DE1963980A1 - Elektrofotografische Roentgenaufnahmeeinrichtung - Google Patents

Elektrofotografische Roentgenaufnahmeeinrichtung

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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03GELECTROGRAPHY; ELECTROPHOTOGRAPHY; MAGNETOGRAPHY
    • G03G15/00Apparatus for electrographic processes using a charge pattern
    • G03G15/054Apparatus for electrographic processes using a charge pattern using X-rays, e.g. electroradiography
    • G03G15/0545Ionography, i.e. X-rays induced liquid or gas discharge

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  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Pathology (AREA)
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  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Measurement Of Radiation (AREA)

Description

  • Elektrofotografische Röntgenaufnahmeeinrichtung Elektrofotografische Einrichtung für die Aufnahme von Bildern mit durchdringenden Strahlen, insbesondere Röntgenstrahlen, die zwischen einer ersten und einer zweiten flächenhaften Elektrode eine Isolierschicht und eine flaibleiterschicht enthält.
  • hlicherweise werden Pöntgenaufnahmen mit Halogensilberfilmen hergestellt. Diese Filme sind aber nicht unbegrenzt haltbar, weil durch laufende natürliche trahleneinwirkung eine fortschreitende Vorbelichtung erfolgt, die das Material unbrauchbar macht.
  • Außerdem erfordern diese filme zur Sichtbarmachung des latenten mildes eine Naßentwicklung und -fixierung mit anschließendem Trokkenprozeß, was zu einer erheblichen Verzögerung zwischen Bildaufnshme und -wiedergabe führt. Bei der Filmentwicklung muß Uberdies das Tageslicht ferngehalten werden, d.h. es ist eine Dunkelkamner erforderlich.
  • Hin Aufnahmeverfahren, bei dem die vorgenannten Nachteile zum Teil vermieden sind, ist das xeroradiografische Verfahren. Bei diesem einschlägigen elektroradiografischen Prozeß wird in bennter Weise eine Halbleiterschicht benutzt, deren freie Oberfläche man, etwa mit einer Koronalentladung, gleichförmig auflädt. bieser Pufladevorgang stellt eine Sensibilisierung der Halbleiterschicht dar. Anschließend wird diese der aufzunehmenden Strahleneinwirkung ausgesetzt. hierbei verschwindet die an den belichteten Teilen haftende Ladung, so daß auf der .chlchtoberfläche ein elektrostatisches Bild entsprechend den Hell-Dunkel-Partien des Originals erzeugt wird. Entwickelt wird mit trockenen Substanzen, die weitgehend automatisch aufgestäubt werde. Allerdings müssen auch diese sensibilisierten und belichteten fotoleitenden Schichten wie die bekannten Folienfilme im Dunkeln entwickelt werden, darrit die elektrostatische Bildinformation auf der tialbleiteroberfläche bis zur Beendigung des Entwicklungsvorganges bestehen bleibt. Aus den; gleichen Crund nuß die Halbleiterschicht im Dunkeln einen extrem hohen Isolationswiderstand (# 1015# cm) aufweisen. Gegenüber der Einwirkung von Röntgenstrahlen muß sie hinreichend empfindlich sein, d.h. ihre Leitfähigkeit muß sich, bei sehr geringen Strahlenmengen beginnend, proportional der Strahleneinwirkung ein Bereich von 0 bis 1 Milliröntgen (mR) soweit ändern, daß diese Änderung auch entwickelbar ist. Solche Substanzen mit hohem spezifischen Widerstand und ausreichender Empfindlichkeit sind fUr das Röntgengebiet bisher nicht bekannt. Bei den vorhandenen Fotoschichten, die aus Se, ZnO bzw. ZnCdS und einem rinder bestehen, sind Rönt nempfindlichkeit und Dunkelwiderstand zu gering, um Bilder ausreichender qualität mit den derzeit in der Röntgendiagnostik (Größenordnung 1 mR) herstellen zu können.
  • ei einem anderen elektroradiografischen Verfahre1 werden auf eine isolierfolie die Ladungen einer durch Röntgenstrahlen gesteuerten Entladung aufgefangen. Minterher wird wie in der Xeroradiografie etwa durch I3estäuben mit geladenen Pulvertellchen ein sichtbares Bild erzeugt. Dabei zeigte sich schon unter Laboratoriumsbedingungen, daß mit einer Dosis von 9 mR r?öntgenbilder guter Auflösung erhalten werden. Die Gradation, die beim gewöhnlichen Röntgenfilm 2 bis 3 beträgt, konnte hier jedoch nur bis auf 0,7 gebracht werden. Nachteilig wirkt sich auch aus, daß die mechanischen Toleranzen des kondensatorartigen Aufbaues sehr klein sind, da man bei der Casentladung zur Erzielung der erforderlichen Gradation innerhalb des Proportionalbereiches der steilen Verstärkerkennlinie bleiben muß.
  • Die Erfindung het sich demgegenüber die Aufgabe gestellt, ein neues System zur Herstellung von Röntgenbildern zu finden, bei dem die obengenannten 1 achteile (hohe Anforderungen an die Speicherfähigkeit und Toleranz) nicht auftreten. Es sollen Halbleiter auch dann Verwendung finden können, wenn sie neben hoher Röntgenempfindlichkeit nur geringe Speicherfähigkeit besitzen.
  • Die Bedingungen, die an das neue System gestellt werden, lauten: Der Dosishedarf je Aufnahme darf bei medizinischen Aufnahmen wegen der Dosisbelastbarkeit der Patienten nicht wesentlich höher als 1 mR sein; eine Auflösung von vier bis sechs Perioden pro m (Per/mm) ist anzustreben; die Gradation soll möglichst hoch sein, und echte Halbtonwiedergabe zu erhalten, der Schleier xtntergrund) soll so niedrig wie möglich gehalten werden; Lildstörungen dürfen nicht auftreten, um medizinische Fehlschlüsse auszuschließen; das Material, auf dem die Bilder entstehen, soll keine permanente Strahlenempfindlichkeit aufweisen und überdies große Lebensdauer haben.
  • Erfindungsgen:äß ist eine elektrofotografische Aufnahmeeinrichtung, bestehend aus einer ersten und einer zweiten Elektrode, zwischen denen sich eine Hl-Schicht und eine Isolierschicht berinden, dadurch gekennzeichnet, daß an der ersten Elektrode die T«81bleiterschieht liegt, deren freie Cberfläche trit der Isolierschicht bedeckt ist, an die sich bis zur zweiten Elektrode hin ein Zwischenraum anschließt, der mit einem ionisierbaren Cas gefüllt ist und daß an die Elektroden eine Spannungsquelle angelegt ist, die ein derartiges Feld erzeugt, daß die ionisierbare Gasstrecke des Zwischenraumes im Sättigungsgebiet der Gasentladung betrieben wird.
  • Ausführliche Berechnungen zeigten, daß diese Einrichtung die Forderung nach ausreichender Röntgenempfindlichkeit erfüllt, wobei von Vorteil ist, daß der Halbleiter wegen der zusätzlichen Isolierschicht kein extrem hohes Isolationsvermögen aufweisen muß und daß andererseits die Genauigkeitsforderungen an die Gasstrekke bezüglich des geometrischen Aufbaus geringer sind, weil im Sättigungsgebiet der Kennlinie der Gasentladung gearbeitet wird.
  • Die Aufgabe der Gasstrecke besteht lediglich darin, der Isolierschicht eine Ladung zuzufUhren, derer Größe von der Leitfähigkeit der Halbleitschicht abhängt.
  • Die Erfindung unterscheidet sich von den bekannten Verfahren hauptsächlich dadurch, daß a) die fotoleitende Schicht beim Xeroxverfahren durch eine dielektrische Doppelschicht am Isolator und röntgenempfindlichen Halbleiter ersetzt ist, b) das latente ild durch einen bildhaften Aufladevorgang auf der hochohmigen Isolatorschicht entsteht, im Gegensatz zum bildhaften Entladungsvorgang beim Xeroxverfahren, so daß der laildauSbau dem Negativ des Xeroxverfahrens entspricht und somit der Bildeindruck den des Röntgenfilms analog ist, cE der Aufladevorgang über eine Gasentladung lediglich während der Dauer der Röntgenbelichtung erfolgt, also kein örtliches Nacheinander von Aufladung und Belichtung (Entladung, wie beirn Xeroxverfahren stattfindet.
  • Durch Einzufügung der Isolatorschicht zur Halbleiterschicht wird der spezifische Widerstand dieser Schichtanordnung um Größenordnungen erhört gegenüber den spezifischen Dunkelwiderstand der Halbleiterschichten, die für das normale Xeroxverfahren zur VerfUgung stehen. Damit wird aber die r;ildspeicherfähigkeit erhöht.
  • Der spezifische Dunkelwiderstand des Halbleiters ist nur während der Belichtung, die in der Regel höchstens etwa eine Sekunde beträgt, für die iXildentstehung maßgebend, die nur innerhalb dieser kurzen Zeit den spez. Widerstand den Aufladevorgang beeinflußt.
  • Beim Xeroxverfahren rührt die Berechnung der geforderten Halbleiterwiderstände zu einer Größenordnung von io15Dcm. Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren wird dagegen nur ein Widerstand von 1012 # cm notwendig, weil die Speicherung auf der Isolierschicht erfolgt. Wegen dieser Verringerung um drei Zehnerpotenzen ist die Auswahl an möglichen Halbleitern stark vergrößert.
  • Der tlalbleiter braucht über die Belichtungszeit hinaus im Gegensatz zum Xeroxverfahren nicht speicherfähig zu sein. Vielmehr führt eine Nachbelichtung des Halbleiters, die mittels Strahlung längere Wellenlänge entsprechend der optischen Absorptionsbande vorgenommen werden kann, zu einer @ildverbesserung (höherer Kontrast-, größerer Objektumfang), da hierbei die Restladungen in Halbleiter verschwinden, die sich der Oberflächenladung der Isolierschicht ungünstig überlagern.
  • Für vorliegendem Fall ist etwa Quecksilber (Hg@2), welches einen spez. Widerstand von einigen io12D cm erreicht, ein geeigneter Potoleiter. Die zugehörige Isolatorschicht kann aus einem Kunststoff wie etwa Siliconharz bestehen.
  • Das Verhältnis der Schichtdicken von Isolator (d@) und IIalbleiter (dM) sowie deren Dielektrizitätskonstante (En, S@) beeinflussen die Bildqualität, desgleichen der Widerstand der Gasstrecke (RK). Hierfür gilt, daß das Verhältnis #@ . dn/ #n . dj größer zwei und kleiner fünf und daß RK/RD # 0,1 (RD = Dunkelwiderstand des Halbleiters) sein sollten. Die Halbleitereigenschaf-* ten (HE), definiert durch den Ausdruck µ . #/#@ (µ = Be-* weglichkeit der Ladungsträger und # = deren Lebensdauer µ*= Massenschwächungskoeffizient fUr Röntgenstrahlung), beträgt bei einer Patientendosis von 1 ni und einer Aufladung der Isolatoroberfläche auf 10-@ As/cm² etwa 10-5cm/V (Xerox) bzw. 10-4 cm/V (erfindungsgemäßes Verfa}iren), was einer Ladungsträgerausbeute von 3000 Elektronen/Quant (El/Cu.) beim Xeroxverfahren und 6000 El/Cu. beim erfindungsgemäßen Verfahren entspricht. Die Forderung an die IfE ist demnach beim errindungsgeniäßen Verfahren doppelt so hoch wie beim Xeroxverfahren. Es existieren jedoch Halbleiter die bei 1012#cm Dunkelwiderstand die erforderliche HE von 1O4cm/V erfüllen Hg.2, CdSe, CSt-, CdS) andererseits fehlen Halbleiter für das Xeroxverfahren, die bei 1015#cm die HE 10-5cm/V besitzen (z.B. Se mit HE# 10-6 cm/V).
  • Das erfindungsgemäße Verfahren kommt somit hinsichtlich der Gesamtforderung an die Halbleiterschichten dem Xeroxverfahren zunindest gleich. Die größere Speicherfähigkeit und die Möglichkeit, auch halbleiter verwenden zu können, deren spezifischer Dunkelwiderstand um drei Zehnerpotenzen geringer ist als bei denlenigen Halbleitern, die beim Xeroxverfahren verwendet werden müssen, stellt einen großen Vorteil der Erfindung dar.
  • Zum Unterschied von den genannten Verfahren, bei dem die Ladungen eine Gasverstärkung mit einer der Strahlung proportionalen Entladung auf die Bildschicht gesammelt werden, wird beim erfindungsgemäßen Verfahren im Sättigungsgebiet der Gasenladung gearbeitet.
  • Dadurch lassen sich hohe Genauigkeitsforderungen an den Aufbau, wie sie im Proportionalbereich der Gasverstärkung eingehalten werden nüssen, vermeiden. Die erforderliche Gleichmäßigkeit der Aufladung der Isolierschicht wird ohne besondere Vorkehrungen an die Gasstrecke erzielt, weil die Stromdichte von der Feldstärke unabhängig ist. Auch in diesem Punkt ist das neue Verfahren somit vorteilhafter.
  • Die Merkmale und Vorteile der Erfindung werden nachfolgend im Zusammenhang mit dem in der Zeichnung dargestellten Ausführungsbeispiel der Erfindung abgehandelt.
  • Das allseitig geschlossene Gehäuse 1 besitzt einen mit einem @ahn verschließbaren Anschlußstutzen 2 zur Zuführung des ionisierbaren Gases, welches das Gehäuse 1 durchspült und bei dem Stutzen 3 wieder austritt. Di obere große Fläche des Gehäuses 1 ist mit einer 1 mm starken Aluminiumplatte 4 als erster Elektrode strahlungsdurchlässig abgedeckt. Deni Gehäuseinneren zugewandt befindet sich an dieser Platte 4 die Iialbleiterschicht 5, die aus Casiumiodid besteht und etwa 120 /u stark istO Im definierten Abstand, d. h. 4 m von der Isolatorschicht 6 entfernt befindet sich im Innern des Gehäuses 1 ein Gitter aus 0,1 mm starken Nickeldraht als zweite Elektrode 7 mit einer lichten Maschenweite von 1 weil und in weiterer Abstand von 15 mr liegt als zusätzliche Elektrode 8 noch ein Gitter aus dem gleichen Material zur Erzeugung der erforderlich Koronaentladung. Die Maschen des Gitters 8 Haben eine Weite von 4 mm. Die Drähte des Gitters 7 kreuzen diejenigen des Gitters 8 unter einen Winkel von 45° ])ie Elektrode 7 ist mit dem positiven Pol der 0,5 bis 1,5 kV liefernen Gleichstromquelel 9 verbunden, deren negativer Pol an der Aluminiumplatte 4 liegt, die über die Leitung 11 geerdet ist. Die weitere Gleichstromquelle 10, die 5 bis o: kV liefert, liegt mit ihrem positiven Pul der Elektrode 8 und mit ihrem negativen Pol ebenfalls an der Aluminiumplatte 4. Die Elektrode 8 ist außerdem mit dem den Boden des Gehauses 1 als leitenden Belag £ abdeckenden 1 mm starken Aluminiumblech verbunden, welches vom Gitter der Elektrode £ einen Abstand von 3 mm hat.
  • Die Abbildung des Objektes im dargestellten Fall der Bleistückchen 12 erfolgt durch Bestrahlung mittels der Röntgenröhre 1), die in bekannter Weise betrieben wird. Dabei wird einerseits in der Halbleiterschicht 5 die Leitfähigkeit in Abhängigkeit von aer Strahleneinwirkung verändert, derart, daß sie an den Stellen, an denen die j3leistücke 12 abschatten, geringer sind als an den übrigen bestrahlten Stellen. Andererseits wird durch die angelegten Spannungen an den Elektroden 7 und 8 eine Ionisierung des durch den Stutzen 2 eingefUhrten Gases erzeugt, die unabhängig von der otrahleneinwflrkung ist. Als Gas ist im dargestellten Beispiel Kohlendioxyd eingefüllt. Es sind aber auch andere bekannte selbstlöschende Gasgemische verwendbar.
  • Die positiven und negativen ionisierten Teilchen, geführt durch das angelegte elektrische Feld> ergeben auf der Isolatorschicht 6 aufgrund der strahlenabhängigen Leitfähigkeit des Halbleiters ein Ladungsmuster. Dies ist durch die Verteilung der + Zeichen an der Schicht 6 symbolisiert.
  • Das Ladungsbild kann in der bei der Xerografie üblichen Weise etwa durch bestäubten mit einem durch Erhitzen fixierbaren Farbpulver sichtbar gemacht werden. Das Pulverbild kann dann z.B. mittels einer durchsichtigen Klebefolie abgelöst werden.
  • In Abb. 2 sind die speziell für die Röntgenstrahlung berechneten Aufladekurven dargestellt. Aufgetragen ist die relative Oberflächenladung in Abhängigkeit von der eingestrahlten Dosis in der Einheit mR. Als Parameter fungieren das Kapazitätsverhältnis C/Ch = 2 und die Zeitkonstante RK . CH = 0,1 . Das Verhältnis RK/RD wurde 0,01 gesetzt. t diesen Größen arbeitet das Verfahren nahezu optimal. Die zu den einzelnen Kurven gehörenden Wertepaare stellen dar die HE in µ . # . µ*/# und die hierzu in Beziehung stehende Elektronenausbeute/Quant (El/Qu). Die genannte Forderung nach 1 mR Dosis leistung für die Patientenaufnah--4 me bedingt hiernach, wie schon erwähnt, eine HE = 10 cm/V und eine Elektronenausbeute von 6000 El/Qu. Da maximal etwa 10.000 El/Qu bei 50 keV Röntgenstrahlung (ICRU-Strahlung) erwartet werden deren, ist die Anwendung des Verfahrens in der Röntgendiagnostik auch aus physikalischer Sicht möglich.

Claims (1)

  1. Patent ansprüche
    )ri. Elektrofotografische Einrichtung für die Aufnahme von -Bildern mit durchdringenden Strahlen, insbesondere Röntgenstrahlen, die zwischen einer ersten und einer zweiten flächenhaften Elektrode eine Isolierschicht und eine Halbleiterschicht enthält, d a d u r c h g e k e n n z e i c h n e t , daß an der ersten Elektrode (4) die Halbleiterschicht /r) liegt, deren rreie Oberfläche mit der Isolierschicht (6) bedeckt ist, an die sich bis zur zweiten Elektrode (7) hin ein Zwischenraum (14) anschließt, der mit ionisierbarem Glas gefüllt ist und daß an die Elektroden (4 und 7) eine Spannungaquelle (9) angelegt ist, die ein derartiges Feld erzeugt, daß die Gasstrecke im Sättigungsgebiet der Gasentladung betrieben wird.
    2o Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Halbleiterschicht (5) aus CsJ besteht und 120/u dick ist, daß die Isolierschicht (6) aus Siliconharz besteht und 25JU dick ist, daß zwischen ihr (6) und der zweiten Elektrode(7) der Abstand in der Größenordnung von einigen insbesondere 4 mm liegt, die Spannung (9) zwischen der ersten (4) und der zweiten Elektrode(7) 500 Volt beträgt und daß die Gasfüllung aus Kohlendioxyd besteht, das unter einem Druck von X Atmosphre steht.
    Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der in Abstand von der Isolierschicht (6) liegenden Elektrode (7) in weiterem Abstand von 10-20 mm eine zusätzliche Elektrode (8) nachgeschaltet ist, die an einem Anschluß einer Spannungaquel-1e (10) liegt, deren anderer Anschluß zur ersten Elektrode (4) führt und zwischen diesen beiden Elektroden (4, 10) eine Koronaentladungsspannung erzeugen kann.
    4. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens die zweite Elektrode (7) aus einem leitenden Gitter besteht.
    5. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Isolator- und Halbleiterschichtkapazität größer als 2 und kleiner als 5 ist.
    .6. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Widerstandes der ionisierten Gasstrecke zum Dunkelwiderstand des Halbleiters kleiner als 0,1 ist.
    .7. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Trägerplatte (4) aus Aluminium besteht.
    8. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die halbleiterschicht (6) aus den Verbindungen PbO, CdSe, HgJ besteht.
    9. Einrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Halbleiterschicht eine Quelle von im Vergleich zUr Quelle der durchdringenden Strahlen längerer der Absorptionsbande des Halbleiters angepaßter Wellenlänge zugeordnet ist, mit welcher eine Nachbelichtung erfolgen kann.
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DE1963980B2 DE1963980B2 (de) 1977-11-03
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3932750A (en) * 1974-01-02 1976-01-13 Siemens Aktiengesellschaft Ray converter

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