DE19606272C2 - Halbleiter-Gassensor - Google Patents

Halbleiter-Gassensor

Info

Publication number
DE19606272C2
DE19606272C2 DE1996106272 DE19606272A DE19606272C2 DE 19606272 C2 DE19606272 C2 DE 19606272C2 DE 1996106272 DE1996106272 DE 1996106272 DE 19606272 A DE19606272 A DE 19606272A DE 19606272 C2 DE19606272 C2 DE 19606272C2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
substrate
heating
gas sensor
electrodes
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE1996106272
Other languages
English (en)
Other versions
DE19606272A1 (de
Inventor
Olaf Kiesewetter
Klaus Roth
Albert Reinholz
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
UST Umweltsensortechnik GmbH
Original Assignee
UST Umweltsensortechnik GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by UST Umweltsensortechnik GmbH filed Critical UST Umweltsensortechnik GmbH
Priority to DE1996106272 priority Critical patent/DE19606272C2/de
Publication of DE19606272A1 publication Critical patent/DE19606272A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE19606272C2 publication Critical patent/DE19606272C2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N27/00Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means
    • G01N27/02Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance
    • G01N27/04Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance
    • G01N27/12Investigating or analysing materials by the use of electric, electrochemical, or magnetic means by investigating impedance by investigating resistance of a solid body in dependence upon absorption of a fluid; of a solid body in dependence upon reaction with a fluid, for detecting components in the fluid

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Biochemistry (AREA)
  • General Health & Medical Sciences (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Immunology (AREA)
  • Pathology (AREA)
  • Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Fluid Adsorption Or Reactions (AREA)

Description

Die Erfindung betrifft einen Halbleiter-Gassensor, bei dem auf einem Substrat eine laserstrukturierte Metallschicht aufgebracht ist, auf welcher sich eine sensitive Schicht in Form einer Metalloxidschicht und einer Heizung befindet, wobei die Metallschicht so strukturiert ist, daß mindestens zwei Elektroden in Form einer Interdigitalstruktur kammförmig ineinander greifen.
Im Stand der Technik sind Gas-Sensoren bekannt, die eine dünne Schicht eines halbleitenden Werkstoffes, insbesondere eines Metalloxides enthalten, welche auf einem isolierenden Substrat angeordnet ist. Der Werkstoff hat die Eigenschaft, daß sich sein elektrischer Widerstand bei Vorhandensein von bestimmten Gasen verändert.
Derartige Halbleiter-Sensoren sind im Stand der Technik in verschiedenen Ausführungen bekannt.
In DE 31 39 617 A1 ist ein Halbleiter-Sensor beschrieben, der ein isolierendes Substrat, eine auf dem Substrat angeordnete Widerstands-Heizbahn, eine Elektrode in der Nähe der Heizbahn und eine mittels Ionenplattierung erzeugte, wenigstens im Bereich zwischen der Elektrode und der Heizbahn angeordnete halbleitende Metalloxidschicht besitzt, deren spezifischer Widerstand der Konzentration des Gases proportional ist. Der Sensor ist dabei mit drei Elektroden, einer im wesentlichen U-förmigen auf dem Substrat angeordneten und mit zwei Elektroden verbundenen Widerstands-Heizbahn in einer ionenplattierten Schicht versehen. Die Oxidschicht wird dabei von beiden Elektroden kontaktiert, wobei eine der Elektroden als Streifenelektrode ausgebildet und eine weitere U-förmig gestaltet ist.
Halbleiter-Gassensoren benötigen zur Erzielung ihrer Gasempfindlichkeit eine erhöhte Arbeitstemperatur, die je nach der Bauart des Sensors, seiner chemischen Zusammensetzung und dem zu dedektierenden Medium zwischen 150°C und 400°C liegt.
Für die Gestaltung dieser Heizelemente sind verschiedene Ausführungen bekannt. Verwendet werden unter anderem Heizwendel, die meist aus Platindraht hergestellt sind um erforderliche Korrosionsfestigkeit zu gewährleisten.
Es sind auch Heizschichten aus Metallegierungen bekannt, die auf das Substrat aufgedampft werden.
In DE 30 19 387 C2 ist ein Halbleiter-Gassensor beschrieben, bei dem auf einem Siliziumsubstrat auf der Oberseite eine als Sensorschicht dienende Metalloxid-Halbleiterschicht aufgebracht ist, die über aufgedampfte Kontaktmetallstreifen aus Platin mit Anschlußdrähten verbunden ist. Auf der Unterseite des Substrates ist eine Heizschicht angebracht, die ebenfalls an beiden Seiten mit aufgedampften Kontaktmetallstreifen aus Platin versehen ist, an denen die Anschlußdrähte für die Heizschicht angeschlossen sind.
Nach DE 44 00 838 A1 und nach US 44 53 397 sind Gassensoren mit einem Substrat und darauf angeordneten Elektroden sowie Heizstrukturen bekannt.
Bei der in DE 44 00 838 A1 angegebenen Anordnung weist der Sensor zwei in Form einer Interdigitalstruktur kammförmig ineinander greifende Elektroden auf, wobei die Anschlüsse für die Elektroden und den Heizer sich an den Ecken des Substrates befinden.
Bei der in US 44 53 397 beschriebenen Sensoranordnung ist eine Heizungsanordnung vorgesehen, bei der die Elektroden im Außenbereich von einer Heizstruktur umfaßt werden.
Ferner ist nach DE 44 23 289 C1 ein Gassensor für reduzierende oder oxidierende Gase bekannt, der mehrere dünne gassensitive Felder aufweist, die auf einem Substrat angebracht sind.
Bei den bekannten Sensorsystemen, bei denen die Heizung des Sensor auf der einen Seite des Chips liegt und die Elektrodenstruktur zur Kontaktierung der Wirkschichten auf der gegenüberliegenden Seite angeordnet ist, ist nachteilig, daß sie zu ihrer Herstellung einen hohen Fertigungsaufwand erfordern.
Die Anordnungen, bei denen der Heizer des Sensors hufeisenförmig um die Elektrodenstruktur gelegt wurde, weisen den Nachteil auf, daß die Zuführungsdrähte an einer Seite liegen und damit eine freitragende Aufhängung des Chips sehr erschwert wird.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, einen Halbleiter-Gassensor anzugeben, der eine freitragende Aufhängung des Sensors ermöglicht und der eine homogen Temperaturverteilung bei möglichst niedrigen Energieaufwand gewährleistet.
Erfindungsgemäß wird die Aufgabe mit den kennzeichnenden Merkmalen von Patentanspruch 1 gelöst.
Vorteilhafte Ausgestaltungen des erfindungsgemäßen Halbleiter-Gassensors sind in den Unteransprüchen angegeben.
Mit dem erfindungsgemäßen Halbleiter-Gassensor wird es möglich, mit verhältnismäßig geringem Fertigungsaufwand eine oder mehrere Wirkschichten auf dem Substrat nebeneinander anzuordnen. Durch die Anordnung der Heizbahnen, die um die Interdigitalstruktur der Elektroden greiften, kann dabei erreicht werden, daß eine symmetrische Anordnung der Kontaktierungsdrähte möglich wird. Weiterhin ist es möglich, mehrere Elektrodenpaare anzuordnen. Durch die Gestaltung der kammartigen Interdigitalstruktur wird eine hohe Gleichmäßigkeit der Beheizung erreicht, wobei durch Unterteilung in einfacher Weise ermöglicht wird, die Temperatur in verschiedenen Bereichen auf dem Chip unterschiedlich zu steueren. Durch die Anordnung der Heizeinrichtung im äußeren Bereich, kann die Kontaktierung der Anschlußdrähte im Außenbereich der Gesamtanordnung erfolgen. Damit ergibt sich als wichtiger Vorteil in einfacher Weise die Möglichkeit einer freitragenden Anordnung, da die Anschlußdrähte an den vier Ecken des Chips angebracht werden können. Die durch die Interdigitalstruktur gegebene Optimierungsmöglichkeit der Elektrodenstruktur gestattet es, eine homogene Temperaturverteilung zu erreichen.
Die Erfindung wird im folgenden anhand eines Ausführungsbeispieles näher erläutert. In der zugehörigen Zeichnen zeigen:
Fig. 1 die Gestaltung eines erfindungsgemäßen Gassensors mit vier Anschlußkontakten in den Ecken des Substrates;
Fig. 2 und Fig. 3 Ausführungsformen für mehrere Schichten und Mittelanschluß für die Heizung und
Fig. 4 eine Ausführung mit Abgleichmöglichkeit für den Heizwiderstand.
Wie aus Fig. 1 ersichtlich ist, ist auf dem Substrat eine Platinschicht aufgebracht, die durch Laserschnitte unterteilt wurde. Die Unterteilung ist dabei so erfolgt, daß sich Interdigitalstrukturen für die Elektroden ergeben, die an den Anschlüssen 4 und 5 mit Anschlußdrähten kontaktierbar sind. Der Anschluß für das Heizelement erfolgt über die Elektroden 1 und 2, wobei die Struktur so ausgeführt ist, daß das Heizband die Interdigitalstruktur der Elektroden umgreift.
In Fig. 2 ist eine Ausführungsform dargestellt, bei der mehrere Anschlüsse 4, 5, 6, 7 für Wirkschichten angebracht sind. Im dargestellten Beispiel ist die Elektroden umfassende Heizschicht mit den Anschlüssen 1, 2 und 3 versehen. Der Anschluß 2 ist dabei als Mittelanschluß vorgesehen und ermöglicht damit die Erzeugung zweier unterschiedlicher Temperaturbereiche. Es ist hierbei auch möglich, eine mehrfache Unterteilung vorzusehen.
In Fig. 3 ist eine Ausführungsform dargestellt, bei der mit vier Anschlußdrähten zwei Wirkschichtsysteme kontaktiert werden. Im dargestellten Beispiel gibt es einen gemeinsamen Masseanschluß, einen Anschluß für den Heizer RH und zwei Anschlüsse für die Wirkschicht RS1 und RS2.
Fig. 4 erläutert eine Möglichkeit zum Abgleich des Heizwiderstandes. Hierzu wird der Nennwert des Heizwiderstandes in den Bereichen A, B und C so verändert, daß ein vorbestimmter Sollwert erreicht wird.

Claims (4)

1. Halbleiter-Gassensor, bei dem auf einem Substrat eine laserstrukturierte Metallschicht aufgebracht ist, auf welcher sich eine sensitive Schicht in Form einer Metalloxidschicht und einer Heizung befindet, wobei die Metallschicht so strukturiert ist, daß mindestens zwei Elektroden in Form einer Interdigitalstruktur kammförmig ineinander greifen, dadurch gekennzeichnet, daß die Interdigitalstruktur im Außenbereich von einer als Heizung dienenden Struktur in Form eines Heizbandes so umfaßt wird, daß die Anschlüsse für die Elektroden und den Heizer jeweils an den vier Ecken des Substrates angeordnet sind.
2. Halbleiter-Gassensor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß nebeneinander mehrere Anordnungen auf einem Substrat angebracht sind.
3. Gassensor nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizung mit einem im äußeren Randbereich des Substrates angebrachten Mittelanschluß versehen ist.
4. Gassensor nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der Heizwiderstand an mindestens zwei Stellen durch Laserschnitte abgleichbar ist.
DE1996106272 1996-02-21 1996-02-21 Halbleiter-Gassensor Expired - Fee Related DE19606272C2 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1996106272 DE19606272C2 (de) 1996-02-21 1996-02-21 Halbleiter-Gassensor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1996106272 DE19606272C2 (de) 1996-02-21 1996-02-21 Halbleiter-Gassensor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE19606272A1 DE19606272A1 (de) 1997-08-28
DE19606272C2 true DE19606272C2 (de) 2001-05-17

Family

ID=7785900

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1996106272 Expired - Fee Related DE19606272C2 (de) 1996-02-21 1996-02-21 Halbleiter-Gassensor

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE19606272C2 (de)

Families Citing this family (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10147107C1 (de) * 2001-09-25 2003-06-05 Siemens Ag Verfahren und Vorrichtung zur simultanen Detektion von unterschiedlichen Gasen
DE102006053689A1 (de) * 2006-11-13 2008-05-15 Vishay Bccomponents Beyschlag Gmbh Sensoranordnung

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3139617A1 (de) * 1980-10-07 1982-08-12 Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg Gassensor und verfahren zu seiner hertellung
US4453397A (en) * 1981-08-17 1984-06-12 Nippon Soken, Inc. Gas detecting sensor
DE3019387C2 (de) * 1980-05-21 1986-01-23 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Dünnschicht-Halbleiter-Gassensor mit einem in den Sensoraufbau integrierten Heizelement
DE3941837A1 (de) * 1989-12-19 1991-06-20 Bosch Gmbh Robert Widerstandsmessfuehler zur erfassung von gaszusammensetzungen und verfahren zu seiner herstellung
DE4006085A1 (de) * 1990-02-27 1991-08-29 Bosch Gmbh Robert Sensor zur gleichzeitigen bestimmung der zusammensetzung von gasgemischen und der gasgeschwindigkeit
DE4400838A1 (de) * 1994-01-14 1995-07-20 Smt & Hybrid Gmbh Gassensorchip und Verfahren zu dessen Herstellung
DE4423289C1 (de) * 1994-07-02 1995-11-02 Karlsruhe Forschzent Gassensor für reduzierende oder oxidierende Gase

Patent Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3019387C2 (de) * 1980-05-21 1986-01-23 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Dünnschicht-Halbleiter-Gassensor mit einem in den Sensoraufbau integrierten Heizelement
DE3139617A1 (de) * 1980-10-07 1982-08-12 Deutsche Itt Industries Gmbh, 7800 Freiburg Gassensor und verfahren zu seiner hertellung
US4453397A (en) * 1981-08-17 1984-06-12 Nippon Soken, Inc. Gas detecting sensor
DE3941837A1 (de) * 1989-12-19 1991-06-20 Bosch Gmbh Robert Widerstandsmessfuehler zur erfassung von gaszusammensetzungen und verfahren zu seiner herstellung
DE4006085A1 (de) * 1990-02-27 1991-08-29 Bosch Gmbh Robert Sensor zur gleichzeitigen bestimmung der zusammensetzung von gasgemischen und der gasgeschwindigkeit
DE4400838A1 (de) * 1994-01-14 1995-07-20 Smt & Hybrid Gmbh Gassensorchip und Verfahren zu dessen Herstellung
DE4423289C1 (de) * 1994-07-02 1995-11-02 Karlsruhe Forschzent Gassensor für reduzierende oder oxidierende Gase

Also Published As

Publication number Publication date
DE19606272A1 (de) 1997-08-28

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE3720189C1 (de) Taupunkt-Sensor
DE10011562C2 (de) Gassensor
DE2658273C3 (de) Gasdetektor
DE60028282T2 (de) Leistungshalbleitermodul
WO2008113644A2 (de) Sensorelement zur bestimmung von partikeln in einem messgas
DE102006055797B4 (de) Sensorelement für einen Gasssensor zur Bestimmung einer physikalischen Eigenschaft eines Messgases
DE1809622A1 (de) Zusammengesetzte Elektrode
WO1996001992A1 (de) Komplexe gasanalyse
DE4036109C2 (de) Widerstandstemperaturfühler
DE3707874C2 (de)
DE102006020113A1 (de) Sensor
EP0944816A1 (de) Elektrischer widerstand mit wenigstens zwei anschlusskontaktfeldern auf einem keramik-substrat sowie verfahren zu dessen herstellung
WO2003027654A2 (de) Sensorbaustein mit einem sensorelement, das von einem heizelement umgeben ist
EP0781993B1 (de) Gassensor
DE19606272C2 (de) Halbleiter-Gassensor
DE112016000301B4 (de) NOx-Sensor
EP3769062B1 (de) Sensorelement zur druck- und temperaturmessung
DE102008041808A1 (de) Partikelsensor und ein Verfahren zu dessen Herstellung
WO2006122875A1 (de) Schaltungsanordnung zum betrieb eines gassensor-arrays
DE2716419A1 (de) Verfahren zum passivieren von leistungs-halbleiterbauelementen
WO1999010738A1 (de) Sensoreinheit, insbesondere zur luftgütemessung
DE2831394A1 (de) Kohlenmonoxid-sensor
DE10315190A1 (de) Gassensor
WO2005098382A1 (de) Temperatursensor und verfahren zur justierung eines solchen
DE10150233A1 (de) Dünnschichtbauelement mit einer in einer ersten Ebene über einem Substrat befindlichen resistiven dünnen Schicht

Legal Events

Date Code Title Description
OM8 Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8364 No opposition during term of opposition
8320 Willingness to grant licenses declared (paragraph 23)
R082 Change of representative

Representative=s name: PATENTANWAELTE LIEDTKE & PARTNER, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee

Effective date: 20130903