatable when a material such as silicon (silicon material) is poured into a crucible (not shown), which is arranged in the main chamber 4 a.

Angeordnet oberhalb der oberen Kammer 4b besitzt eine Ziehkammer 5, die in der Form eines hohlen Zylinders vorliegt, ihr unteres Ende abnehmbar mit der oberen Öffnung 4c verbunden, so daß die Innenräume dieser Kammern 4 und 5 miteinander in einer vakuumdichten Beziehung kommunizieren.Disposed above the upper chamber 4 b has a pull chamber 5, which is in the form of a hollow cylinder, its lower end is detachably connected c with the upper opening 4, so that the interiors of these chambers 4 and 5 communicate with each other in a vacuum-tight relationship.

Die Ziehkammer 5 ist so aufgebaut, um im wesentlichen vertikal oberhalb der oberen Kammer 4b zu stehen, und ist durch die Säule 1a getragen, und zwar mit der Zwi schenfügung eines Trageteils 5b und einer Dreheinrichtung 6, die daran so befestigt sind, daß die Ziehkammer 5 horizontal gedreht werden kann.The drawing chamber 5 is constructed to stand substantially vertically above the upper chamber 4 b, and is supported by the column 1 a, with the interposition of a support member 5 b and a rotating device 6 , which are attached to it, that the drawing chamber 5 can be rotated horizontally.

Die Dreheinrichtung 6 besitzt in einer oberen Seite der Säule 1a eine sich vertikal erstreckende Tragewelle 6a, wobei deren oberes und unteres Ende daran befestigt ist, und einen Drehzylinder 6b, der durch die Tragewelle 6a getragen ist, um so so wohl horizontal drehbar als auch vertikal gleitbar zu sein.The rotating device 6 has in an upper side of the column 1 a, a vertically extending support shaft 6 a, the upper and lower ends of which are attached to it, and a rotary cylinder 6 b, which is supported by the support shaft 6 a, all the more horizontally to be rotatable and vertically slidable.

Die Ziehkammer 5 ist an dem Drehzylinder 6b mit dem Trageteil 5b befestigt, das ei nen Drehmotor 5 besitzt, der an dessen unterer Seite befestigt ist, um so eine An triebsquelle für die Dreheinrichtung 6 zu schaffen.The drawing chamber 5 is fixed to the rotary cylinder 6 b with the support member 5 b, which has egg NEN rotary motor 5 , which is attached to the lower side, so as to provide a drive source for the rotating device 6 .

Der Drehmotor 7, der aus einem Servomotor bestehen kann, besitzt seine Drehwelle 7a, die über eine Antriebsübertragungseinrichtung 6c, wie beispielsweise einen Zeit steuerriemen, mit dem oberen Ende einer Zwischenwelle 6d gekoppelt, die schwenkbar durch das Trageteil 5b in dessen unterer Seite getragen ist. Die Zwischenwelle 6d besitzt in einem unteren Endbereich davon ein kleines Zahnrad 6f, das daran befestigt ist, das in Eingriff mit einem großen Zahnrad 6e steht, das mit einem Hebeteil 8a befestigt ist, das eine Hebeeinrichtung 8 bildet.The rotary motor 7 , which can consist of a servo motor, has its rotary shaft 7 a, which is coupled via a drive transmission device 6 c, such as a timing belt, to the upper end of an intermediate shaft 6 d, which can be pivoted through the supporting part 5 b in its lower part Side is worn. The intermediate shaft 6 d has in a lower end portion thereof a small gear 6 f, which is attached to it, which is in engagement with a large gear 6 e, which is fixed with a lifting part 8 a, which forms a lifting device 8 .

Das Hebeteil 8a wird durch die Tragewelle 6a so geführt, um gleitend nach oben und nach unten bewegbar zu sein, und besitzt auf dessen oberer Oberfläche das große Zahnrad 6a daran befestigt, das zentrisch durch die Tragewelle 6a durchdrun gen wird. Die obere Oberfläche des großen Zahnrads 6e wird durch das untere En de des Drehzylinders 6b, der darauf angeordnet ist, berührt.The lifting part 8 a is guided by the support shaft 6 a so as to be slidably movable up and down, and has on its upper surface the large gear 6 a attached to it, which is penetrated centrally by the support shaft 6 a. The upper surface of the large gear 6 e is touched by the lower end of the rotary cylinder 6 b arranged thereon.

Die Hebeeinrichtung 8 weist das Hebeteil 8a, einen Hebezylinder 8b und ein Servo- Ventil 28 auf. Der Hebezylinder 8b wird dazu verwendet, den Drehzylinder 6b nach oben und nach unten über das Hebeteil 8a zu bewegen und kann eine hydraulisch betätigte Zylindereinheit sein. Das Servo-Ventil 28 wirkt dahingehend, eine Zufuhr eines Druckfluids von einer Druckfluidquelle 27 in den Hebezylinder 8b umzuschal ten und zu unterbrechen. Der Hebezylinder 8b besitzt seinen oberen Endbereich mit einem Träger bzw. einer Klammer 1b befestigt, die das untere Ende der Tragewelle 6a an der Säule 1a sichert.The lifting device 8 has the lifting part 8 a, a lifting cylinder 8 b and a servo valve 28 . The lifting cylinder 8 b is used to move the rotary cylinder 6 b up and down over the lifting part 8 a and can be a hydraulically operated cylinder unit. The servo valve 28 acts to switch and interrupt a supply of a pressure fluid from a pressure fluid source 27 into the lifting cylinder 8 b. The lifting cylinder 8 b has its upper end region fastened with a carrier or a clamp 1 b, which secures the lower end of the support shaft 6 a to the column 1 a.

Eine Kolbenstange 8c steht nach oben von dem Hebezylinder 8b vor und besitzt de ren oberes Ende an dem Hebeteil 8a an einem Bereich dessen äußeren Umfangs befestigt. Das Hebeteil 8a besitzt einen Bereich seiner äußeren Umfangsfläche, der auf einer Dreh-Stop-Führung 1c anstößt, die auf der Säule 1a aufgelegt ist, ansto ßend, um das Hebeteil 1a in Bezug auf ein Drehen zu prüfen, wenn es vertikal ent lang der Tragewelle 6a durch den Hebezylinder 8b bewegt wird.A piston rod 8 c protrudes upward from the lifting cylinder 8 b and has the upper end of the lifting part 8 a attached to an area of its outer circumference. The lifting part 8 a has a portion of its outer circumferential surface that abuts on a rotary stop guide 1 c, which is placed on the column 1 a, abutting to check the lifting part 1 a in relation to rotation when it vertically ent along the support shaft 6 a is moved by the lifting cylinder 8 b.

Andererseits ist oberhalb der Ziehkammer 5 eine Kristall-Hebeeinrichtung 14 daran mit einem Tragegestell 12 und einer Dreheinrichtung 13 gesichert.On the other hand, above the drawing chamber 5, a crystal lifting device 14 is secured thereon with a carrying frame 12 and a rotating device 13 .

Die Kristall-Hebeeinrichtung 14 besitzt ein Gehäuse 14b mit einer zu öffnenden und zu schließenden oberen Abdeckung 14a darauf, in der eine Wickelmaschine 14c zum Aufwickeln eines Drahts oder eines Kabels 15 aufgenommen ist.The crystal lifting device 14 has a housing 14 b with an opening and closing top cover 14 a thereon, in which a winding machine 14 c for winding a wire or a cable 15 is received.

Demzufolge ist der Draht oder das Kabel bzw. Drahtseil 15 so aufgebaut, um einen Kristallkeim (nicht dargestellt), der an dessen vorderem Ende durch Anbinden daran befestigt ist, zu tragen, und es erstreckt sich, wenn es von der Wickelmaschine 14c abgewickelt oder zugeführt wird, über die Innenseite der Dreheinrichtung 13 und das Tragegestell 12 hinaus und ist dann in die Ziehkammer 5 hinein freihängend.Accordingly, the wire or cable or wire rope 15 is constructed so (not shown) to a seed crystal, which is attached at its front end by tying it to wear, and it extends, when it is unwound from the winding machine 14 c or is fed, beyond the inside of the rotating device 13 and the support frame 12 and is then freely suspended in the drawing chamber 5 .

Die Dreheinrichtung 13 umfaßt eine Drehantriebsquelle 13c, deren Abtriebswelle über einen Endlosriemen 13b mit einer Drehwelle 13a zum Antreiben der Kristall-He beeinrichtung 14 in eine Drehung verbunden ist.The rotator 13 comprises a rotary driving source 13 c, whose output shaft b via an endless belt 13 having a rotary shaft 13 a for driving the crystal-He stunning device 14 is connected in a rotation.

Angeordnet zwischen dem Tragegestell 12 und dem oberen Ende der Säule 1a ist eine Positioniereinrichtung 17, die dahingehend wirkt, die Kristall-Hebeeinrichtung 14 mit Präzision zu einer vorgegebenen Kristall-Hebeposition A anzuheben, die eine Drehposition darstellt.Arranged between the support frame 12 and the upper end of the column 1 a is a positioning device 17 , which acts to raise the crystal lifting device 14 with precision to a predetermined crystal lifting position A, which is a rotational position.

Wie in den Fig. 5 bis 8 dargestellt ist, umfaßt die Positioniereinrichtung 17 eine Re ferenzführung 17a, die an dem Ende eines Trägers bzw. einer Klammer 1d befestigt ist, die so aufgebaut ist, um von der Säule 1a vorzustehen, und eine Referenzrolle 17b, die auf der Seite des Tragegestells 12 befestigt ist.As shown in Figs. 5 to 8, the positioning means 17 comprises a re ference guide 17 a, which is attached to the end of a carrier or of a clamp 1 d, which is constructed so as to project from the column 1 a, and a reference roller 17 b, which is attached to the side of the support frame 12 .

Wie in Fig. 7 dargestellt ist, ist die Referenzführung 17a mit einer kreisförmigen Öff nung oder einem Loch 17c versehen, das geringfügig größer als die Referenzrolle 17b ist. Das kreisförmige Loch 17c hier kommuniziert über einen Raum zwischen ei nem Paar Referenzebenen 17d und 17d mit einem konisch zulaufenden Raum 17e, der sich nach oben so erweitert, daß dann, wenn die Referenzrolle 17b zu einem Halt zwischen den Referenzebenen 17d gebracht ist, dies die Kristall-Hebeeinrich tung 14 präzise an der Kristall-Anhebeposition A anordnen kann.As shown in Fig. 7, the reference guide 17 a is provided with a circular opening or hole 17 c, which is slightly larger than the reference roller 17 b. The circular hole 17 c here communicates via a space between a pair of reference planes 17 d and 17 d with a tapered space 17 e which widens upwards such that when the reference roller 17 b stops at the reference planes 17 d is brought, this can arrange the crystal lifting device 14 precisely at the crystal lifting position A.

Der Führungskörper 17a ist auch mit einem sich nach oben erstreckenden Anschlag 17f versehen, der in das kreisförmige Loch 17c hinein vorsteht. Der Anschlag 17f ist so aufgebaut, um so zu wirken, um das Abfallen der Referenzrolle 17b in das kreis förmige Loch 17c mehr als über eine Grenze hinaus zu verhindern, um dadurch zu verhindern, daß sich die Ziehkammer 5 und die Kristall-Hebeeinrichtung 14 mehr als dies erforderlich ist, absenken, gerade wenn sie so angeordnet werden, daß die ge gebene Kristall-Hebeposition A eingerichtet wird, wenn dann die Vakuumkammer 4 nicht über die Ziehkammer 5 hinaus vorhanden ist. The guide body 17 a is also provided with an upwardly extending stop 17 f which projects into the circular hole 17 c. The stop 17 f is constructed so as to act to prevent the reference roller 17 b from falling into the circular hole 17 c more than beyond a limit, thereby preventing the pulling chamber 5 and the crystal Lifting device 14 lower than is necessary, especially if they are arranged so that the given crystal lifting position A is established when the vacuum chamber 4 is not present beyond the drawing chamber 5 .

Es ist weiterhin anzumerken, daß die Referenzrolle 17b ihre äußere Umfangsfläche trommelförmig oder im Querschnitt in der Form eines Bogens geformt besitzt und drehbar durch ein Gleitteil 17h über eine Welle 17g gehalten ist.It should also be noted that the reference roller 17 b has its outer peripheral surface drum-shaped or shaped in cross-section in the form of an arc and is rotatably held by a sliding part 17 h via a shaft 17 g.

Das Gleitteil 17h ist so gehalten, daß es vertikal durch eine Gleitführung 17i gleitbar ist, die an dem Tragegestell 12 befestigt ist. Oberhalb des Gleitteils 17h ist eine Er regereinrichtung bzw. eine Energiebeaufschlagungseinrichtung 19 vorhanden, die eine Kompressionsfeder 19a aufweist, und eine Einstellschraube 19b ist an der obe ren Seite des Tragegestells 12 befestigt, um das Gleitteil 17a nach unten zu erre gen. Das Gleitteil 17 besitzt einen unteren Bereich, an dem ein Mitnehmer 18 über ein Verbindungsteil 18a befestigt ist, wobei der Mitnehmer 18 dahingehend wirkt, um einen Abweichungs- bzw. Deviations-Detektor 20 für eine vertikale Position zu betä tigen, der einen Begrenzungsschalter aufweist, um eine Abweichung bzw. Deviation in einer vertikalen Position der Kristall-Hebeeinrichtung 14 zu erfassen.The sliding part 17 h is held so that it can be slid vertically through a sliding guide 17 i which is attached to the support frame 12 . Above the sliding part 17 h, a He excitation device or an energy application device 19 is present, which has a compression spring 19 a, and an adjusting screw 19 b is attached to the upper side of the support frame 12 in order to generate the sliding part 17 a downward. The sliding part 17 has a lower region to which a driver 18 is fastened via a connecting part 18 a, the driver 18 acting to actuate a deviation detector 20 for a vertical position, which has a limit switch to detect a deviation in a vertical position of the crystal lifter 14 .

Es sollte angemerkt werden, daß, wie in den Fig. 5 und 6 dargestellt ist, das Trage gestell 12 mit einem Paar von säulenförmigen Mitnehmern 21 und 22 versehen ist, die dahingehend wirken, jeweils Drehpositions-Abweichungs-Detektoren 23 und 24 zu betätigen, von denen jeder einen Grenzschalter aufweist und auf der Klammer 1d in der Nähe einer äußeren Umfangsseite des Drehradius der Ziehkammer 5 befe stigt ist, um dadurch eine Abweichung bzw. Deviation in der Drehposition der Kri stall-Hebeeinrichtung 14 zu erfassen.It should be noted that, as shown in FIGS . 5 and 6, the support frame 12 is provided with a pair of columnar drivers 21 and 22 which act to actuate rotational position deviation detectors 23 and 24 , respectively. each of which has a limit switch and on the bracket 1 d in the vicinity of an outer circumferential side of the turning radius of the drawing chamber 5 BEFE Stigt to thereby detect a deviation in the rotational position of the Kri stall lifting device 14 .

Es wird nun eine Erläuterung einer Betriebsweise der Einkristall-Hebevorrichtung, die so aufgebaut ist, wie dies bis hier beschrieben ist, gegeben.There will now be explained an operation of the single crystal lifting device, which is structured as described so far.

Beim Anheben eines Einkristalls wird zuerst der Drehmotor 7 angetrieben, um durch die Dreheinrichtung 6 zu drehen, um die Ziehkammer 5 zu drehen, die an einer In got-Herausnahmeposition B in Fig. 9 gewesen ist, und zwar entlang einer Bahn C, die ihre Mitte an der Welle 6a hat.When lifting a single crystal, the rotary motor 7 is first driven to rotate by the rotator 6 to rotate the pull chamber 5 which has been at an in-take-out position B in Fig. 9 along a path C that is its Has center on the shaft 6 a.

Wenn die Ziehkammer 5 oberhalb der Vakuumkammer 4 gelangt, wird der Hebezy linder 8b der Hebeeinrichtung 8 betätigt, um sich zusammenzuziehen, um die Zieh kammer 5 zu erniedrigen. Dann wird die Referenzrolle 17b, die auf dem Tragegestell 12 oberhalb der Ziehkammer 5 befestigt ist, nach unten gelangen, um zwischen die Referenzebenen 17d nach Hindurchführen durch den konisch verlaufenden Raum 17e in der Referenzführung 17a auf der befestigten Klammer 1d zu passen, um da durch zu ermöglichen, daß die Kristall-Hebeeinrichtung 14 oberhalb der Ziehkammer 5 angeordnet wird, um mit einer Präzision in Bezug auf die Vakuumkammer 4 posi tioniert zu werden.When the drawing chamber 5 passes above the vacuum chamber 4 , the Hebezy cylinder 8 b of the lifting device 8 is actuated to contract in order to lower the drawing chamber 5 . Then the reference roller 17 b, which is fastened on the support frame 12 above the drawing chamber 5 , will come down to pass between the reference planes 17 d after passing through the conical space 17 e in the reference guide 17 a on the fastened clamp 1 d fit to allow through that the crystal lifter 14 is placed above the pull chamber 5 to be posi tioned with a precision with respect to the vacuum chamber 4 .

In Bezug auf den Betrieb, der vorstehend beschrieben ist, sollte angemerkt werden, daß die säulenförmigen Mitnehmer 21 und 22 (montiert auf der Seite des Tragege stells 12), die die Drehpositions-Deviations-Detektoren 23 und 24 betätigen (jeder auf der Klammer 1d in der Nähe einer äußeren Umfangsseite des Drehradius der Ziehkammer 5 befestigt) ermöglichen, daß bestimmt wird, wenn die Kristall-Hebeein richtung 14 an einer richtigen Drehposition angeordnet ist, und zwar durch Signale von den Drehpositions-Deviations-Detektoren 23 und 24. In ähnlicher Weise ermög licht der Mitnehmer 18, der den vertikalen Positions-Deviations-Detektor 20 betätigt, diesem, daß bestimmt wird, wenn die Kristall-Hebeeinrichtung 14 an einer richtigen, vertikalen Position angeordnet ist, und zwar durch ein Signal von dem Positions-De viations-Detektor 20 für die vertikale Position.With respect to the operation described above, it should be noted that the columnar drivers 21 and 22 (mounted on the support 12 side ) that operate the rotational position deviation detectors 23 and 24 (each on the bracket 1 d attached to an outer peripheral side of the turning radius of the pulling chamber 5 ) allow it to be determined when the crystal lifter 14 is placed in a proper rotating position by signals from the rotating position deviation detectors 23 and 24 . Similarly, the driver 18 which actuates the vertical position deviation detector 20 enables it to be determined when the crystal lifter 14 is located in a proper vertical position by a signal from the position De viations detector 20 for the vertical position.

Wenn die Ziehkammer 5 mit der oberen Kammer 4b in dieser Art und Weise verbun den worden ist, werden die Vakuumkammer 4 und die Ziehkammer 5 im Druck redu ziert und ein Kristallkeim, der an das untere Ende des Drahts oder Drahtseils 15 an gebunden ist, das von der Kristall-Hebeeinrichtung 14 herunterhängt, wird so ange trieben, um durch die Dreheinrichtung 13 gedreht zu werden, während er in eine Schmelze aus Silizium-Material, das in der Vakuumkammer 4 geschmolzen ist, ein getaucht wird, um so das Anheben eines Einkristalls einzuleiten.When the pull chamber 5 b to the upper chamber 4 in this manner verbun is to have the vacuum chamber 4 and the pull chamber 5 are sheet redu in pressure and a seed crystal, which is at the lower end of wire or wire rope 15 to bound, hanging from the crystal lifter 14 is driven to be rotated by the rotator 13 while being immersed in a melt of silicon material melted in the vacuum chamber 4 so as to lift one Initiate single crystal.

Während das Einkristall angehoben wird, hält die Positioniereinrichtung 17 die Kri stall-Hebeeinrichtung 14 immer an einer Kristall-Anhebeposition A, was demzufolge ermöglicht, daß der Einkristall gleichmäßig mit einer Genauigkeit angehoben wird, die durch eine herkömmliche Einkristall-Hebevorrichtung erreicht wird, bei der deren Kristall-Hebeeinrichtung in einer Position festgelegt ist. While the single crystal is being raised, the positioning means 17 keeps the crystal lifter 14 always at a crystal lifting position A, thus allowing the single crystal to be raised smoothly with an accuracy achieved by a conventional single crystal lifting device in which whose crystal lifting device is fixed in one position.

Wenn der Einkristall angehoben worden ist und der angehobene Halbleiter-Ingot 10 in der Ziehkammer 5 aufgenommen worden ist, werden sowohl die Vakuumkammer 4 als auch die Ziehkammer 5 zu der Atmosphäre hin geöffnet und dann wird die Ziehkammer an deren unterem Ende von der oberen Kammer 4b separiert. Der He bezylinder 8b in der Hebeeinrichtung 8 wird dann betätigt, um die Ziehkammer 5 zu einer Höhe anzuheben, an der die Referenzrolle 17b in der Positioniereinrichtung 17 außerhalb der Referenzführung 17a gelangt.When the single crystal has been raised and the raised semiconductor ingot 10 has been received in the pull chamber 5 , both the vacuum chamber 4 and the pull chamber 5 are opened to the atmosphere, and then the pull chamber at the lower end thereof becomes the upper chamber 4 b separated. The He bezylinder 8 b in the lifting device 8 is then actuated to raise the drawing chamber 5 to a height at which the reference roller 17 b reaches the positioning device 17 outside the reference guide 17 a.

So, daß ein Stoß, der dann verursacht wird, nicht einen Kristall-Halsbereich 16 bre chen und beschädigen kann, der den Draht oder das Drahtseil 15 und den Halblei ter-Ingot miteinander verbindet, wirkt die Verwendung des Servo-Ventils 28 dahinge hend, den Stoß auf ein Minimum zu begrenzen, während die Ziehkammer 5 angeho ben wird.So that a shock that is then caused cannot break and damage a crystal neck portion 16 connecting the wire or wire rope 15 and the semiconductor ingot, the use of the servo valve 28 acts as follows. to limit the impact to a minimum while the drawing chamber 5 is raised.

Wenn die Ziehkammer 8 zu einer vorab eingestellten Höhe angehoben worden ist, wird der Drehmotor 7 in der Dreheinrichtung 6 so angetrieben, um die Ziehkammer 5, zentriert auf der Tragewelle 6a, zu der Ingot-Herausnahme-Position B zu drehen.When the drawing chamber 8 has been raised to a preset height, the rotary motor 7 is driven in the rotating device 6 in order to rotate the drawing chamber 5 , centered on the supporting shaft 6 a, to the ingot removal position B.

Auch wird zu diesem Zeitpunkt die Geschwindigkeit des Drehmotors 7, der einen Servomotor aufweist, so gesteuert, daß ein Stoß, der verursacht wird, den Kristall- Halsbereich 16 nicht brechen und beschädigen, und nicht verursachen, daß der Halbleiter-Ingot 10 dadurch herunterfällt. Und wenn die Ziehkammer 5 die Ingot-Her ausnahme-Position B erreicht, sollte ein Mitnehmer 25, der auf der Seite des Dreh zylinders 6b vorgesehen ist, dahingehend wirken, einen Herausnahme-Positions- Detektor 26 zu betätigen, der einen Grenzschalter aufweist, um zu bewirken, daß der Drehmotor 7 den Antrieb beendet. Nun gelangt die Ziehkammer 5 zu einem Halt an der Ingot-Herausnahme-Position B.Also at this time, the speed of the rotary motor 7 having a servo motor is controlled so that a shock that is caused does not break and damage the crystal neck portion 16 and does not cause the semiconductor ingot 10 to fall down. And when the drawing chamber 5 reaches the ingot-Her exception position B, a driver 25 , which is provided on the side of the rotary cylinder 6 b, should act to actuate a removal position detector 26 , which has a limit switch, to cause the rotary motor 7 to stop driving. The drawing chamber 5 now comes to a stop at the ingot removal position B.

Es sollte angemerkt werden, daß die Position, wo die Ziehkammer 5 dorthin gelangt, um zu stoppen, hier nicht so sehr genau sein muß; der Herausnahme-Positions-De tektor 26 kann einfach in einem Bereich der Tragewelle 6a angeordnet werden.It should be noted that the position where the drawing chamber 5 gets there to stop need not be so precise here; the take-out position detector 26 can be easily arranged in an area of the support shaft 6 a.

Wenn die Ziehkammer 5 dahingehend gelangt, an deren Ingot-Herausnahme-Positi on B zu stoppen, ist der Draht oder das Drahtseil bzw. Kabel 15 von der Kristall-Hebeeinrichtung 14 abgewickelt, um zu bewirken, daß sich der Halbleiter-In got 10 absenkt und um zu ermöglichen, ihn herauszunehmen und zu entfernen.When the pull chamber 5 comes to stop at its ingot take-out position B, the wire or wire rope 15 is unwound from the crystal lifter 14 to cause the semiconductor got 10 to lower and to allow it to be taken out and removed.

Dann wird erkannt werden, daß die Stelle, wo der Halbleiter-Ingot 10 entfernt wird, so niedrig ist, um zu ermöglichen, daß ein Herausnahme-Vorgang einfach ausge führt werden kann, und zwar demzufolge sehr viel einfacher und sicherer als bei ei ner herkömmlichen Ausrüstung, bei der sie an einer höheren Position ausgeführt wird.Then, it will be seen that the location where the semiconductor ingot 10 is removed is so low as to allow a take-out operation to be easily performed, and consequently much easier and safer than that of a conventional one Equipment where it is carried out in a higher position.

Der Entfernung oder der Herausnahme des Halbleiter-Ingots 10 folgt eine Reinigung der Innenseite der Ziehkammer 5, usw. Dann wird ein neuer Kristallkeim (nicht dar gestellt) an dem Draht oder dem Drahtseil 15 befestigt und der Draht oder das Drahtseil 15, das dann den neuen Kristallkeim trägt, wird aufgewickelt, um für einen darauffolgenden Anhebevorgang vorzubereiten. So können, indem der vorstehend beschriebene Vorgang wiederholt wird, Einkristalle aufeinanderfolgend angehoben werden.The removal or removal of the semiconductor ingot 10 is followed by cleaning the inside of the pulling chamber 5 , etc. Then a new crystal seed (not shown) is attached to the wire or wire rope 15 and the wire or wire rope 15 , which then new crystal seed is wound up to prepare for a subsequent lifting operation. Thus, by repeating the above-described process, single crystals can be successively raised.

Es sollte angemerkt werden, daß das Fehlschlagen der Referenzrolle 17b, um in die Referenzführung 17 hineinzupassen, im Bertrieb bewirkt, daß der Mitnehmer 18 den Deviations-Detektor 20 für die vertikale Position betätigt. Ein Signal, das hierfür indi kativ ist, kann deshalb von dem Deviations-Detektor 20 für die vertikale Position ge liefert werden, um den Betrieb in einem Notfall zu stoppen. Die Vorrichtung kann da durch in Bezug auf eine Fehlfunktion oder daß sie beschädigt wird, geschützt werden.It should be noted that the failure of the reference roller 17 b to fit into the reference guide 17, causes the actuator Bert that the driver 18 to Deviations detector operated 20 for the vertical position. A signal indicative of this can therefore be provided by the vertical position deviation detector 20 to stop operation in an emergency. The device can thereby be protected against malfunction or damage.

Während die vorliegende Erfindung vorstehend in Bezug auf eine bestimmte, erläu ternde Ausführungsform davon angegeben worden ist, wird leicht für einen Fach mann auf dem betreffenden Fachgebiet ersichtlich werden, daß viele Änderungen davon, Weglassungen davon und Hinzufügungen dazu vorgenommen werden kön nen, ohne den allgemeinen Erfindungsgedanken und den Schutzumfang der vorlie genden Erfindung zu verlassen. Demzufolge sollte verständlich werden, daß die Er findung nicht dahingehend zu verstehen ist, auf die spezifischen Ausführungsfor men, die vorstehend angegeben sind, beschränkt zu sein, sondern sie soll alle mög lichen Ausführungsformen davon umfassen, die innerhalb des Schutzumfangs in Bezug auf die Merkmale, die insbesondere in den beigefügten Ansprüchen angege ben sind, und alle Äquivalente davon einschließen.While the present invention has been described above with respect to a particular, alternating embodiment thereof has become easy for a subject man in the subject area will see many changes thereof, omissions thereof and additions can be made NEN, without the general inventive concept and the scope of protection of the present Leaving invention. It should therefore be understood that the Er is not to be understood to the specific execution form Men, which are specified above to be limited, but should all possible Lichen embodiments thereof, which are within the scope of protection in Reference to the features particularly indicated in the appended claims ben and include all equivalents thereof.

Claims

1. Single crystal lifting device comprising:
a vacuum chamber;
a column near the vacuum chamber;
a pull chamber removably coupled to and disposed above the vacuum chamber and carried on the column via a rotator so that it is horizontally rotatable and movable up and down, the rotator rotating the pull chamber around the column;
a lifting device for raising and lowering the drawing chamber;
a crystal lifting device which is arranged above the pulling chamber via a supporting frame in such a way that it can be rotated horizontally and winds up a wire or a cable, the wire or the cable being able to be lowered through the pulling chamber into the vacuum chamber, in order thereby to produce a single crystal Turning to raise;
a rotating device for rotating the crystal lifting device; and
positioning means for positioning the crystal lifter to place it at a crystal elevation position which is a rotational position;
characterized in that the positioning device has:
a reference roll held by either the column or a support frame so that it is rotatable in a vertical plane; and
a reference guide which is provided at the end of the column or the support frame and has a pair of reference planes which are spaced apart from each other by a distance equal to an outer diameter of the reference roll, the reference roll being arranged so that they are received between the reference planes can, so that the reference guide can be adjusted laterally to establish the rotational position.

2. Single crystal lifting device according to claim 1, characterized in that that the reference roller of the positioning device is pivotable on a Is attached, which is arranged so that it can slide vertically, wherein the sliding device can be energized downwards.

3. Single crystal lifting device according to one of claims 1 or 2, characterized characterized in that the single crystal lifting device still has a first deviation detector for detecting a deviation in the Rotational position of the single crystal lifting device and a second one Deviation detector for detecting a deviation in the vertical Has position of the single crystal lifting device, the first and the second detector are arranged in the vicinity of the positioning device.

4. Single crystal lifting device according to one of claims 1 to 3, characterized in that the lifting device comprises
a source of pressurized fluid,
a lifting cylinder consisting of a hydraulic cylinder, and
a servo valve for switching and interrupting a supply of the pressure fluid from the pressure fluid source into the lifting cylinder.