DE19714655A1 - Verfahren und Vorrichtung zum Konditionieren einer Vakuumschaltkammer - Google Patents
Verfahren und Vorrichtung zum Konditionieren einer VakuumschaltkammerInfo
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Konditionieren einer Vakuumschaltkammer
sowie eine Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens.
Frisch gefertigte Vakuumschaltkammern besitzen sog. jungfräuliche Oberflächen der
Kontaktstücke und anderer Bereiche, die im Betrieb durch einen Schaltlichtbogen be
lastet werden können. Wenn diese Oberflächen, wenn auch nur gering verschmutzt
sind, z. B. durch Oxide, Gaspartikel und dgl., dann besteht bei einer ersten Schalthand
lung die Gefahr, daß der Druck innerhalb der Vakuumschaltkammer ansteigt, so daß
das Schaltvermögen der Schaltkammer reduziert ist. Aus diesem Grunde werden die
Vakuumschaltkammern vor der ersten Schalthandlung bzw. vor dem Vertrieb konditio
niert. Dazu wird ein Lichtbogen innerhalb der Kammer gezogen, der diese Schmutz
partikel abschmilzt und ionisiert, so daß diese an der Abschirmung, die eine Getterwir
kung aufweist, abgelagert werden.
Ein bekanntes Verfahren ist ein Konditionierungsverfahren, bei dem die Kammer mit
unterschiedlichen Strömen und Spannungen beaufschlagt wird, wobei jede
Strom/Spannungsstufe mehrere Male geschaltet wird. Dieses Verfahren ist sehr zeit
aufwendig und verursacht demgemäß hohe Kosten.
Aufgabe der Erfindung ist es, ein Verfahren und eine Vorrichtung der eingangs ge
nannten Art zu schaffen, mit dem der Konditionierungsvorgang erheblich vereinfacht
und beschleunigt werden kann.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß die Kammer von Gleich
strom eine gewisse Zeit jeweils mit unterschiedlicher Polarität beaufschlagt wird, wobei
die Kontaktstücke voneinander getrennt sind.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung wird die Strom
stärke zwischen ca. 100 A bis 2.000 A gewählt, die Zeitdauer zwischen 0,5 Sekunden
bis 200 Sekunden und der Abstand der geöffneten Kontaktstücke kann zwischen 1 mm
und 30 mm betragen.
Gemäß einer besonders vorteilhaften Ausgestaltung kann an die Vakuumschaltkammer
ein magnetisches Querfeld mit einer Stärke von ca. 5 mT bis 150 mT angelegt werden,
wobei das magnetische Querfeld auch als Drehfeld ausgebildet sein kann.
Um ein solches Querfeld herzustellen, können entweder beidseitig zur Kammer je eine
Spule vorgesehen sein, zwischen denen das Querfeld besteht; die Spulen können
parallel zueinander oder in einem Winkel von 90° zueinander ausgerichtet sein. Mit
dieser Ausführung kann ein Drehfeld erzeugt werden.
Das Querfeld kann auch durch Permanentmagnete erzeugt werden, die still stehen
oder sich auch um die Vakuumschaltkammer drehen können, vorzugsweise mit ca. 5
bis 25 Umdrehungen pro Sekunde.
Mit dem erfindungsgemäßen Verfahren, d. h. mit dem Gleichstrom, wird zwischen den
Kontaktstücken des Vakuumschalters ein diffuser Lichtbogen erzeugt, der auf die
Oberflächen der Kontaktstücke einwirkt und Schmutzpartikel wegbrennt. Durch das
Querfeld wird der diffuse Lichtbogen nach außen bewegt, so daß die von den Lichtbo
genfußpunkten von der Kontaktoberfläche entfernten Schmutzpartikel nach außen
Richtung Abschirmung wandern. Darüber hinaus hat das Konditionieren eine sog. Be
schichtungsfunktion mit Cu/Cr, insoweit, als zunächst durch den Lichtbogen Teile der
Oberfläche verdampft werden; durch die Metallgase werden auch reine Kupferteile mit
Cu/Cr beschichtet.
Die Konditionierung kann noch verbessert werden, wenn das Querfeld in Drehung ver
setzt wird. Im Vergleich zu dem eingangs erwähnten, bekannten Konditionierungsver
fahren ist die Zeitdauer für die Einwirkung des Gleichstromes mit unterschiedlicher
Polarität zeitlich erheblich kürzer, so daß demgemäß auch die Kosten reduziert sind.
Anhand der Zeichnung, in der drei Ausführungsbeispiele der Erfindung dargestellt sind
sollen die Erfindung sowie weitere vorteilhafte Ausgestaltungen und Verbesserungen
der Erfindung näher erläutert und beschrieben werden.
Es zeigen:
Fig. 1 eine schematische Schnittansicht durch eine Vakuumkammer mit parallel
zueinander angeordneten Spulen,
Fig. 2 eine Vakuumkammer mit senkrecht zueinander angeordneten Spulen, und
Fig. 3 eine Vakuumkammer mit beidseitig angeordneten Permanentmagneten.
Eine Vakuumkammer 10 besitzt schematisch im wesentlichen ein Zylindergehäuse 11
aus isolierendem Material, welches an den beiden Enden mittels eines metallischen
Deckels 12, 13 verschlossen ist. An dem metallischen Deckel ist ein ortsfester Kon
taktstückträger 14 angebracht, an dem ein ortsfestes Kontaktstück 15 befestigt ist. An
dem unteren Deckel 13 ist ein Ende eines Faltenbalges 16 befestigt, dessen anderes
Ende mit einem bewegbaren Kontaktstengel 17 verbunden ist, der das bewegbare
Kontaktstück 18 trägt. Innerhalb des Gehäuses 11 befindet sich ein etwa zylinderförmi
ger Abschirmring 19.
An den beiden Kontaktstückträgern 14 und 17 ist eine Stromquelle 20 angeschlossen,
mit der Gleichstrom beider Polaritäten erzeugt werden kann.
Beidseitig zu dem Gehäuse 11 befinden sich Spulen 21 und 22, die parallel zueinander
verlaufen bzw. deren Achsen miteinander fluchten, wodurch ein Querfeld 23 erzeugt
wird, welches gemäß Pfeilrichtung von der linken Spule 21 zur rechten Spule 22 ver
läuft.
Wenn zwischen den geöffneten Kontaktstücken 15 und 18 mit geeigneter Stromstärke
ein diffuser Lichtbogen 24 entsteht, dann werden durch den diffuse Lichtbogen auf der
Oberfläche der Kontaktstücke 15 und 18 befindliche Schmutzpartikel jeder Art aufge
schmolzen, verdampft und nach außen auf die Abschirmung 19, die Getterwirkung
besitzt, bewegt, so daß sie dort niederschlagen. Darüber hinaus werden auch Teile der
Kontaktstückoberfläche der beiden Kontaktstücke 15 und 18 aufgeschmolzen und ver
dampft, durch welchen Metalldampf die reinen Kupferteile beispielsweise der Kontakt
stengel 14 und 17 mit dem Kontaktmaterial beschichtet werden. In besonders vorteil
hafter Ausgestaltung ist das Kontaktmaterial Cu/Cr, welches als Sinterstruktur vorhan
den ist.
Zur Konditionierung wird die Vakuumschaltkammer mit einem Gleichstrom mit einer
und danach mit der anderen Polarität beaufschlagt, so daß der Stromfluß im Lichtbo
gen in der einen und in der anderen Richtung - nacheinander - verläuft.
Aufgrund des Querfeldes 23 werden die einzelnen Lichtbogenabschnitte des diffusen
Lichtbogens 24 nach rechts bewegt, wodurch die Entfernung der Schmutzpartikel noch
weiter verstärkt wird.
Untersuchungen haben ergeben, daß mit einer Stromstärke des Gleichstromes, der
von der Gleichstromquelle 20 erzeugt wird, von ca. 100 A bis 2.000 A, einer Einwirk
dauer, bei dem der Lichtbogen 24 brennen soll, von zwischen 0,5 Sekunden bis 200
Sekunden lang brennen und einem Abstand der beiden Kontaktstücke 15, 18 zwischen
1 mm und 3 mm gute Konditionierungsergebnisse erzielt werden können.
Das durch die beiden Spulen 21, 22 erzeugte Querfeld soll eine Stärke von 5 mT bis
150 mT besitzen.
Die Spulen 21 und 22 können auch so der Vakuumkammer 10 zugeordnet sein, daß
die Mittelachsen M1-M1 und M2-M2 der beiden Spulen 21, 22 unter einem Winkel von
90° zueinander verlaufen. Dabei können die Ströme, die in beiden Spulen fließen, 90°
zueinander phasenverschoben sein, wodurch das magnetische Drehfeld entsteht.
Die Fig. 3 zeigt eine weitere Ausführungsform der Erfindung. Die Vakuumkammer 10,
die in gleicher Weise ausgebildet ist wie die Vakuumkammer gemäß Fig. 1, besitzt die
beiden Kontaktstücke 15, 18, die mit der Gleichstromenergiequelle 20 verbunden sind,
so daß zwischen den beiden Kontaktstücken der diffuse Lichtbogen 24 brennt. Zur Er
zeugung des Querfeldes 23 sind zwei Permanentmagnete 30 und 31 neben der Vaku
umkammer 10 angeordnet, die diametral gegenüberliegend auf einem Drehteller 32
bzw. auf an dem Drehteller 32 befestigten Armen 33 und 34 angebracht sind. Der
Drehteller 32 ist durch eine Drehstütze 35 unterstützt, die über Drehlager 36 drehbar
gelagert ist, wobei die Drehachse mit der Mittelachse der Vakuumkammer 10 fluchtet.
Unterhalb des Drehlagers 36 befindet sich ein Antriebsmotor 37, der den Drehteller 32
mit zwischen 5 bis 25 Umdrehungen pro Sekunde antreibt.
Selbstverständlich können die Permanentmagnete auch ortsfest eingebaut sein.
Der Abstand zwischen der Außenfläche der Vakuumschaltkammer 10 und den Spulen
20, 21 bzw. den Permanentmagneten 30 bis 31 kann zwischen 0 mm und 25 mm vari
ierbar sein.
Es ist nachzutragen, daß der Lichtbogen 24 durch geeignete Umschaltvorrichtungen
umgepolt werden muß, so daß ein Strom einmal vom Kontaktstück 15 zum Kontakt
stück 18 und zum anderen vom Kontaktstück 18 zum Kontaktstück 15 fließt. Diese Be
aufschlagung mit Gleichstrom unterschiedlicher Polarität ist zur besseren Abtragung
von Schmutzpartikeln auf den Kontaktstückoberflächen 15 und 18 zweckmäßig.
Claims (11)
1. Verfahren zum Konditionieren einer Vakuumschaltkammer durch Erzeugen
eines Lichtbogens zwischen den geöffneten Kontaktstücken der Vakuumkammer, da
durch gekennzeichnet, daß die Vakuumkammer mit Gleichstrom je eine bestimmte Zeit
dauer lang mit unterschiedlicher Polarität beaufschlagt wird, wobei die beiden Kon
taktstücke geöffnet sind.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Gleichstrom
von ca. 100 A bis 2.000 A, die Zeitdauer zwischen 0,5 Sekunden bis 200 Sekunden
und der Abstand zwischen 1 mm und 30 mm betragen kann.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß an die Va
kuumkammer ein magnetisches Querfeld angelegt wird.
4. Verfahren nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Querfeld eine
Stärke von ca. 5 mT bis 150 mT besitzt.
5. Verfahren nach einem der vorherigen Ansprüche, dadurch gekennzeichnet,
daß das magnetische Querfeld als Drehfeld erzeugt wird.
6. Vorrichtung zur Erzeugung des Querfeldes zur Durchführung des Verfahrens
nach einem der Ansprüche 1 bis 5, dadurch gekennzeichnet, daß beidseitig zur Kam
mer je eine Spule (21, 22) vorgesehen ist, zwischen denen das Querfeld besteht.
7. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Spulen paral
lel zueinander ausgerichtet sind und ihre Achsen miteinander fluchten.
8. Vorrichtung nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittelachsen
der Spulen einen Winkel von 90° zueinander bilden und daß der durch die Spulen flie
ßende Strom um 90° gegeneinander phasenverschoben ist.
9. Vorrichtung zur Erzeugung des magnetischen Querfeldes nach Anspruch 5,
dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung des Querfeldes beidseitig je ein Perma
nentmagnet vorgesehen ist.
10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die Perma
nentmagneten auf einer Drehvorrichtung angebracht sind, so daß sich die Permanent
magnete bezogen auf die Vakuumkammer um diese drehen.
11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Umdre
hungszahl zwischen 5 bis 25 Umdrehungen pro Sekunde liegt.
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