DE19627025C2

DE19627025C2 - Röntgenröhre

Info

Publication number: DE19627025C2
Application number: DE19627025A
Authority: DE
Inventors: Markus Dipl Phys Dr Schild
Original assignee: Siemens AG
Current assignee: Siemens AG
Priority date: 1996-07-04
Filing date: 1996-07-04
Publication date: 1998-05-20
Anticipated expiration: 2016-07-05
Also published as: JPH1064460A; US5828727A; DE19627025A1

Description

Die Erfindung betrifft eine Röntgenröhre aufweisend ein eine Kathode und eine Anode aufnehmendes Vakuumgehäuse, welches mit einem elektrisch leitenden Strahlenaustrittsfenster ver sehen ist.

Eine solche Röntgenröhre ist in der US 3 500 097 beschrieben.

Bei dieser Röntgenröhre kann es im Falle eines zu großen Elektronenflusses von rückgestreuten Elektronen zum Strahlen austrittsfenster zur Zerstörung des Strahlenaustrittsfensters kommen. Zwar kann bei niedriger Leistung das elektrisch lei tende, auf Massepotential liegende Strahlenaustrittsfenster, welches gegenüber dem Vakuumgehäuse elektrisch nicht isoliert ist, die rückgestreuten Elektronen abführen. Grenzen sind je doch durch die Leistungsdichten gegeben, die beim Abbremsen der Elektronen entstehen. Die entsprechende Verlustwärme nämlich muß ebenfalls vom Strahlenaustrittsfenster abgeführt werden und kann zum Durchschmelzen des Strahlenaustrittsfen sters führen.

Aus der US 2 663 812 ist es bekannt, ein aus einem elektrisch isolierenden Werkstoff gebildetes Strahlenaustrittsfenster einer Röntgenröhre vakuumseitig mit einer elektrisch leitenden Schicht zu versehen, deren elektrischer Widerstand nicht mehr als 1000 Ohm beträgt. Auch hier können bei niedriger Leistung rückgestreute Elektronen über die elektrisch leitende Schicht auf das Vakuumgehäuse abgeführt werden. Grenzen sind jedoch auch hier durch die Leistungsdichten gegeben, die beim Ab bremsen der Elektronen entstehen. Die entsprechende Verlust wärme nämlich muß ebenfalls vom Strahlenaustrittsfenster ab geführt werden und kann zum Springen des Strahlenaustritts fensters führen.

Bei höheren Leistungen kann durch Ablenkung mit Magneten der Auftreffort der rückgestreuten Elektronen vom Strahlenaus trittsfenster auf andere Teile des Vakuumgehäuses verlagert werden. Dies bedingt jedoch, daß Magnete im Inneren des Vaku umgehäuses angebracht werden müssen, was an sich schon wegen der Gefahr der Beeinflussung der Primärelektronen unerwünscht ist, da die Magnete dicht beim Anodenteller angebracht sein müssen.

Weiter besteht in aus der DE 31 07 949 A1 bekannter Weise die Möglichkeit, eine auf einem Potential zwischen Anoden- und Kathodenpotential liegende Blende aus Kupfer vorzusehen, die gegenüber dem auf einem gegenüber Kathodenpotential positivem Potential liegenden Vakuumgehäuse elektrisch isoliert ist, um rückgestreute Elektronen von dem Strahlenaustrittsfenster fernzuhalten.

Außerdem ist aus der DE 42 09 377 A1 eine Röntgenröhre be kannt, die ein eine Kathode und eine Anode aufnehmendes Vaku umgehäuse aufweist, welches mit einem auf Massepotential lie genden Strahlenaustrittsfenster versehen ist.

Besonders problematisch sind übrigens Röntgenröhren, bei de nen zur Erhöhung der Röntgenleistung und/oder zur Reduzierung der Anodenbelastung der Elektronenstrahl flach (z. B. Winkel zwischen Anodenoberfläche und Elektronenstrahl 10°) auf die Anode geschossen wird, wie z. B. in der US 5 128 977 beschrieben ist, da dann der Anteil der von der Anode zurück gestreuten Elektronen sehr hoch ist (80%) und außerdem die erzeugten Röntgenstrahlen und die rückgestreuten Elektronen in dasselbe Raumwinkelelement emittiert werden. Die thermische Belastung des Strahlenaustrittsfensters ist somit besonders hoch, so daß die von der Anode rückgestreuten Elek tronen von einer separaten Fangelektrode aufgenommen werden müssen. Eine weitere Möglichkeit zur Senkung der Belastung des Strahlenaustrittsfensters besteht in einer Verdrehung des Strahlenaustrittsfensters gegenüber der Hauptaus breitungsrichtung der rückgestreuten Elektronen. Diese Aus nutzung eines anderen Raumwinkelelements für die Röntgen strahlung hat jedoch zur Folge, daß größere Bereiche mit Röntgenstrahlung inhomogen ausgeleuchtet werden.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Röntgenröhre der eingangs genannten Art so auszubilden, daß die Gefahr von Schädigungen des Strahlenaustrittsfensters durch das Auftref fen rückgestreuter Elektronen zumindest verringert ist.

Nach der Erfindung wird diese Aufgabe gelöst durch eine Rönt genröhre, aufweisend

a) ein eine Kathode und eine Anode aufnehmendes Vakuumge häuse,
b) welches mit einem elektrisch leitenden Strahlen austrittsfenster versehen ist,
c) das im Betrieb der Röntgenröhre auf einem negativen Potential liegt und mit einem bezogen auf das negative Potential positiven Potential über einen Widerstand elektrisch leitend verbunden ist, der derart bemessen ist, daß im Betrieb der Röntgenröhre der Potential unterschied zwischen dem negativen Potential des Strah lenaustrittsfensters und dem positiven Potential in der Größenordnung einiger Kilovolt, z. B. 3 bis 20 Kilovolt, liegt.

Da das Strahlenaustrittsfenster auf einem negativen Potential liegt, wirkt es für die ankommenden, rückgestreuten Elektronen abstoßend und energieselektiv streuend. Dadurch werden die Elektronen um das Strahlenaustrittsfenster herum gestreut und treffen nicht auf das Strahlenaustrittsfenster, sondern auf die Wandung des Vakuumgehäuses. Das Strahlenaustrittsfenster ist also thermisch entlastet, so daß die Gefahr von Schädi gungen des Strahlenaustrittsfensters durch rückgestreute Elektronen, wenn nicht beseitigt, so doch verringert ist. Eine Gefährdung des Vakuumgehäuses ist nicht gegeben, da die ses thermisch und mechanisch wesentlich stärker als das Strahlenaustrittsfenster belastbar ist.

Übrigens ist im Falle der in der nicht vorveröffentlichten DE 195 42 438 C beschriebenen Rönt genröhre das Strahlenaustrittsfenster auf Kathodenpotential gelegt. Es wirkt dann für die ankommenden rückgestreuten Elektronen abstoßend und energieselektiv streuend. Dadurch werden die Elektronen um das Strahlenaustrittsfenster herum gestreut und treffen nicht auf das Strahlenaustrittsfenster, sondern auf die Wandung des Vakuumgehäuses. Das Strahlen austrittsfenster ist also thermisch entlastet.

Vorzugsweise ist das gegenüber dem Potential des Strahlen austrittsfensters positive Potential gleich Massepotential, da dann keine besonderen Maßnahmen zur Bereitstellung des gegenüber dem Potential des Strahlenaustrittsfensters positi ven Potentials erforderlich sind. Da meist das Vakuumgehäuse auf Massepotential liegt, ist gemäß einer Variante der Erfin dung vorgesehen, daß das Strahlenaustrittsfenster über den Widerstand mit dem Vakuumgehäuse verbunden ist. Um die dann erforderliche Verbindung des Strahlenaustrittsfensters mit dem Vakuumgehäuse über den Widerstand auf einfache Weise sicherstellen zu können, ist gemäß einer Variante der Erfin dung vorgesehen, daß das Strahlenaustrittsfenster mit dem Vakuumgehäuse über einen Isolierstoffkörper verbunden ist, der, vorzugsweise auf seiner Außenseite, mit einer Beschich tung eines Widerstandsmaterials versehen ist.

Gemäß einer Variante der Erfindung ist vorgesehen, daß das Vakuumgehäuse in seinem das Strahlenaustrittsfenster umgeben den Bereich mit einer Kühleinrichtung versehen ist. Hierdurch ist selbst bei Röntgenröhren extremer Leistung sicherge stellt, daß die thermische Belastung des von den Elektronen getroffenen Bereichs des Vakuumgehäuses nicht zu hoch ist.

Gemäß einer weiteren Variante der Erfindung ist vorgesehen, daß das Vakuumgehäuse in seinem das Strahlenaustrittsfenster umgebenden Bereich mit einer Beschichtung eines Materials geringer Kernladungszahl (Kernladungszahl z < 40) versehen ist. Hierdurch ist sichergestellt, daß die von den von den gestreuten Elektronen getroffenen Bereichen des Vakuumgehäu ses ausgehende, extrafokale Röntgenstrahlung vernachlässigbar gering ist.

Gemäß einer Ausführungsform der Erfindung ist vorgesehen, daß der Elektronenstrahl unter einem solchen Winkel auf die Anode auftrifft, daß es sich bei dem zwischen der Oberfläche der Anode und dem Elektronen strahl vorliegenden Winkel um einen spitzen Winkel handelt.

Ein Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in den beigefügten schematischen Zeichnungen dargestellt. Es zeigen:

Fig. 1 eine erfindungsgemäße Röntgenröhre im Längsschnitt,

Fig. 2 den Brennfleck der Röntgenröhre gemäß Fig. 1 in vergrößerter, perspektivischer Darstellung,

Fig. 3 eine grob schematisierte Prinzipdarstellung der Röntgenröhre gemäß den Fig. 1 und 2,

Fig. 4 in vergrößerter Darstellung ein Detail der Röntgen röhre gemäß den Fig. 1 bis 3, und

Fig. 5 in zu der Fig. 3 analoger Darstellung eine weitere erfindungsgemäße Röntgenröhre.

In der Fig. 1 ist mit 1 das Vakuumgehäuse der Röntgenröhre bezeichnet, das im Falle des beschriebenen Ausführungsbei spieles in bekannter Weise unter Verwendung von Metall und Keramik oder Glas - andere Materialien sind möglich - herge stellt ist. Innerhalb des Vakuumgehäuses 1 ist in einem rohr förmigen Gehäuseansatz 2 eine Kathodenanordnung 3 angebracht, die einen innerhalb einer rotationssymmetrischen Wehnelt elektrode 4 aufgenommenen Elektronenemitter aufweist, der im Falle des beschriebenen Ausführungsbeispiels als Flachemitter in Form einer kreisscheibenförmigen Glühkathode 5 ausgeführt und mittels einer Keramikscheibe 6 an der Wehneltelektrode 4 angebracht ist. Der Glühkathode 5 gegenüberliegend ist eine insgesamt mit 7 bezeichnete Drehanode vorgesehen, die einen über eine Welle 8 mit einem Rotor 9 verbundenen Anodenteller 10 aufweist. Der Rotor 9 ist in in der Fig. 1 nicht dargestellter Weise auf einer mit dem Vakuumgehäuse 1 verbundenen Achse 11 drehbar gelagert. Im Bereich des Rotors 9 ist auf die Außenwand des Vakuumgehäuses 1 ein Stator 12 aufgesetzt, der mit dem Rotor 9 zur Bildung eines zum Antrieb der Drehanode dienenden Elektromotors zusammenwirkt.

Beim Betrieb der Röntgenröhre wird dem Stator 12 über Leitun gen 13 und 14 ein Wechselstrom zugeführt, so daß der über die Achse 11 mit dem Rotor 9 verbundene Anodenteller 10 rotiert.

Zwischen dem einen Anschluß der Glühkathode 5 und der Wehnelt elektrode 4 liegt im Betrieb der Röntgenröhre gemäß Fig. 1 die Wehneltspannung U_W an. Die Röhrenspannung U_R wird über Leitungen 15 und 16 angelegt. Die Leitung 15 ist mit der Achse 11 verbunden, die ihrerseits mit dem Vakuumgehäuse 1 elektrisch leitend verbunden ist. Die Leitung 16 ist mit einem Anschluß der Glühkathode 5 verbunden. Der andere An schluß der Glühkathode 5 ist mit einer Leitung 17 verbunden. Zwischen dieser und der Leitung 16 liegt die Heizspannung U_H der Glühkathode 5, so daß von der Glühkathode 5 ein Elektro nenstrahl ES kreisförmigen Querschnitts ausgeht. Während in Fig. 1 nur die Mittelachse des Elektronenstrahls ES eingetra gen ist, sind in Fig. 2 auch dessen Konturen bzw. Begren zungslinien angedeutet.

Der Elektronenstrahl ES tritt durch eine unter Zwischenfügung eines Isolators 21 an dem Vakuumgehäuse 1 angebrachte Fokus sierungselektrode 19. Zwischen dieser und dem einen Anschluß der Glühkathode 5 liegt gemäß Fig. 1 eine Fokussierungsspan nung U_F an. Der Elektronenstrahl ES trifft dann wie in Fig. 1 angedeutet in einem mit BF bezeichneten Brennfleck auf eine Auftrefffläche 22 des Anodentellers 10 auf. Von dem Brenn fleck BF geht Röntgenstrahlung aus. Das Nutzröntgenstrahlen bündel, dessen Zentralstrahl und Randstrahlen in den Fig. 1 und 2 strichpunktiert angedeutet und mit ZS bzw. RS bezeich net sind, tritt durch ein Strahlenaustrittsfenster 23 aus.

Infolge des kreisförmigen Querschnittes des Elektronenstrah les ES ist übrigens die Voraussetzung dafür gegeben, daß sich im Brennfleck BF eine gaußkurvenähnliche Intensitätsvertei lung der Röntgenstrahlung für beliebige Richtungen ergeben kann.

Um zu vermeiden, daß die thermische Belastung der Auftreff fläche die zulässigen Grenzen übersteigt, trifft der Elektro nenstrahl ES unter einem spitzen Winkel zur Auftrefffläche 22 bzw. einem Winkel α < 45° zur Flächennormalen N der Auftreff fläche 22 im Brennfleck BF auf, so daß sich ein strichförmi ger, genauer gesagt elliptischer, Brennfleck BF ergibt (siehe Fig. 2). Die Breite B des Brennfleckes BF entspricht dem Durchmesser des Elektronenstrahles ES in unmittelbarer Nähe der Auftrefffläche 22, der bei gegebener Geometrie der Glüh kathode 5, der Wehneltelektrode 4 und der Fokussierungselek trode 19 sowie bei gegebenem Heizstrom und gegebener Röhren spannung von der Wehneltspannung U_W und der Fokussierungs spannung U_F abhängt.

Im Hinblick auf die üblicherweise angestrebten Brennfleckab messungen ist der Winkel α so gewählt, daß sich bei einem Durchmesser D des Elektronenstrahles ES von 0,1 bis 2,0 mm eine Länge L des Brennfleckes zwischen 1 und 15 mm ergibt. Der angegebene Durchmesserbereich gilt für den Durchmesser des Elektronenstrahles in unmittelbarer Nähe der Auftreff fläche 22 des Anodentellers 10.

Die Lage des Strahlenaustrittsfensters 23 ist so gewählt, daß der Winkel β zwischen dem Zentralstrahl ZS des Nutzröntgen strahlenbündels und der Flächennormalen N der Auftrefffläche 22 wenigstens im wesentlichen gleich dem Winkel α ist. In Richtung des Zentralstrahles ZS des Nutzröntgenstrahlenbün dels gesehen ergibt sich ein für eine hohe Abbildungsqualität günstiger kreisförmiger Fokus.

Das Strahlenaustrittsfenster 23 ist aus einem geeigneten elektrisch leitenden Material (z. B. Aluminium, Titan oder Beryllium) gebildet und über einen beispielsweise aus Keramik gebildeten rohrförmigen Isolierstoffkörper 20 mit dem Vakuum gehäuse 1 verbunden.

Das Strahlenaustrittsfenster 23 ist im Betrieb der Röntgen röhre, so wie dies in Fig. 3 schematisch angedeutet ist, über einen Widerstand R auf ein im Vergleich zu dem des Strahlen austrittsfensters 23 positives Potential, nämlich Massepoten tial, und damit das gleiche Potential wie das Vakuumgehäuse 1, gelegt. Dieses Potential und der Widerstandswert des Widerstandes R sind so gewählt, daß im Betrieb der Röntgen röhre der Potentialunterschied zwischen dem negativen Poten tial des Strahlenaustrittsfensters 23 und dem positiven Potential in der Größenordnung einiger Kilovolt, z. B. 5 bis 25 Kilovolt, liegt. Dadurch werden die rückgestreuten Elek tronen, die sich auf das Strahlenaustrittsfenster 23 zube wegen, abgestoßen und energieselektiv gestreut. Im Falle eines kreisförmigen Strahlenaustrittsfensters 23 werden sie rotationssymmetrisch um das Strahlenaustrittsfenster 23 herum gestreut. Die Elektronen treffen somit nicht auf das Strah lenaustrittsfenster 23, sondern auf den das Strahlen austrittsfenster 23 umgebenden Bereich der Wandung des Vaku umgehäuses 1 auf.

Der Widerstand R ist im Falle des beschriebenen Ausführungs beispiels durch einen Isolierstoffkörper 20 gebildet, der das Strahlenaustrittsfenster 23 mit dem Vakuumgehäuse 1 verbindet und an seiner Außenseite in der aus Fig. 4 ersichtlichen Weise mit einer Beschichtung 26 eines Widerstandsmaterials versehen ist.

Der das Strahlenaustrittsfenster 23 umgebende Bereich der Wandung des Vakuumgehäuses 1 ist im Falle des beschriebenen Ausführungsbeispiels mittels einer in nicht dargestellter Weise an ein geeignetes Kühlaggregat angeschlossenen Rohr spirale 25 gekühlt, so daß thermische Überlastungen des von den Elektronen beaufschlagten Bereichs des Vakuumgehäuses 1 ausgeschlossen sind.

Außerdem wirkt sich hinsichtlich der thermischen Belastung der Wandung des Vakuumgehäuses 1 günstig aus, daß sich in folge der Aufstreuung der Elektronen auf der ohnehin höher als das Strahlenaustrittsfenster 23 belastbaren Wand des Vakuumgehäuses 1 eine gegenüber dem Strahlenaustrittsfenster herkömmlicher Röntgenröhren nochmals verringerte Leistungs dichte ergibt.

Wie einschlägige Untersuchungen gezeigt haben, (siehe L. Rei mer, Scanning Electron Microscopy, Springer-Verlag, Berlin, Heidelberg, New York, Tokyo, 1985, Seite 138) werden ohne weitere Maßnahmen die Elektronen von der Auftrefffläche 22 des Anodentellers 10 bei einem Winkel α von 10° in einen Winkelbereich von ca. 30° reflektiert, der in Fig. 1 strichliert angedeutet ist. Bei einem Abstand des Brennflecks BF vom Strahlenaustrittsfenster 23 von ca. 3 cm muß die ent sprechende Verlustleistung dann über eine ca. 2 cm² große Fläche abgeführt werden. Wird dagegen durch die Aufstreuung ein mittlerer Ablenkwinkel von 40° erreicht, so wie dies in Fig. 1 punktiert angedeutet ist, so steht eine Fläche von ca. 20 cm² zur Verfügung, und zwar in einem Bereich, nämlich der Wandung des Vakuumgehäuses 1, der mechanisch und thermisch stabiler als das Strahlenaustrittsfenster 23 ist und zudem aktiv gekühlt werden kann.

Wegen der also um einen Faktor 10 geringeren Wärmebelastung pro Flächenelement kann in bestimmten Anwendungsfällen sogar auf eine aktive Kühlung verzichtet werden, d. h. die Verlust leistung kann ohne besondere Maßnahmen über das Isolier- und Kühlmedium, z. B. Isolieröl, das sich gewöhnlich in dem die Röntgenröhre aufnehmenden Schutzgehäuse befindet, abgeführt werden.

Das Vakuumgehäuse 1 ist in seinem das Strahlenaustrittsfenster 23 umgebenden Bereich mit einer Beschichtung 27 eines Materials geringer Kernladungszahl (z. B. Kohlenstoff) versehen. Hier durch ist sichergestellt, daß die extrafokale Röntgenstrah lung, die von den Bereichen des Vakuumgehäuses 1 ausgeht, die von den von dem Strahlenaustrittsfenster 23 gestreuten Elek tronen getroffenen werden, vernachlässigbar gering ist.

Der mittlere Ablenkwinkel, um den die rückgestreuten Elek tronen abgelenkt werden, hängt von der Höhe des negativen Potentials des Strahlenaustrittsfensters 23 und damit von dem Widerstandswert des Widerstandes R bzw. 20, 26 und demjenigen Potential ab, mit dem das Strahlenaustrittsfenster 23 über den Widerstand R bzw. 20, 26 verbunden ist, das übrigens anders als im Falle des beschriebenen Ausführungsbeispiels auch vom Massepotential abweichen kann.

Im Falle der Röntgenröhre gemäß den Fig. 1 bis 4 handelt es sich um eine sog. einpolige Röntgenröhre, bei der die Anode und das Vakuumgehäuse wie in Fig. 1 dargestellt auf Masse potential und die Kathode auf einem gegenüber Masse negativen Potential U_R liegen. Die Erfindung kann aber auch im Falle zweipoliger Röntgenröhren, bei denen, wie in Fig. 5 schematisch angedeutet ist, das Vakuumgehäuse 1 auf Massepo tential, die Kathode 3 auf einer gegenüber Masse negativen Kathodenspannung U_K und die Anode auf einer gegenüber Masse positiven Anodenspannung U_A liegen, angewendet werden.

Das Strahlenaustrittsfenster muß nicht über den Widerstand mit dem Vakuumgehäuse verbunden sein. Es ist vielmehr auch möglich, daß das Strahlenaustrittsfenster gegenüber dem Vaku umgehäuse elektrisch isoliert und über einen gewöhnlichen elektrischen Widerstand mit dem bezogen auf das negative Potential des Strahlenaustrittsfensters positiven Potential verbunden ist.

Der Widerstand muß nicht notwendigerweise durch einen mit einer Beschichtung versehenen Isolierstoffkörper gebildet sein. Vielmehr kann statt dessen beispielsweise ein Bauteil aus elektrisch beschränkt leitfähiger Keramik, z. B. mit Koh lenstoff dotiertes Aluminiumoxid, den Widerstand bilden und das Strahlenaustrittsfenster mit dem Vakuumgehäuse verbinden.

Die Erfindung eignet sich auch für Röntgenröhren, bei denen anders als im Falle des beschriebenen Ausführungsbeispiels kein Elektronenstrahl kreisförmigen Querschnitts verwendet wird. Alternativ zu der beschriebenen Ausbildung der Glüh kathode 5 besteht dann auch die Möglichkeit, eine herkömm liche, als Glühwendel ausgeführte Glühkathode zu verwenden.

Bei dem vorstehend beschriebenen Ausführungsbeispiel handelt es sich um eine Drehanoden-Röntgenröhre. Die Erfindung kann aber auch bei Röntgenröhren mit Festanode Verwendung finden.

Claims

1. Röntgenröhre, aufweisend

a) ein eine Kathode (5) und eine Anode (10) aufnehmendes Vakuumgehäuse (1),
b) welches mit einem elektrisch leitenden Strahlenaustritts fenster (23) versehen ist,
c) das im Betrieb der Röntgenröhre auf einem negativen Potential liegt und mit einem bezogen auf das negative Potential positiven Potential über einen Widerstand (20, 26) elektrisch leitend verbunden ist, der derart be messen ist, daß im Betrieb der Röntgenröhre der Poten tialunterschied zwischen dem negativen Potential des Strahlenaustrittsfensters (23) und dem positiven Poten tial in der Größenordnung einiger Kilovolt liegt.

2. Röntgenröhre nach Anspruch 1, bei der das positive Poten tial gleich Massepotential ist.

3. Röntgenröhre nach Anspruch 1 oder 2, deren Strahlen austrittsfenster (23) über den Widerstand (20, 26) mit dem Vakuum gehäuse (1) verbunden ist.

4. Röntgenröhre nach den Ansprüchen 2 und 3, deren Widerstand (20, 26) durch einen mit einer Beschichtung (26) eines Wider standsmaterials versehenen Isolierstoffkörper (20) gebildet ist, der das Strahlenaustrittsfenster (23) mit dem Vakuumge häuse (1) verbindet.

5. Röntgenröhre nach den Ansprüchen 2 und 3, deren Widerstand durch einen das Strahlenaustrittsfenster (23) mit dem Vakuum gehäuse (1) verbindenden Körper aus elektrisch leitfähiger Keramik gebildet ist.

6. Röntgenröhre nach einem der Ansprüche 1 bis 5, deren Vakuumgehäuse (1) in seinem das Strahlenaustrittsfenster (23) umgebenden Bereich mit einer Kühleinrichtung (25) versehen ist.

7. Röntgenröhre nach einem der Ansprüche 1 bis 6, deren Vakuumgehäuse (1) an seiner Innenseite in seinem das Strah lenaustrittsfenster (23) umgebenden Bereich mit einer Be schichtung (27) eines Materials niedriger Ordnungszahl ver sehen ist.

8. Röntgenröhre nach einem der Ansprüche 1 bis 7, von deren Kathode (5) ein Elektronenstrahl (ES) ausgeht, der unter einem Winkel (α) auf die Anode (10) auftrifft, bei dem es sich um einen spitzen Winkel handelt.