DE195399T1 - Verfahren und vorrichtung zur verminderung von volumenfehlern und oberflaechenfehlern von optischen quarzfasern. - Google Patents

Verfahren und vorrichtung zur verminderung von volumenfehlern und oberflaechenfehlern von optischen quarzfasern.

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DE195399T1 DE198686103599T DE86103599T DE195399T1 DE 195399 T1 DE195399 T1 DE 195399T1 DE 198686103599 T DE198686103599 T DE 198686103599T DE 86103599 T DE86103599 T DE 86103599T DE 195399 T1 DE195399 T1 DE 195399T1
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Giacomo Cogoleto Roba (Genova)
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Telecom Italia SpA
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Claims (2)

Patentansprüche
1. Verfahren zum Reduzieren von Volumen- und Oberflächendefekten in optischen Fasern aus Siliciumdioxid, dadurch gekennzeichnet, daß während des Ziehens der Faser von einer Vorform die Oberfläche der Übergangszone der Vorform durch eine reduzierende Atmosphäre chemisch aktiviert wird und eine Schicht von Kohlenstoffteilchen im Stadium Nascendi niedergeschlagen wird, woraufhin man die Kohlenstoffteilchen durch Aufwendung einer Temperatur gleich der Schmelztemperatur des Glases diffundieren läßt und sie mit dem Siliciumdioxid gemäß der Gleichung
Si · [S102] + C -&ngr; SiC · [SiO2]
reagieren läßt, wobei die eckigen Klammern das Vorherrschen des Vorhandenseins von Siliciumdioxid im Material der Vorform anzeigen, und daß die soeben gezogene optische Faser auf eine Temperatur erwärmt wird, die gleich oder etwas höher als die Temperatur des vitrösen Übergangs ist, und dann sehr schnell abgekühlt wird.
2. Vorrichtung zum Durchführen des Verfahrens nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch:
- eine erste Heizvorrichtung (3) zum Erwärmen der Vorform (1) auf die
O&Iacgr;95399
Erweichungstemperatur des Glases, wobei die Vorform in diese Heizvorrichtung von eben her durch zwei mit zentralen Löchern versehene Scheiben (5,6) hindurchtritt, zwischen die ein inertes Gas eingeleitet wird, und wobei im oberen Teil der ersten Heizvorrichtung außerdem Saugeinrichtungen (9>10) vorhanden sind und die Heizvorrichtung weiterhin Einrichtungen (11,12) aufweist, um in ihren unteren Teil ein Gas einzuleiten, durch das Kohlenstoff im Stadium Nascendi und/oder eine reduzierende Atmosphäre eingeführt werden;
- eine zweite Heizvorrichtung (13) zum Erwärmen der optischen Faser (2) auf eine Temperatur, die geringfügig höher ist als die Temperatur des vitrösen Übergangs, wobei diese zweite Heizvorrichtung unterhalb der ersten Heizvorrichtung (3) angeordnet ist und an ihrem Boden durch eine Scheibe (15) mit einem zentralen Loch, durch das die Faser hindurchtreten kann, verschlossen ist, mit Einrichtungen (l6,17) zum Einleiten von inertem Gas, das auf eine die Temperatur des vitrösen Übergangs geringfügig überschreitende Temperatur erhitzt ist, in den unteren Teil der Heizvorrichtung;
- eine Luftzuricht-Vorrichtung (20) zum Kühlen der optischen Faser (2) auf eine Temperatur gleich der oder niedriger als die Umge-r bungstemperatur, wobei diese Vorrichtung unter der zweiten Heizvorrichtung (13) angeordnet ist und an ihrem unteren Ende durch zwei Scheiben (23,26) verschlossen ist, die mit zentralen Löchern, durch die die Faser hindurchtritt, versehen sind und zwischen die ein inertes Gas eingeleitet ist, und wobei Saugeinrichtungen (21,22) im unteren Teil der Luftzuricht-Vorrichtung und Einrichtungen (18,19) zum Einführen von kaltem inertem Gas in den oberen Teil vorhanden sind.
3· Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Gas zum Liefern von Kohlenstoff im Stadium Nascendi Methan (CH,) ist.
DE198686103599T 1985-03-18 1986-03-17 Verfahren und vorrichtung zur verminderung von volumenfehlern und oberflaechenfehlern von optischen quarzfasern. Pending DE195399T1 (de)

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