DE19716277A1 - Filtereinrichtung - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Filtereinrichtung mit einem Reaktionsraum, der einen Zuflußanschluß und einen Ab­ flußanschluß aufweist und in dem ein Filter aus einem Filtermaterial angeordnet ist, der Durchlaßpfade mit vorbestimmten Durchlaßeigenschaften aufweist.

Zur Reinigung von Fluiden, beispielsweise von Wasser, sind Filter bekannt, die einen derartigen Aufbau haben. Das Wasser durchströmt in diesem Fall den Reaktionsraum vom Zuflußanschluß zum Abflußanschluß. Der Filter hält dann in Abhängigkeit von seinen Durchlaßeigenschaften Verunreinigungen zurück, die eine vorbestimmte Größe überschreiten. Derartige Verunreinigungen können einer­ seits durch Schmutzkörperchen oder andere "mechanische" Verschmutzungen gebildet werden, die in dem Filter zu­ rückgehalten werden, so daß am Abflußanschluß ein von einigen Inhaltsstoffen befreites Wasser abgenommen wer­ den kann. In manchen Anwendungsfällen soll der Filter aber auch Mikroorganismen zurückhalten können, insbe­ sondere bakterielle Zellagglomerate und Protozone, z. B. Amöben und Cryptosporidien, aber auch Bakterien, Viren und deren Bestandteile, z. B. Prionen.

In der Praxis hat sich allerdings herausgestellt, daß die Reinigungswirkung derartiger Filter sehr begrenzt ist. In vielen Fällen wirken derartige Filter sogar kontraproduktiv, weil sich hier die Mikroorganismen ansammeln und daher im verstärkten Maße Kulturen bil­ den, die das abfließende Wasser wieder kontaminieren können oder bei diskontinuierlicher Belastung nach ei­ nem Belastungsschub über längere Zeit Mikroben abgeben. Nach einer gewissen Betriebszeit läßt sich beobachten, daß das abfließende Wasser manchmal stärker belastet ist als das zufließende Wasser. Außerdem sind die ge­ schilderten Filterleistungen für Bakterien und Viren nur durch sehr geringe Filterabscheidegrade möglich (Porengröße < 1 µm), was sehr hohen Eingangsdruck oder sehr geringe Durchflußleistung bedeutet.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, die Behand­ lungswirkungen für ein Fluid zu verbessern.

Diese Aufgabe wird bei einer Filtereinrichtung der ein­ gangs genannten Art dadurch gelöst, daß das Filtermate­ rial für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 400 nm oder weniger durchlässig oder leitfähig ist und daß eine UV-Strahlungsabgabeeinrichtung vorgesehen ist, die UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 400 nm oder we­ niger abgibt, wobei das Filtermaterial eine Vielzahl von UV-Strahlungsaustrittsstellen in die Durchlaßpfade aufweist.

Zu der mechanischen Filterwirkung, die Mikroorganismen, insbesondere in Form von Zellagglomeraten, am Durch­ tritt durch den Filter hindern, kommt nun eine Wirkung hinzu, mit der die Mikroorganismen inaktiviert oder in ihrer Fortpflanzungsfähigkeit behindert werden. Das durch den Filter strömende Fluid tritt, wie in einem herkömmlichen Filter auch, durch die Durchlaßpfade hin­ durch. Größere Partikel werden zurückgehalten oder zu­ mindest ihre Durchtrittsgeschwindigkeit stark herabge­ setzt. Solange sich die Mikroorganismen in dem Filter­ material befinden, werden sie mit UV-Strahlung beauf­ schlagt. Da das Filtermaterial den Durchtritt dieser Mikroorganismen hemmt oder sogar verhindert, sind die Mikroorganismen der UV-Strahlung relativ lange ausge­ setzt, d. h. sie erhalten eine relativ große Strahlungs­ dosis. Diese reicht normalerweise aus, um die Mikroor­ ganismen abzutöten oder ihre DNA soweit zu schädigen, daß eine Vermehrung nicht mehr oder nicht mehr in nen­ nenswertem Maße möglich ist. Dies soll im folgenden kurz mit dem Begriff "Inaktivierung" zusammengefaßt beschrieben werden. Das Filter ist sowohl für Flüssig­ keiten als auch für Gase geeignet.

In einer besonders bevorzugten Ausgestaltung ist im Filter ein fotoaktivierbares Halbleitermaterial ange­ ordnet. Dieses Halbleitermaterial führt zu einer noch besseren Inaktivierung der Mikroorganismen. Obwohl die biologischen, physikalischen und chemischen Abläufe hierbei noch nicht völlig geklärt sind, nimmt man an, daß die UV-Strahlung das Halbleitermaterial anregt, also fotoaktiviert. Fotoaktivierung bedeutet hier, daß durch die Lichtabsorption im Halbleiter Elektronen vom Valenzband in das Leitungsband gehoben werden. Hier­ durch entsteht ein Redoxpotential, das über die Bildung radikalischer Spezies bzw. Mechanismen zur Abtötung von Mikroorganismen führt. Da diese Prozesse unspezifisch sind, kommt es nebenbei auch zu oxidativen Abbaureak­ tionen oxidierbarer Stoffe im Fluid, wie z. B. haloge­ nierten Kohlenwasserstoffen, freien und komplexen Cyni­ den, AOX, Mineralöl, Komplexbildnern, CSB, Nitrit, Chromat. Da sich der Halbleiter hierbei nicht verän­ dert, spricht von einem Katalysator. Zusätzlich bzw. neben oder anstelle der Inaktivierung der Mikroorganis­ men durch direkte Bestrahlung mit der UV-Strahlung er­ reicht man also eine weitergehende Inaktivierung durch Oxidationsreaktionen, die auf die Mikroorganismen wir­ ken. Hierbei ergibt sich nun ein überraschender Effekt. Man kann nämlich nicht nur Mikroorganismen auf diese Weise inaktivieren. Man kann auch andere Stoffe, die in dem Fluid enthalten sind und die man bislang nicht oder nur mit Schwierigkeiten entfernen konnte, oxidieren, so daß sie am Ausgangsanschluß der Filtereinrichtung in dem Fluid nicht mehr in störender Form vorhanden sind. Wenn man nicht Wasser oder eine Flüssigkeit, sondern ein Gas, wie beispielsweise Luft, durch die Filterein­ richtung leitet, kann man beispielsweise Gerüche bzw. die sie verursachenden Stoffe, Nikotin, Formaldehyd, PCB oder Lösungsmittel oxidieren und damit zumindest weitgehend aus der Luft entfernen. Man kann also die Filtereinrichtung in einer Vielzahl von Anwendungsfäl­ len verwenden, wobei man natürlich das Durchströmver­ halten des Filters an das jeweilige Fluid anpassen sollte.

Vorzugsweise ist das Halbleitermaterial an der Oberflä­ che des Filtermaterials angeordnet. Es reicht hierbei aus, wenn das Halbleitermaterial in einer dünnen Schicht oder sogar nur in dünnen Flächenbereichen vor­ handen ist, deren Stärke einige wenige Moleküle dick ist. Damit ist sichergestellt, daß die "oxidationsbe­ reite" Stelle immer dort ist, wo auch die zu beseiti­ genden Verunreinigungen, beispielsweise Mikroorganismen oder andere Stoffe vorhanden sind, nämlich an der Ober­ fläche des Filtermaterials. Sobald sich dort etwas an­ lagert, das oxidiert werden kann, wird es durch den angeregten Halbleiter auch oxidiert und damit gegebe­ nenfalls inaktiviert. Es reicht aber auch aus, wenn das Filtermaterial eine Beimischung von Halbleitermaterial enthält, weil man in diesem Fall mit einer stati­ stischen Wahrscheinlichkeit davon ausgehen kann, daß ein gewisser Anteil der Oberfläche des Filtermaterials aus dem Halbleitermaterial gebildet ist. Auch in diesem Fall lassen sich die gewünschten oxidationsbereiten Stellen erzeugen.

Vorzugsweise ist das Halbleitermaterial in Durchlaßpfa­ den angeordnet. Die Durchlaßpfade lassen das Fluid durchströmen und halten größere Verunreinigungen zu­ rück. Hierbei ist es nicht unbedingt erforderlich, daß die Durchlaßpfade die Verunreinigungen vollständig blockieren. In den meisten Fällen reicht es aus, wenn die Durchtrittsgeschwindigkeit herabgesetzt wird. Der Begriff "größere" ist hier relativ zu verstehen. Es kann sich durchaus um bakterielle Zellagglomerate und Protozone handeln, die sich auf die Größe einer Amöbe beschränken. Damit erreicht man vielfach sogar die Mög­ lichkeit, auch kleinere Keime zu inaktivieren. So ni­ stet sich beispielsweise der Keim der Legionella inner­ halb von größeren Amöben ein und ist damit durch die Zellwandung des Wirts vor UV-Licht-Bestrahlung weitge­ hend geschützt. Durch die Verwendung des Filters in Verbindung mit der UV-Strahlung wird nun allerdings die Strahlungsdosis stark erhöht, so daß die Chance, auch diesen Keim abzutöten, steigt. Insbesondere in Verbin­ dung mit dem aktivierbaren Halbleitermaterial wird die Inaktivierungschance noch weiter verbessert. Die Oxida­ tion, die durch das Halbleitermaterial bewirkt wird, schreitet nämlich solange fort, bis es nichts mehr zu oxidieren gibt. Damit werden in den meisten Fällen auch solche Keime oxidiert, die sich in andere Wirte einge­ nistet haben.

Mit Vorteil ist das Halbleitermaterial durch Titandi­ oxid oder Siliziumcarbid gebildet. Diese beiden Mate­ rialien lassen sich mit UV-Strahlung leicht aktivieren. Die UV-Strahlung kann hierbei eine Wellenlänge im Be­ reich von 350 nm bis 400 nm haben, was den Vorteil hat, daß man für das Filtermaterial eine Vielzahl von Mate­ rialien verwenden kann. Bei der reinen UV-Bestrahlung beschränkt man sich aus Gründen der Wirksamkeit oft auf eine Wellenlänge von 250 bis 255 nm, weil die meisten Mikroorganismen bzw. ihre DNA in diesem Wellenlängenbe­ reich das größte Absorptionsspektrum aufweist. In die­ sem Fall ist man aber vielfach auf die Verwendung von Quarzglas für das Filtermaterial beschränkt. Allerdings läßt sich auch mit Quarzglas vielfach ein zufriedens­ tellendes Filterverhalten erreichen, bei dem eine In­ aktivierung der Mikroorganismen erreicht wird.

Vorzugsweise ist das Filtermaterial als Matrix ausge­ bildet, die aus einer Vielzahl von Körpern zusammenge­ setzt ist, wobei die Körper untereinander und gegebe­ nenfalls mit der UV-Strahlungsabgabeeinrichtung eine Vielzahl von Berührungsstellen bilden. Diese Körper oder "Körner" mit einer Größe im Bereich von 0,005 mm bis etwa 5 mm können dann beispielsweise einfach in den Reaktionsraum geschüttet werden. Sie bilden dann zwi­ schen sich die notwendigen Durchlaßpfade aus. Die UV-Strahlung kann dann an den Berührungsflächen zwischen einzelnen Körpern oder Körnern von einem Körper zum anderen übertreten, weil die Körper an sich für die UV-Strahlung lichtleitend oder zumindest lichtdurchlässig sind. An den Berührungsstellen findet dann ein direkter Übergang von einem Körper zum anderen statt, so daß die UV-Strahlung auch in Bereiche gelangen kann, die eine gewisse Entfernung von der UV-Strahlungsabgabeeinrich­ tung aufweisen. Dementsprechend kann die zur Verfügung stehende Filterquerschnittsfläche relativ groß gewählt werden, ohne daß man befürchten muß, daß die Inaktivie­ rungswirkung der Filtereinrichtung in einer größeren Entfernung von der UV-Strahlungsabgabeeinrichtung unzu­ reichend wird.

Hierbei ist von Vorteil, wenn die Körper einen Anteil der UV-Strahlung streuen. Damit ist sichergestellt, daß die UV-Strahlung nicht nur von einem Körper zum anderen weitergereicht wird, sondern auch in der Umgebung eines jeden Körpers ein gewisser Strahlungsaustritt der UV-Strahlung erfolgt, nämlich dort, wo der Körper nicht an einen anderen Körper anstößt. Dort ist aber gleichzei­ tig der Durchlaßpfad für das Fluid, so daß das durch­ strömende Fluid hier mit der UV-Strahlung beaufschlagt wird.

Vorzugsweise ist die UV-Strahlungsabgabeeinrichtung als UV-Strahler ausgebildet, der innerhalb des Filtermate­ rials angeordnet ist. Zwar ist es möglich, den UV-Strahler auch außerhalb des Filtermaterials anzuordnen, was bei kleineren Filtereinrichtungen in der Regel aus­ reichen wird. Wenn man den Strahler innerhalb des Fil­ termaterials anordnet, dann sind die Strecken, die die UV-Strahlung zurücklegen muß, bei ansonsten unveränder­ ter Querschnittsfläche kleiner bzw. man kann einen grö­ ßeren Durchtrittsquerschnitt verwenden.

Vorzugsweise ist der Strahler innerhalb eines Tauch- oder Hüllrohres angeordnet. Das Tauchrohr bietet Schutz für den UV-Strahler. Da sich das Filtermaterial von außen dicht an das Tauchrohr anlegen kann, kann die UV-Strahlung direkt in das Filtermaterial eintreten.

Vorzugsweise weist das Filtermaterial im wesentlichen eine Erstreckung auf, die ungefähr der Länge des Strah­ lers entspricht. Der Strahler bildet dann beispielswei­ se die Mittelachse eines Zylinders, dessen Schale durch das Filtermaterial gebildet wird. Die radiale Erstrec­ kung dieses Zylinders bildet dann den größten Weg, den die UV-Strahlung zurücklegen muß.

Vorzugsweise ist das Filtermaterial als Polymermaterial ausgebildet. Dieses läßt sich leicht herstellen und handhaben. Im Wellenlängenbereich von 350 bis 400 nm kann ein Polymermaterial problemlos so ausgewählt wer­ den, daß es für diese Strahlung leitfähig ist. Man kann, wie oben ausgeführt, das Halbleitermaterial dem Polymermaterial beigeben oder es einfach an der Ober­ fläche der Durchlaßpfade befestigen. Die Durchlaßpfade können beispielsweise dadurch gebildet werden, daß das Polymermaterial aufgeschäumt wird oder daß man kleine Körner aus dem Polymermaterial verwendet, die als Schüttung in den Reaktionsraum eingebracht werden, und die an ihrer Oberfläche mit Halbleitermaterial versehen sind. Man kann auch poröses Polymermaterial verwenden, das auf andere Art hergestellt wird. Die Porengröße läßt sich bei derartigen Materialien gut einstellen. Anstelle von Polymermaterial läßt sich auch Quarz oder ein anderes Material verwenden, das im Wellenlängenbe­ reich unter 400 nm Transparenz aufweist, z. B. SiC.

In einer besonders bevorzugten Ausgestaltung kann zu­ sätzlich zur oder anstelle der UV-Strahlungsabgabeein­ richtung eine elektrische Aktivierungseinrichtung für das Halbleitermaterial vorgesehen sein. Halbleitermate­ rialien lassen sich vielfach nicht nur fotoaktivieren, sondern auch auf elektrischem Weg, beispielsweise durch Anlegen einer Spannung aktivieren. In diesem Fall er­ hält man praktisch das gleiche Ergebnis.

Die Erfindung wird im folgenden anhand eines bevorzug­ ten Ausführungsbeispiels in Verbindung mit der Zeich­ nung beschrieben. Hierin zeigt die einzige Figur eine schematische Ansicht einer Filte­ reinrichtung im Schnitt.

Eine Filtereinrichtung 1, die man genauer auch als "Oxidationsreaktor" bezeichnen kann, weist ein Gehäuse 2 auf, das einen Reaktionsraum 3 umgrenzt.

Der Reaktionsraum 3 weist einen Zuflußanschluß 4 oder Vorlauf und einen Abflußanschluß 5 oder Rücklauf auf. Ferner ist im Reaktionsraum 3 ein Filter 6 aus einem Filtermaterial 7 vorgesehen, und zwar im Strömungspfad zwischen dem Zuflußanschluß 4 und dem Abflußanschluß 5.

Der Reaktionsraum 3 ist im wesentlichen zylinderförmig ausgestaltet. In seiner Mitte ist eine UV-Strahlungs­ abgabeeinrichtung 8 angeordnet, die einen UV-Strahler 9 aufweist, der inmitten eines Tauchrohres 10 angeordnet ist.

Das Filtermaterial 7 des Filters 6 legt sich dicht an die Wand des Reaktionsraumes 3 und an das Tauchrohr 10 an, so daß ein Fluid, das in den Zuflußanschluß 4 ein­ gespeist wird, nur durch den Filter 6 zum Abflußan­ schluß 5 gelangen kann.

Hierbei hat der Filter 6 eine bestimmte Durchlaßeigen­ schaft, d. h. die Durchlaßpfade, die im Filtermaterial 7 gebildet sind, weisen eine vorbestimmte Maximalgröße auf, so daß Partikel, die diese Maximalgröße über­ schreiten, im Filtermaterial 7 zurückgehalten werden. Andere Partikel, deren Größe der maximalen Durchlaßgrö­ ße im wesentlichen entspricht oder die verformbar sind, können zwar durch den Filter 6 hindurchtreten. Ihre Durchtrittsgeschwindigkeit wird jedoch herabgesetzt, wobei die Verminderung der Durchschnittsgeschwindigkeit in vielen Fällen erheblich ist.

Der UV-Strahler 9 wird über einen elektrischen Anschluß 11 mit elektrischer Energie versorgt. Er gibt UV-Licht mit einer Wellenlänge unterhalb 400 nm ab. Im vorlie­ genden Fall liegt die Wellenlänge im Bereich von 350 bis 400 nm.

Das Filtermaterial besteht aus einer Schüttung von Kör­ perchen oder Körnern eines Materials, das im Wellenlän­ genbereich unter 400 nm Transparenz aufweist, bei­ spielsweise ein Polymermaterial und das an seiner Ober­ fläche mit einem fotoaktivierbaren Halbleiter, bei­ spielsweise n-TiO₂ versehen ist. Alternativ dazu kann das Polymermaterial auch an sich bereits eine Zugabe von Titandioxid enthalten. Die Körper oder Körner des Filtermaterials 7 liegen dicht an dicht. Da sie auch am Tauchrohr 10 anliegen, kann UV-Strahlung vom UV-Strah­ ler 9 in die Körper eintreten. Da das Polymermaterial durchlässig oder sogar leitend für das UV-Licht ist, kommt die UV-Strahlung durch eine entsprechende Foto­ leitung auch bis in Randbereiche des Filters 6. Gleich­ wohl streuen die Körper einen Anteil der UV-Strahlung, so daß ein gewisser Anteil der UV-Strahlung auch an jedem Körper austritt. Dort trifft die UV-Strahlung auf das Titandioxid und aktiviert es. Wie oben angeführt, sind die genauen Vorgänge hier noch nicht abschließend geklärt. Man kann aber beobachten, daß hier eine Oxida­ tion erfolgt. Da das Titandioxid hierbei nicht verän­ dert wird, handelt es sich um eine katalytische Oxida­ tion. Durch diese Oxidation werden viele Mikroorganis­ men inaktiviert oder sogar abgetötet, so daß am Abfluß­ anschluß 5 ein weniger stark belastetes Fluid abgenom­ men werden kann. Die Oxidation ist aber nicht auf Mi­ kroorganismen beschränkt. Man kann auch andere in dem zu behandelnden Fluid enthaltene Stoffe, beispielsweise Geruchsstoffe, Nikotin, Formaldehyd, PCB, halogenierte Kohlenwasserstoffe, freie und komplexe Cyanide, AOX, Mineralöl, Komplexbildnern, CSB, Nitrit, Chromat oder Lösungsmittel, so oxidieren, daß sie am Abflußanschluß 5 nicht mehr oder nicht mehr in einer schädlichen oder unangenehmen Form vorhanden sind.

Man ist auch nicht darauf beschränkt, daß man den Reak­ tor für Flüssigkeiten, wie Wasser, einsetzt. Man kann auch gasförmige Fluide behandeln, wobei man hier gege­ benenfalls das Durchströmverhalten des Reaktors 1 ver­ ändern muß.

Wie dargestellt, erstreckt sich die Höhe des Filters 6 nicht über die gesamte Höhe des Reaktionsraumes 3. Sie beschränkt sich vielmehr in etwa auf die Längserstrec­ kung des Strahlers 9, wobei der Strahler 9 nach unten, d. h. zum Zuflußanschluß 4 hin, aus dem Filter 6 vor­ steht. Damit kann zufließendes Fluid zunächst einmal unmittelbar mit der UV-Strahlung beaufschlagt werden, bevor es dann im Filter 6 gegebenenfalls katalytisch oxidiert wird.

Zusätzlich kann eine Anordnung von Elektroden 12, 13 vorgesehen sein, mit der das Halbleitermaterial elek­ trisch aktiviert wird. Die Elektrodenanordnung 12, 13 kann auch anstelle der UV-Strahlungsabgabeeinrichtung 8 vorgesehen sein. Die Elektrodenanordnung kann hierbei auch durch Gitterelektroden gebildet werden. Die Elek­ troden müssen nicht axial oben und unten angeordnet sein, sie können auch an praktisch beliebiger Position, beispielsweise radial, angeordnet sein. Sie können mit Gleich- oder Wechselspannung beaufschlagt werden.

Mit dem dargestellten Reaktor lassen sich hervorragende Ergebnisse in der Verminderung der Verkeimung bzw. so­ gar der Entkeimung von Fluiden erzielen. Daneben lassen sich auch noch andere Stoffe beseitigen oder unschäd­ lich machen, die einer Oxidation zugänglich sind.

Von der dargestellten Ausführungsform kann in vielerlei Hinsicht abgewichen werden. Der UV-Strahler 8 kann auch an einer Seitenwand des Reaktionsraums 3 angeordnet sein. Er kann auch außerhalb des Reaktionsraumes 3 an­ geordnet sein, wenn sichergestellt ist, daß beispiels­ weise über eine Lichtleitung die UV-Strahlung in das Innere des Reaktionsraumes 3 gelangen und dort das Fil­ termaterial 7 beaufschlagen kann. Anstelle eines Fil­ ters 6, der durch eine Schüttung gebildet ist, kann auch ein aufgeschäumtes oder sonstwie porös gemachtes Material verwendet werden. Das Halbleitermaterial kann nicht nur an der Oberfläche der Durchlaßpfade des Fil­ ters 6 angelagert werden oder dort vorhanden sein, es kann auch in getrennten "Inseln" oder Bereichen vorhan­ den sein, an denen das Fluid vorbeiströmt.

Claims (12)

1. Filtereinrichtung mit einem Reaktionsraum, der ei­ nen Zuflußanschluß und einen Abflußanschluß auf­ weist und in dem ein Filter aus einem Filtermateri­ al angeordnet ist, der Durchlaßpfade mit vorbe­ stimmten Durchlaßeigenschaften aufweist, dadurch gekennzeichnet, daß das Filtermaterial (7) für UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 400 nm oder weniger durchlässig oder leitfähig ist und daß eine UV-Strahlungsabgabeeinrichtung (8) vorgesehen ist, die UV-Strahlung mit einer Wellenlänge von 400 nm oder weniger abgibt, wobei das Filtermaterial (7) eine Vielzahl von UV-Strahlungsaustrittsstellen in die Durchlaßpfade aufweist.

2. Filtereinrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn­ zeichnet, daß im Filter (6) ein fotoaktivierbares Halbleitermaterial angeordnet ist.

3. Filtereinrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Halbleitermaterial an der Ober­ fläche des Filtermaterials (7) angeordnet ist.

4. Filtereinrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekenn­ zeichnet, daß das Halbleitermaterial in Durchlaß­ pfaden angeordnet ist.

5. Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Halbleitermaterial durch Titandioxid oder Siliziumcarbid gebildet ist.

6. Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Filtermaterial (7) als Matrix ausgebildet ist, die aus einer Vielzahl von Körpern zusammengesetzt ist, wobei die Körper untereinander und gegebenenfalls mit der UV-Strah­ lungsabgabeeinrichtung (8) eine Vielzahl von Berüh­ rungsstellen bilden.

7. Filtereinrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekenn­ zeichnet, daß daß die Körper einen Anteil der UV-Strahlung streuen.

8. Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die UV-Strahlungsabga­ beeinrichtung (8) als UV-Strahler (9) ausgebildet ist, der innerhalb des Filtermaterials (7) angeord­ net ist.

9. Filtereinrichtung nach Anspruch 8, dadurch gekenn­ zeichnet, daß der Strahler (9) innerhalb eines Tauch- oder Hüllrohres (10) angeordnet ist.

10. Filtereinrichtung nach Anspruch 8 oder 9, dadurch gekennzeichnet, daß das Filtermaterial (7) im we­ sentlichen eine Erstreckung aufweist, die ungefähr der Länge des Strahlers (9) entspricht.

11. Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, daß das Filtermaterial (7) als Polymermaterial ausgebildet ist.

12. Filtereinrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß zusätzlich zur oder anstelle der UV-Strahlungsabgabeeinrichtung (8) eine elektrische Aktivierungseinrichtung (12, 13) für das Halbleitermaterial vorgesehen ist.