DE19738536A1

DE19738536A1 - Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske und Verfahren zur Herstellung derselben

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Publication number: DE19738536A1
Application number: DE19738536A
Authority: DE
Inventors: Jae Myung Kim; Hwan Chul Rho; Dong Hee Han; Sung Hwan Moon
Original assignee: Samsung Display Devices Co Ltd
Current assignee: Samsung SDI Co Ltd
Priority date: 1996-10-31
Filing date: 1997-09-03
Publication date: 1998-05-07
Also published as: MY124109A; JPH10144230A; US6094003A; BR9704832A; CN1131540C; US6342756B1; CN1181609A; MX9708372A; TW418416B

Description

Hintergrund der Erfindung 1. Gebiet der Erfindung

Die vorliegende Erfindung betrifft eine Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske, und zwar insbesondere 1) eine Anti-Wölbungszusammensetzung, die eine Mischung aus einem Elektronen-Reflexionsmaterial wie beispielsweise Bismutoxid und einen Zeolith einschließt, um den Temperaturanstieg einzudämmen, indem die Zusammensetzung auf die Lochmaske für eine CRT (Kathodenbildstrahlröhre, "cathode-ray-tube") aufgetragen wird, 2) eine Anti-Wölbungszusammensetzung, die Blei (Pb) und wenigstens eine der Substanzen ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ umfaßt, um die mechanische Ausdehnung einer Lochmaske zu unterbinden und den Temperaturanstieg einzudämmen, indem die Zusammensetzung auf die Lochmaske für eine CRT aufgetragen wird, und 3) eine Anti- Wölbungszusammensetzung, die ferroelektrisches Material wie beispielsweise PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) oder PLZT [(PbLa) (ZrTi)O₃)] umfaßt, um den Temperaturanstieg einzudämmen, indem die Zusammensetzung auf die Lochmaske für eine CRT aufgetragen wird, um die Energie der Elektronenstrahlen in Nicht-Wärmeenergie zu verwandeln, und ein Verfahren zur Herstellung derselben.

2. Beschreibung des Standes der Technik

Bei einer herkömmlichen CRT mit Lochmaske werden graphische Bilder von roten, grünen und blauen Elektronenstrahlen reproduziert, die von einem Mittel zu ihrer Erzeugung ausgestrahlt werden. Die Elektronenstrahlen dringen durch ein Loch einer Lochmaske, laufen in einem Punkt zusammen und treffen auf rote, grüne und blaue Leuchtstoffpunkte, die auf einem Leuchtstoffbildschirm auf einer Innenfläche einer Platte ausgebildet sind.

Die in der Farb-CRT verwendete Lochmaske hat die Aufgabe, Elektronenstrahlen für eine spezielle Farbe aus den von der Elektronenkanone ausgesandten Elektronenstrahlen auszuwählen. Die Lochmaske wird im allgemeinen aus einem AK("aluminium killed")-Stahl hergestellt, der durch Photolithographie ausgebildete Hunderttausende und Zehntausende Löcher aufweist.

Ein allgemeines Verfahren zur Herstellung der Lochmaske wird speziell hiernach beschrieben.

Um eine Maskenplatte flach und einsetzbar zu machen, wird ein AK-Stahl einer Walzrichtbehandlung unterzogen, die seine plastische Verformung bewirkt. Danach wird das Verfahren zur Erzeugung von Löchern in der Maskenplatte mittels Photolithographie durchgeführt. Das Photolithographieverfahren wird in der Abfolge des Auftragens eines Photoresists, der Belichtung, des Entwickelns und Ätzens der Platte durchgeführt. Nach dem Ätzverfahren verfügt die Platte über eine Anzahl von Löchern, durch die Elektronenstrahlen dringen. Die Löcher aufweisende Platte wird bei hoher Temperatur einer Wärmebehandlung in Wasserstoffgas unterzogen, um ihr Duktilität zu verleihen (Glühverfahren), woraufhin ein Formgebungsverfahren durchgeführt wird, um der Platte mittels einer Presse eine bestimmte Form zu erteilen. Nach dem Formgebungsverfahren wird die Platte einem Entfettungsverfahren unterworfen, um Unreinheiten zu entfernen, die auf der Oberfläche der Platte haften. Danach wird ein Schwärzungsverfahren durchgeführt, um die Anti-Wölbungs-Eigenschaft der Lochmaske zu verbessern.

Ungefähr 20% der Elektronenstrahlen, die von einer Elektronenkanone emittiert werden und die Lochmaske erreichen, dringen durch die Lochmaske und bewirken die Lumineszenz eines Leuchtstoffbildschirms. Und ungefähr 80% der verbleibenden Elektronenstrahlen werden in der Lochmaske absorbiert und bewirken die Wärmeausdehnung der Lochmaske. Unter diesen Bedingungen steigt die Temperatur der Lochmaske auf ungefähr 80 bis 90°C. Wie zuvor erwähnt, nennen wir die Wärmeausdehnung einer Lochmaske das Wölbungsphänomen. Das Wölbungsphänomen führt zur Verschiebung der Löcher in der Lochmaske, was eine Veränderung der Lumineszenzstellungen auslöst und darüberhinaus Lumineszenzen verschiedener Farbe verursacht. Daher vermindert das Wölbungsphänomen die Farbenreinheit von CRTs. Im Hinblick auf das Erfordernis des Verhinderns des Wölbungsphänomens wurden verschiedene Arten von Anti-Wölbungs-Verfahren entwickelt.

Die japanische Patentoffenlegung Nr. sho 59-15861 und die US-Patente Nr. 4665338 und 4528246 offenbaren Verfahren zur Herstellung von CRTs, die eine Lochmaske verwenden, die aus einem Invarstahl hergestellt werden, um die durch das Wölbungs- Phänomen bedingte Schwächung der Farbenreinheit zu verhindern. Der Invarstahl weist eine vorzuziehende Anti-Wölbungs- Eigenschaft auf, da er einen Ausdehnungskoeffizienten aufweist, der 1/10 desjenigen eines AK-Stahls ist, nämlich 11,7 × 10^-6/K. Daher wird Invarstahl für gewöhnlich als Material einer Lochmaske für eine CRT von mehr als 15 Zoll verwendet. Jedoch ist Invarstahl teuer und schwer zu verarbeiten.

Die koreanische Patentanmeldung Nr. 86-1589 offenbart eine Elektronen-Reflexionsschicht mit Schwermetallen wie etwa Blei (Pb), Bismut (Bi) und Wolfram (W), die durch ein Verfahren in wässeriger Emulsion auf der Seite der Elektronenkanone aufgebracht wird, um die durch die Elektronenstrahlen verursachte Erhitzung einzudämmen. Die Metallschicht ist jedoch schwierig aufzubringen, und das Anti-Wölbungs-Verhältnis beträgt nur 30%, und das offenbarte Verfahren kann nur schwer auf eine praktische Massenproduktion umgestellt werden. Zusätzlich wird die Wolframschicht für gewöhnlich bei ungefähr 300°C oxidiert. Deshalb weist die Schicht bei der Temperatur von ungefähr 450°C, die beim Brenn- und Versiegelungsverfahren erreicht wird, das Problem starker Oxidation auf.

Zusammenfassung der Erfindung

Um die obigen Aufgaben zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske bereit, die ein Anti-Wölbungs-Verhältnis von ungefähr 30 bis 50% aufweist, indem der Temperaturanstieg eingedämmt wird, wodurch die mechanische Ausdehnung der Lochmaske verhindert wird, bzw. indem die Energie der Elektronenstrahlen in Nicht-Wärmeenergie umgewandelt wird, und ein Verfahren zur Herstellung derselben. Überdies ist die Lochmaske der vorliegenden Erfindung kostengünstig herstellbar und im Rahmen des Verfahrens leicht bearbeitbar.

Zusätzliche Aufgaben, Vorteile und neuartige Merkmale der Erfindung werden teils im Zusammenhang mit der nachfolgenden Beschreibung dargelegt, teils sind sie für Fachleute auf diesem Gebiet nach Berücksichtigung der folgenden Ausführungen offensichtlich; bzw. können sie bei der praktischen Ausführung der Erfindung ermittelt werden. Die Aufgabe und die Vorteile der Erfindung können mittels der Werkzeuge und Kombinationen erfüllt und erhalten werden, die speziell in den beigefügten Ansprüchen aufgeführt sind.

In der folgenden detaillierten Beschreibung wurde nur die bevorzugte Ausführungsform der Erfindung gezeigt und beschrieben, und zwar einfach unter Bezugnahme auf die beste Ausführungsweise, die vom Erfinder (von den Erfindern) zur Durchführung der Erfindung erwogen wird. Wie erkennbar ist, kann die Erfindung unter verschiedenen offensichtlichen Aspekten abgeändert werden, ohne daß die Erfindung dadurch verändert wird. Entsprechend ist die Beschreibung als rein veranschaulichend und nicht als einschränkend zu verstehen.

Detaillierte Beschreibung der Erfindung

Um die obigen Aufgaben zu lösen, stellt die vorliegende Erfindung eine Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske bereit, die ein Trägermittel und einen Zeolith umfaßt, und ebenfalls eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske, die ein Trägermittel, ein Elektronen-Reflexionsmaterial, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht, und einen Zeolith umfaßt. Die vorliegende Erfindung stellt ebenfalls eine Lochmaske bereit, die eine Stahlschicht mit einer Mehrzahl von Löchern, damit Elektronenstrahlen hindurchtreten, und die eine Beschichtung umfaßt, die auf der Stahlschicht unter Verwendung der Anti-Wölbungs-Zusammensetzung ausgebildet ist. Es ist vorzuziehen, daß die Menge des Zeoliths in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 10 bis 90 Gewichtsprozent ausmacht, und daß die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und ist 3 bis 30 µm dick ist.

Die vorliegende Erfindung stellt eine Lochmaske bereit, die eine Stahlschicht umfaßt, die eine Mehrzahl von Löchern aufweist, damit Elektronenstrahlen hindurchtreten, eine erste Beschichtung, die auf der Stahlschicht unter Verwendung einer Anti-Wölbungszusammensetzung ausgebildet ist, die einen Zeolith umfaßt, und eine zweite Beschichtung, die auf der ersten Schicht unter Verwendung einer Anti-Wölbungszusammensetzung ausgebildet ist, die ein Elektronenreflexionsmaterial umfaßt, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht. Es ist vorzuziehen, daß die erste und die zweite Beschichtung mit einem Siebdruckverfahren hergestellt werden und eine Dicke von 3 bis 30 µm aufweisen.

Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske bereit, das die Schritte des Vermischens eines Trägermittels und eines Zeoliths umfaßt, und sie stellt überdies ein Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske bereit, das die Schritte des Vermischens eines Trägermittels, eines Elektronen-Re flexionsmaterials, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht, und eines Zeoliths umfaßt. In einem Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht mit einer Vielzahl von Löchern, durch die Elektronenstrahlen hindurchtreten, und das Auftragen einer Anti-Wölbungszusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, besteht die Verbesserung der vorliegenden Erfindung darin, daß die Anti- Wölbungs-Zusammensetzung ein Elektronen-Reflexionsmaterial, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht, und/oder- einen Zeolith umfaßt. In einem Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern aufweist, durch die Elektronenstrahlen hindurchtreten, und das das Auftragen einer Anti-Wölbungs-Zusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung herzustellen, besteht die Verbesserung der vorliegenden Erfindung darin, daß eine erste aus einem Zeolith hergestellte Beschichtung auf der Stahlschicht gebildet wird und daß eine zweite Beschichtung auf der ersten Beschichtung gebildet wird, die aus einem Elektronen- Reflexionsmaterial hergestellt wird, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Menge des Zeoliths in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 10 bis 90 Gewichtsprozent ausmacht, und daß die jeweilige Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

Die vorliegende Erfindung stellt eine Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske bereit, die ein Trägermittel, Blei und mindestens eine Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 5 bis 50% Gewichtsprozent ausmacht. Die vorliegende Erfindung stellt auch eine Lochmaske bereit, die eine Stahlschicht mit einer Vielzahl von Löchern, damit Elektronenstrahlen hindurchtreten, und eine Beschichtung umfaßt, die die obige Anti-Wölbungszusammensetzung verwendet. Es ist vorzuziehen, daß die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske bereit, das die Schritte des Vermischens eines Trägermittels, Bleis und mindestens einer Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 5 bis 50 Gewichtsprozent ausmacht. In einem Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern aufweist, damit Elektronenstrahlen hindurchtreten, und das Auftragen einer Anti- Wölbungszusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, besteht die Verbesserung der vorliegenden Erfindung darin, daß die Anti-Wölbungs zusammensetzung mindestens eine Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

Die vorliegende Erfindung stellt eine Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske bereit, die ein Trägermittel und mindestens eine Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) und PLZT [(PbLa) (ZrTi)O₃] besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT, PT, PZ und PLZT besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 30 Gewichtsprozent oder mehr ausmacht. Die vorliegende Erfindung stellt auch eine Lochmaske bereit, die eine Stahlschicht, die eine Mehrzahl von Löchern aufweist, damit Elektronenstrahlen hindurchtreten, und eine Beschichtung umfaßt, die die obige Anti-Wölbungszusammensetzung verwendet. Es ist vorzuziehen, daß die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

Die vorliegende Erfindung stellt ein Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske bereit, das die Schritte des Vermischens eines Trägermittels und mindestens einer Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT, PT, PZ und PLZT besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT, PT, PZ und PLZT besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 30 Gewichtsprozent oder mehr ausmacht. In einem Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern aufweist, damit Elektronenstrahlen hindurchtreten, und des Aufbringens einer Anti-Wölbungs zusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, besteht die Verbesserung der vorliegenden Erfindung darin, daß die Anti-Wölbungs zusammensetzung mindestens eine Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT, PT, PZ und PLZT besteht. Es ist vorzuziehen, daß die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

Detailliertere Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen Herstellung einer Anti-Wölbungszusammensetzung, die ein Elektronen-Reflexionsmaterial und einen Zeolith verwendet

Ein Elektronen-Reflexionsmaterial wie beispielsweise Bismutoxid, Blei oder Wolframoxid wird mit einem Zeolith vermischt, um ein Gemisch zu erzeugen. Ein auf Epoxid beruhendes Trägermittel wird zu dem Gemisch hinzugegeben, um eine pastenartige Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske herzustellen. Um das Abplatzen von Teilchen nach dem Schwärzungs- und Brennverfahren zu verhindern, wird eine geeignete Menge einer Fritte mit einem niedrigen Schmelzpunkt zur Zusammensetzung hinzugegeben. Ein Zeolith, der die chemische Formel Na₁₂ [AlO₂)₁₂(SiO₂)₁₂] . XH₂O aufweist, ist ein häufig verwendetes Tonmineral. Der Zeolith weist Mikroporen auf, so daß er als Absorptionsmittel, Enzymträger, Isoliermaterial, etc. verwendet wird. In der vorliegenden Erfindung wird der Zeolith als Isoliermaterial verwendet, um die Übertragung von Hitze, die durch auf eine Lochmaske stoßende Elektronen erzeugt wird, zu verhindern. Eine Aufgabe des Bismutoxids ist es, den Temperaturanstieg einzudämmen, indem viele der aus einer Elektronenkanone emittierten Elektronenstrahlen reflektiert werden, bevor sie auf die Lochmaske stoßen, da es einen hohen Elektronen-Reflexions-Koeffizienten aufweist. Die obige Beschichtungszusammensetzung wird auf die Lochmaske, die einem Glühverfahren unterworfen worden ist, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens verfügt die Lochmaske, die eine Beschichtung aufweist, um ein Wölbungsphänomen zu verhindern, über verbesserte Anti-Wölbungseigenschaften.

Herstellung einer Anti-Wölbungszusammensetzung, die Blei, ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ verwendet

ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ werden mit Blei unter Ausbildung einer Mischung vermischt. Ein auf Epoxid beruhendes Trägermittel wird zu der Mischung unter Erzeugung einer pastenartigen Anti- Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske zugesetzt. Eine Aufgabe des Bleis ist die Verhinderung des Temperaturanstiegs durch die Reflexion vieler der Elektronenstrahlen, die von einer Elektronenkanone emittiert werden, bevor sie auf die Lochmaske treffen, da es einen hohen Elektronenreflexionskoeffizienten aufweist. ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ haben überdies die Aufgabe, die thermische Ausdehnung der Lochmaske zu vermindern, da sie einen niedrigen Ausdehnungskoeffizienten aufweisen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wird auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterworfen worden ist, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens verfügt die Lochmaske mit einer Beschichtung zur Verhinderung des Wölbungsphänomens über eine verbesserte Anti-Wölbungseigenschaft. Gemäß dem obigen Verfahren wird das Blei geschmolzen und umschließt die ZnO-, B₂O₃- und Bi₂O₃-Partikel, so daß das Abplatzen der Partikel bei den nachfolgenden Verfahren verhindert wird.

Herstellung einer Anti-Wölbungszusammensetzung unter Verwendung von PZT, PT, PZ und PLZT

Ein auf Epoxid beruhendes Trägermittel wird zu PZT, PT, PZ, PLZT oder zu einem Gemisch davon hinzugefügt, um eine pastenartige Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske zu erzeugen. Um das Abplatzen der Teilchen nach dem Schwärzungs- und Brennverfahren zu verhindern, wird eine geeignete Menge einer Fritte mit niedrigem Schmelzpunkt zur Zusammensetzung hinzugegeben. PZT, PT, PZ, PLZT oder ein Gemisch davon, das piezoelektrische und pyroelektrische Eigenschaften aufweist, hat die Aufgabe der Eindämmung des Temperaturanstiegs der Lochmaske, indem die Energie der Elektronenstrahlen in Nicht-Wärme-Energie umgewandelt wird. Die obige Beschichtungszusammensetzung wird auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden ist, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens verfügt die Lochmaske, die eine Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über eine verbesserte Anti-Wölbungseigenschaft. Gemäß dem obigen Verfahren wird die Fritte geschmolzen und umschließt die PTZ-, PT-, PZ-, PLZT-Partikel, so daß das Abplatzen der Partikel in den nachfolgenden Verfahren verhindert wird.

Vorzuziehende Beispiele und ein Bezugsbeispiel werden unten beschrieben. Diese Beispiele sind lediglich beispielhaft, und die vorliegende Erfindung ist nicht auf den Schutzumfang des Beispiels beschränkt.

Beispiel 1

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel herzustellen. 20 g Zeolith wurden zu 40 g Bismutoxid-Partikeln hinzugegeben. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugegeben, um eine Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde mittels eines Siebdruckverfahrens auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, aufgetragen, wobei eine Beschichtung 20 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über eine verbesserte Anti- Wölbungseigenschaft.

Beispiel 2

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel zu erzeugen. 10 g Zeolith wurden zu 50 g von Bleipartikeln hinzugegeben, und daraufhin wurden 20 g der Fritte hinzugefügt, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugefügt, um eine Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 20 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über verbesserte Anti-Wölbungs- Eigenschaften.

Beispiel 3

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel herzustellen. 10 g Zeolith wurden zu 60 g Wolframoxid-Partikeln hinzugegeben und daraufhin wurden 10 g einer Fritte hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugegeben, um eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 15 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über eine verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaft.

Beispiel 4

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel herzustellen. 40 g Fritte wurden zu 40 g Zeolith hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. 16 g Fritte wurden zu 64 g von Bismutoxid-Partikeln hinzugegeben, um eine weitere Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischungen wurden jeweils zum Trägermittel hinzugegeben, um Anti-Wölbungs zusammensetzungen für eine Lochmaske gemäß der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die Beschichtungszusammensetzung, die den Zeolith aufweist, wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 10 µm dick war. Mit demselben Verfahren wurde die Beschichtungszusammensetzung, die das Bismutoxid aufwies, auf die erste Beschichtung aufgetragen. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die zwei Beschichtungen aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über eine verbesserte Anti- Wölbungs-Eigenschaft.

Beispiel 5

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel herzustellen. 40 g Fritte wurden zu 40 g Zeolith hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. 20 g Fritte wurden zu 64 g Bleipartikeln hinzugegeben, um eine weitere Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischungen wurden jeweils zum Trägermittel hinzugegeben, um Anti-Wölbungs zusammensetzungen für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die Beschichtungszusammensetzung, die den Zeolith aufweist, wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 10 µm dick war. Mit demselben Verfahren wurde die Beschichtungszusammensetzung, die Blei aufweist, auf die erste Beschichtung aufgetragen. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die zwei Beschichtungen aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über eine verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaft.

Beispiel 6

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel herzustellen. 40 g Fritte wurden zu 40 g Zeolith hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. 30 g Fritte wurden zu 50 g von Wolframoxidpartikeln hinzugegeben, um eine weitere Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischungen wurden jeweils zum Trägermittel hinzugegeben, um Anti-Wölbungs zusammensetzungen für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die Beschichtungszusammensetzung mit dem Zeolith wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 10 µm dick war. Mit demselben Verfahren wurde die Beschichtungszusammensetzung mit dem Wolframoxid auf die erste Beschichtung aufgetragen. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die zwei Beschichtungen aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über eine verbesserte Anti- Wölbungs-Eigenschaft.

Beispiel 7

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel zu erzeugen. 40 g Fritte wurden zu 40 g Zeolith hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugefügt, um eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 10 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaften.

Beispiel 8

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel zu erzeugen. 40 g ZnO wurden zu 40 g Bleipartikeln hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugefügt, um eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 20 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaften.

Beispiel 9

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel zu erzeugen. 20 g ZnO wurden zu 60 g Bleipartikeln hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugefügt, um eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 20 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaften.

Beispiel 10

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel zu erzeugen. 16 g Fritte wurden zu 64 g PZT-Par tikeln hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugefügt, um eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 20 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaften.

Beispiel 11

16 g Butylcarbinol und 4 g Epoxidharz wurden vermischt, um ein Trägermittel zu erzeugen. 8 g Fritte wurden zu 72 g PZT-Par tikeln hinzugegeben, um eine Partikelmischung zu erzeugen. Die Partikelmischung wurde zum Trägermittel hinzugefügt, um eine Anti-Wölbungs-Zusammensetzung für eine Lochmaske gemäß der vorliegenden Erfindung herzustellen. Die obige Beschichtungszusammensetzung wurde auf die Lochmaske, die einem Glühvorgang unterzogen worden war, mittels eines Siebdruckverfahrens aufgetragen, wobei eine Beschichtung 25 µm dick war. Nach der Durchführung eines Schwärzungsverfahrens bei einer Temperatur von 570°C, verfügt die Lochmaske, die die Beschichtung aufweist, um einem Wölbungsphänomen vorzubeugen, über verbesserte Anti-Wölbungs-Eigenschaften.

Bezugsbeispiel

Eine Lochmaske wurde nach demselben Verfahren des Beispiels 1 hergestellt, mit der Ausnahme, daß die Beschichtung nicht gebildet wurde.

Das Wölbungsverhältnis wird im allgemeinen bestimmt, indem ein Maximalabstand zwischen einer Strahlposition im nicht erhitzten Zustand und der Strahlposition im erhitzten Zustand gemessen wird, und es zeigt das Wölbungsphänomen an. Die Wölbungsverhältnisse der 25 Zoll-AK-Stahl-Lochmasken, die mit der Zusammensetzung gemäß den Beispielen und dem Bezugsbeispiel beschichtet sind, werden in der nachstehenden Tabelle 1 gezeigt.

Tabelle 1

Als Ergebnis der Herstellung von Anti-Wölbungs zusammensetzungen und von Lochmasken, die mit den Zusammensetzungen gemäß der Beispiele und des Bezugsbeispiels beschichtet sind, reduzieren die Lochmasken der Beispiele 1 bis 7 das Wölbungsverhältnis verglichen mit der Lochmaske des Bezugsbeispiels um ungefähr 30 bis 50%, da die Lochmasken der Beispiele 1 bis 7 den Temperaturanstieg aufgrund einer Elektronen-Reflexionswirkung, die von Elektronen-Re flexionsmaterialien verursacht wird, und aufgrund einer Isolationswirkung, die durch den Zeolith bewirkt wird, eindämmen. Darüberhinaus weisen die in Zusammenhang mit dem Verfahren der Beispiele 1 bis 7 hergestellten Lochmasken niedrige Produktionskosten auf und sind im Rahmen des Verfahrens leicht verarbeitbar. Ein Zeolith vom 4A-Typ wurde in den Beispielen verwendet, wenngleich man auch dieselben Ergebnisse erhalten könnte, wenn man Zeolithe vom 3A-, 5A- oder X-Typ verwenden würde, die denselben molekularen Aufbau wie der Zeolith vom 4A-Typ aufweisen, jedoch über eine unterschiedliche Mikroporengröße verfügen.

Die Lochmasken der Beispiele 8 und 9 reduzieren das Wölbungsverhältnis, verglichen mit der Lochmaske des Bezugsbeispiels, um ungefähr 30 bis 40% oder mehr, indem der Temperaturanstieg eingedämmt wird. Und die Lochmasken, die in Zusammenhang mit dem Verfahren der Beispiele 8 und 9 hergestellt werden, weisen niedrige Produktionskosten auf und sind im Rahmen des Verfahrens leicht verarbeitbar.

Die Lochmasken der Beispiele 10 und ii reduzieren das Wölbungsverhältnis, verglichen mit der Lochmaske des Bezugsbeispiels, um ungefähr 30 bis 40%, indem der Temperaturanstieg eingedämmt wird. Und die Lochmasken, die in Zusammenhang mit dem Verfahren der Beispiele 10 und 11 hergestellt werden, weisen ebenfalls niedrige Produktionskosten auf und sind während des Verfahrens leicht verarbeitbar.

In der vorliegenden Offenbarung wird nur die bevorzugte Ausführungsform der Erfindung vorgestellt und beschrieben, aber es ist, wie zuvor erwähnt, offensichtlich, daß die Erfindung in verschiedenen anderen Kombinationen und Umgebungen verwendet werden kann und im Rahmen des Schutzumfangs des Erfindungsgedankens, wie er hierin angegeben ist, auch verändert bzw. abgeändert werden kann.

Claims

1. Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske, die folgendes umfaßt:
ein Trägermittel; und
einen Zeolith.

2. Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 1, worin die Menge Zeolith in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 10 bis 90 Gewichtsprozent ausmacht.

3. Lochmaske, die folgendes umfaßt:
eine Stahlschicht, die eine Mehrzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist; und
eine Beschichtung, die auf der Stahlschicht gebildet wird, indem die Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 1 verwendet wird.

4. Lochmaske nach Anspruch 3, worin die Beschichtung mittels eines Siebdruckverfahrens hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

5. Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske, die folgendes umfaßt:
ein Trägermittel;
ein Elektronen-Reflexionsmaterial, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht; und
Zeolith.

6. Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 5, worin die Menge Zeolith in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 10 bis 90 Gewichtsprozent ausmacht.

7. Lochmaske, die folgendes umfaßt:
eine Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist; und
eine Beschichtung, die auf der Stahlschicht gebildet wird, indem die Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 5 verwendet wird.

8. Lochmaske nach Anspruch 7, worin die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

9. Lochmaske, die folgendes umfaßt:
eine Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist;
eine erste Beschichtung, die auf der Stahlschicht gebildet wird, indem eine Anti-Wölbungszusammensetzung verwendet wird, die einen Zeolith umfaßt; und
eine zweite Beschichtung, die auf der ersten Beschichtung gebildet wird, indem eine Anti-Wölbungszusammensetzung verwendet wird, die ein Elektronen-Reflexionsmaterials umfaßt, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht.

10. Lochmaske nach Anspruch 9, worin die erste und zweite Beschichtung mittels eines Siebdruckverfahrens hergestellt werden und 3 bis 30 µm dick sind.

11. Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske, das folgenden Schritt umfaßt:
Vermischen eines Trägermittels und eines Zeoliths.

12. Das Verfahren nach Anspruch 11, worin die Menge des Zeoliths in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 10 bis 90% Gewichtsprozent ausmacht.

13. Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske, das folgende Schritte umfaßt:
das Vermischen eines Trägermittels, eines Elektronen- Reflexionsmaterials, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht, und eines Zeoliths.

14. Verfahren nach Anspruch 13, worin eine Menge des Zeoliths in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 10 bis 90 Gewichtsprozent ausmacht.

15. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist, und des Aufbringens einer Anti-Wölbungszusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, dadurch gekennzeichnet, daß die Anti-Wölbungszusammensetzung einen Zeolith umfaßt.

16. Verfahren nach Anspruch 15, worin die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

17. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist, und des Aufbringens einer Anti-Wölbungszusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, dadurch gekennzeichnet, daß:
die Anti-Wölbungszusammensetzung einen Zeolith und ein Elektronen-Reflexionsmaterial umfaßt, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht.

18. Verfahren nach Anspruch 17, worin die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

19. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist, und des Aufbringens einer Anti-Wölbungszusammensetzung umfaßt, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, dadurch gekennzeichnet, daß
eine erste Beschichtung, die mit einem Zeolith hergestellt wird, auf der Stahlschicht aufgebracht wird; und
eine zweite Beschichtung, die mit einem Elektronenreflexionsmaterial hergestellt wird, das aus der Gruppe gewählt ist, die aus Bismutoxid, Blei und Wolframoxid besteht, auf der ersten Beschichtung aufgebracht wird.

20. Verfahren nach Anspruch 19, worin die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

21. Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske, die folgendes umfaßt:
ein Trägermittel;
Blei; und
mindestens eine Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht.

22. Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 21, worin die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 5 bis 50 Gewichtsprozent ausmacht.

23. Lochmaske, die folgendes umfaßt:
eine Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist; und
eine Beschichtung, die die Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 21 verwendet.

24. Lochmaske nach Anspruch 23, worin die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

25. Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske, das folgende Schritte umfaßt:
das Vermischen eines Trägermittels, Bleis und mindestens einer Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht.

26. Verfahren nach Anspruch 25, worin die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 5 bis 50% des Gewichts ausmacht.

27. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist, und des Aufbringens einer Anti-Wölbungszusammensetzung, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß:
die Anti-Wölbungszusammensetzung mindestens eine Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus ZnO, B₂O₃ und Bi₂O₃ besteht.

28. Verfahren nach Anspruch 27, worin die Beschichtung durch ein Siebdruckverfahren hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

29. Anti-Wölbungszusammensetzung für eine Lochmaske, die folgendes umfaßt:
ein Trägermittel; und
mindestens eine Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) und PLZT [(PbLa) (ZrTi)O₃] besteht.

30. Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 29, worin die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) und PLZT [(PbLa)(ZrTi)O₃] besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 30 Gewichtsprozent oder mehr ausmacht.

31. Lochmaske, die folgendes umfaßt:
eine Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchtritt von Elektronenstrahlen aufweist; und
eine Beschichtung, die die Anti-Wölbungszusammensetzung nach Anspruch 29 verwendet.

32. Lochmaske nach Anspruch 31, worin die Beschichtung mittels eines Siebdruckverfahrens hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.

33. Verfahren zur Herstellung einer Anti-Wölbungs zusammensetzung für eine Lochmaske, das folgende Schritte umfaßt:
das Vermischen eines Trägermittels und mindestens einer Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) und PLZT [(PbLa) (ZrTi)O₃] besteht.

34. Verfahren nach Anspruch 33, worin die Menge der Verbindung, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) und PLZT [(PbLa) (ZrTi)O₃] besteht, in Bezug auf die Gesamtmenge der Zusammensetzung 30 Gewichtsprozent oder mehr ausmacht.

35. Verfahren zur Herstellung einer Lochmaske, das die Schritte der Herstellung einer Stahlschicht, die eine Vielzahl von Löchern zum Durchgang von Elektronenstrahlen aufweist, und des Aufbringens einer Anti-Wölbungszusammensetzung, um auf der Stahlschicht eine Beschichtung zu erzeugen, umfaßt, dadurch gekennzeichnet, daß
die Anti-Wölbungszusammensetzung mindestens eine Verbindung umfaßt, die aus der Gruppe gewählt ist, die aus PZT (PbZrTiO₃), PT (PbTiO₃), PZ (PbZrO₃) und PLZT [(PbLa) (ZrTi)O₃] besteht.

36. Verfahren nach Anspruch 35, worin die Beschichtung mittels eines Siebdruckverfahrens hergestellt wird und 3 bis 30 µm dick ist.