DE19538984C1 - Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklöchern - Google Patents
Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von SacklöchernInfo
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Description
Bei mehrlagigen Leiterplatten werden die einzelnen Verdrah
tungsebenen mittels sogenannter Durchkontaktierungen direkt
leitend miteinander verbunden. Die Miniaturisierung der Lei
terplatten wird unter anderem durch den Platzbedarf dieser
Durchkontaktierungen begrenzt. Der Platzbedarf ist durch die
Fläche, die für die Durchkontaktierung in der Verdrah
tungsebene freigehalten werden muß, sowie durch die Länge der
Durchkontaktierung festgelegt. In ihrer Länge erstreckt sich
die Durchkontaktierung zwischen den zu verbindenden Verdrah
tungsebenen, gegebenenfalls durch die gesamte Dicke der Lei
terplatte. Die Durchkontaktierungen können sich auch durch
die gesamte Dicke vorgefertigter Zwischenlaminate innerhalb
der mehrlagigen Leiterplatte erstrecken.
Es ist bekannt, in einem Laminat mit
der Schichtenfolge Metall-Dielektrikum-Metall mit Hilfe eines
Excimer-Lasers Sacklöcher zu erzeugen. Die oberste Metall
schicht des Laminats wird hierbei als Lochmaske verwendet,
deren Lochbild mittels Fototechnik übertragen und durch nach
folgendes Ätzen hergestellt wird. Das im Lochbereich dieser
Maske freiliegende Dielektrikum wird dann durch die Einwir
kung des Excimer-Lasers abgetragen, bis die unterste Metall
schicht erreicht ist und den Abtragungsprozeß beendet. Mit
dem bekannten Verfahren werden insbesondere bei der Herstel
lung mehrlagiger Leiterplatten die erforderlichen Durchkon
taktierungslöcher in Form von Sacklöchern hergestellt.
Aus der DE-Z Feinwerktechnik & Meßtechnik 91 (1983) 2, Sei
ten 56 bis 58 ist ein ähnliches Verfahren zur Herstellung
mehrlagiger Leiterplatten bekannt, bei welchem die als Durch
kontaktierungen dienenden Sacklöcher mit Hilfe eines CO₂-
Lasers erzeugt werden. Auch hier dient die oberste Kupferfo
lie als Lochmaske, bei der überall dort, wo der Laserstrahl
ein Loch erzeugen soll, das Kupfer weggeätzt wird.
Aus der JP 06-15472 A in Patent Abstracts of Japan, 1994,
Sec.M-, 18/No. 217 ist eine Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeu
gung von Sacklöchern in dielektrischen Schichten von Lamina
ten bekannt, bei welcher die Lochmaske dicht oberhalb des zu
bearbeitenden Laminats angeordnet wird. In den Spalt zwischen
Lochmaske und Laminat wird dann ein Gas eingeleitet, welches
einen Niederschlag von Zersetzungsprodukten des Laserabtrags
auf der Oberfläche des Laminats oder auf den Wandungen der
Sacklöcher verhindert.
Aus der DE 40 37 716 C1 ist eine konventionelle Leiterplat
ten-Bohrmaschine bekannt, deren Niederhalter als aerostati
sche Lagerplatte ausgebildet ist. Die zwischen der Unterseite
des Niederhalters und einer auf dem Leiterplattenstapel ange
ordneten Kontaktplatte gebildete Luftschicht dient hierbei
als Luftlager. Die Unterseite des Niederhalters drückt also
die Kontaktplatte über die dazwischen befindliche dünne Luft
schicht nieder, so daß die Leiterplatten von der Kontaktplat
te und der Unterseite des Niederhalters unter Druck fixiert
sind.
Die bekannte Verwendung von auf die dielektrischen Schichten
auflaminierten Kupferfolien als Lochmasken bzw. Kontaktmasken
für das Laser-Bohren ist mit einem erheblichen Aufwand ver
bunden. Insgesamt sind bei der Anwendung dieser Maskentechnik
folgende Arbeitsschritte erforderlich:
- - Erstellen eines Film- oder Glasdruckwerkzeuges individuell für jede Sacklochlage
- - Beschichten der auf laminierten Kupferfolie mit Fotoresist
- - Justage des Druckwerkzeugs und Belichten
- - Entwickeln der belichteten Struktur
- - Ätzen der Struktur in die Kupferfolie
- - Strippen des Fotoresists.
Eine Alternative zu der Verwendung auf laminierter Lochmasken
ist eine separat erzeugte Kontaktmaske, welche das spezifi
sche Lochbild beinhaltet und welche als Werkzeug wiederholt
verwendbar ist. Die Herstellkosten für derartige Masken sind
erheblich und erfordern für ihren wirtschaftlichen Einsatz
große Werkstückserien. Zum Bearbeiten einer Sacklochlage ist
je Lage und Leiterplattennutzen eine Justage der Maske zum
Leiterbild notwendig. Für diesen Arbeitsschritt wird jedoch
eine aufwendige und teure Justieranlage benötigt.
Der im Anspruch 1 angegebenen Erfindung liegt das Problem zu
grunde, eine Laser-Bohrvorrichtung zu schaffen, mit welcher
Sacklöcher in großer Zahl in dielektrische Schichten ver
schiedener Art kostengünstig und mit möglichst kurzen Bear
beitungszeiten eingebracht werden können.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß Lochmasken
für das Laser-Bohren mit einfachen Mitteln als "fliegende"
Kontaktmasken ausgebildet werden können, die in definiertem
Abstand über den zu bearbeitenden dielektrischen Schichten
schweben, ohne das Dielektrikum zu beschädigen. Insbesondere
bleiben Mikrorauhigkeiten der dielektrischen Schichten, die
für eine gute Haftung nachfolgend aufgebracht er Metallisie
rungen von entscheidender Bedeutung sind, erhalten. Verschie
bungen der Laminate relativ zur Lochmaske beim Anfahren ver
schiedener Sacklochpositionen, bereiten durch die Schutzwir
kung des Luftfilms ebenfalls keine Schwierigkeiten. Das erwähnte
Schweben der Lochmasken kann dabei durch die Verwen
dung eines als aerostatische Lagerplatte ausgebildeten Mas
kenträgers auf besonders einfache Weise bewirkt werden.
Hervorzuheben ist ferner, daß der Luftstrom die zu bearbei
tenden dielektrischen Schichten kühlt und außerdem einen Nie
derschlag der beim Laserabtragsprozeß entstehenden Zerset
zungsprodukte auf den dielektrischen Schichten verhindert.
Ein derartiger Niederschlag würde die Qualität nachfolgend
aufgebrachter Metallisierungen erheblich beeinträchtigen.
Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den An
sprüchen 2 bis 7 angegeben. Bevorzugte Verwendungen der er
findungsgemäßen Laser-Bohrvorrichtung sind in den Ansprüchen
8 und 9 angegeben.
Die Weiterbildung nach Anspruch 2 ermöglicht die Verwendung
eines einzigen Maskenträgers für mehrere Lochmasken und damit
für die Erzeugung verschiedener Sacklöcher oder Sacklochkon
figurationen.
Die Ausgestaltung nach Anspruch 3 erleichtert das Justieren
der Lochmaske relativ zu den zu bearbeitenden Laminaten, wo
bei gleichzeitig eine für die Entstehung des Luftlager-
Effekts erforderliche Höhenverstellbarkeit gewährleistet ist.
Die Weiterbildung nach Anspruch 4 ermöglicht eine besonders
einfache und sichere Höhenverstellbarkeit des Maskenträgers
über Führungssäulen.
Die Ausgestaltung nach Anspruch 5 ermöglicht den Einsatz ei
ner besonders einfach ausgebildeten Lochmaske mit einem ein
zigen Loch. Die Erzeugung mehrerer Sacklöcher in den dielek
trischen Schichten kann dabei durch Relativbewegungen zwi
schen Lochmaske und den entsprechenden Laminaten bewirkt wer
den.
Die Weiterbildung nach Anspruch 6 ermöglicht eine wirtschaft
liche Erzeugung von vorgegebenen Bohrungsmustern, wie sie
beispielsweise bei Ball Grid Arrays benötigt werden.
Gemäß Anspruch 8 kann die erfindungsgemäße Laser-
Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Durchkontaktierungslöchern
eingesetzt werden, die in mehrlagigen Leiterplatten oder Mul
ti Chip Modulen zwei Verdrahtungsebenen elektrisch leitend
miteinander verbinden.
Gemäß Anspruch 9 ist es aber auch möglich, erfindungsgemäße
Laser-Bohrvorrichtungen zur Strukturierung von Lötstoppabdeckungen
zu verwenden. Dadurch kann die bekannte Fotostruktu
rierung von Lötstoppabdeckungen in der Leiterplattentechnik,
die eine aufwendige Fototechnik erfordert, durch eine einfa
che und wirtschaftliche Direktstrukturierung ersetzt werden.
Zusätzlich können hierbei wesentlich genauere Lötstoppabdeckungen
mit geringeren Stegbreiten realisiert werden. Die
Lochmasken der Laser-Bohrvorrichtung enthalten bei diesem An
wendungsfall die Bilder von Schlitzen oder Schlitzgruppen.
Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in der Zeichnung dar
gestellt und werden im folgenden näher beschrieben.
Es zeigen
Fig. 1 eine Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklö
chern mit einer Lochmaske, die das Bild eines Einzel
loches enthält und
Fig. 2 eine Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklö
chern mit einer Lochmaske, die das Bild einer Loch
gruppe enthält.
Fig. 1 zeigt in stark vereinfachter schematischer Darstel
lung eine Laser-Bohrvorrichtung, mit welcher in ein dielek
trische Schicht DS1 Sacklöcher SL1 eingebracht werden. Im
dargestellten Stadium der Herstellung einer mehrlagigen Lei
terplatte bedeckt die dielektrische Schicht DS1 die erste
Verdrahtungslage einer Leiterplatte LP1, wobei die Sacklöcher
SL1 jeweils bis zu Kupfer-Anschlußpads AP der ersten Verdrah
tungslage reichen.
Mittels eines in Fig. 1 nicht näher dargestellten Lasers
wird ein Laserstrahl LS1 erzeugt, der über eine Laseroptik
LO1 durch eine Lochmaske LM1 auf die dielektrische Schicht
DS1 gerichtet wird.
Die mit einem Einzelloch versehene Lochmaske LM1 ist auswech
selbar in einem Maskenträger MT1 angeordnet. Der als aerosta
tische Lagerplatte ausgebildete Maskenträger MT1 ist an eine
nicht näher dargestellte Druckluftquelle angeschlossen, so
daß über Luftkanäle LK Luft nach unten austritt und sich zwi
schen der Lochmaske LM1 bzw. dem Maskenträger MT1 und der
dielektrischen Schicht DS1 ein Luftfilm bildet. Um diese Aus
bildung des Luftfilms zu ermöglichen, ist der Maskenträger
MT1 über zwei Führungssäulen FS1 in Z-Richtung verschiebbar
angeordnet, wobei die zugeordneten Führungszylinder FZ1 mit
der Laseroptik LO1 verbunden sind. Durch dieses Führungssy
stem wird also eine Bewegung des Maskenträgers MT1 in Z-
Richtung ermöglicht, während eine Bewegung in X- und Y-
Richtung verhindert wird. Die Richtungen X, Y und Z sind in
Fig. 1 durch entsprechende Pfeile angedeutet.
Die Lochmaske LM1 enthält eine Einzelbohrung sehr hoher
Durchmessergenauigkeit. Die Bohrungsdurchmesser können sich
dabei in einem Bereich von 25 µm aufwärts, bis zu ca. 200 µm
bewegen. Als Maskenwerkstoffe kommen sowohl metallische oder
sintermetallische, wie auch Siliziumwerkstoffe zum Einsatz.
Die Herstellung der Bohrungen in der Lochmaske LM1 kann durch
Mikroerodieren, Laserbohren, Ätzen oder auf fotolithografi
schem Wege erfolgen.
Der aus einer telezentrischen Optik aus tretende Laserstrahl
LS1, der einen etwas größeren Durchmesser als die Bohrung der
Lochmaske LM1 hat, trifft senkrecht auf die Lochmaske LM1 und
erzeugt so in der darunter liegenden dielektrischen Schicht
DS1 mit einer 1 : 1 Abbildung des Maskendurchmessers das Sack
loch SL1. Die Erzeugung weiterer Sacklöcher SL1 in der die
lektrischen Schicht DS1 wird durch entsprechende Bewegungen
der Leiterplatte LP1 in X- und Y-Richtung mit Hilfe eines Ti
sches T ermöglicht, auf welchem die Leiterplatte LP1 angeord
net ist.
Fig. 2 zeigt in stark vereinfachter schematischer Darstel
lung eine Laser-Bohrvorrichtung, mit welcher in die oben lie
gende dielektrische Schicht DS2 einer auf einem X/Y-Tisch an
geordneten Leiterplatte LP2 gleichzeitig Gruppen von Sacklö
chern in vorgegebenen Lochkonfigurationen eingebracht werden.
Eine derartige Gruppe von Sacklöchern SL2, wie sie beispiels
weise für die Herstellung von Ball Grid Arrays geeignet ist,
ist in Fig. 2 in der rechten, oberen Ecke der Leiterplatte
LP2 angedeutet. Zur Erzeugung einer solchen Gruppe von Sack
löchern wird eine Lochmaske LM2 verwendet, in welche eine
entsprechende Anzahl von Löchern in der entsprechenden Konfi
guration eingebracht ist. Die Lochmaske LM2 ist auswechselbar
in einem Maskenträger MT2 angeordnet, der in der im Zusammen
hang mit Fig. 1 beschriebenen Weise als aerostatische Lager
platte ausgebildet ist. Somit schweben also auch der Masken
träger MT2 und die Lochmaske LM2 auf einem Luftfilm in defi
niertem Abstand über der zu bearbeitenden dielektrischen
Schicht DS2.
Der Maskenträger MT2 ist über zwei Führungssäulen FS2 und zu
geordnete Führungszylinder FZ2 mit einer Laseroptik LO2 ver
bunden. Durch dieses Führungssystem wird eine Bewegung des
Maskenträgers MT2 in Z-Richtung ermöglicht, während eine Be
wegung in X-Richtung und Y-Richtung verhindert wird. Die
Richtungen X, Y und Z sind auch in Fig. 2 wieder durch ent
sprechende Pfeile angedeutet.
Der in einem Laser LA erzeugte Laserstrahl LS2 besitzt in
seinem Querschnitt nur eine begrenzte geometrische Größe, so
daß er unter Zuhilfenahme einer X/Y-Strahlablenkeinrichtung
SA über die Lochkonfiguration der Lochmaske LM2 gescannt wer
den muß. Hierbei wird der Laserstrahl LS2 über die in bekann
ter Weise als Galvosystem ausgebildete X/Y-Strahlablenkein
richtung SA und die Laseroptik LO2 auf Lochmaske LM2 gerich
tet und über deren Lochkonfiguration gescant. Die Laseroptik
LO2 ist dabei als Korrekturoptik ausgebildet, so daß der ab
gelenkte Laserstrahl LS2 wieder senkrecht auf die Oberfläche
der Lochmaske LM2 auftrifft. Die Scan-Geschwindigkeit hängt
dabei wesentlich von der Pulszahl des Lasers DA ab, die nötig
ist, um das dielektrische Material eines Sackloches SL2 zu
entfernen.
Die vorstehend im Zusammenhang mit den Fig. 1 und 2 be
schriebenen Lochmasken LM1 mit einem einzelnen Loch bzw.
Lochmasken LM2 mit einer Lochkonfiguration, können mit unter
schiedlichen Durchmessern bzw. Konfigurationen bereitgestellt
werden. Die Lochmaskenkönnen dabei revolverartig, wie bei
einem Mikroskop, oder aber auch in speziellen Magazinen, ähn
lich wie bei herkömmlichen NC-Bearbeitungsmaschinen, angeord
net sein. Der Aufruf der jeweiligen Lochmaske kann in den je
weiligen NC-Bohrprogrammen über einen Werkzeugbefehl erfol
gen. Bei einer revolverartigen Anordnung der Lochmasken ist
auf eine gleichmäßige und symmetrische Gewichtsverteilung auf
die tragende, aerostatische Lagerplatte zu achten.
Beim Einsatz der vorstehend beschriebenen Laser-
Bohrvorrichtungen zur Direktstrukturierung von Lötstoppabdeckungen,
werden die Lochmasken mit einem kreiszylindrischen
Einzelloch oder mit einer Konfiguration von kreiszylindri
schen Löchern durch Lochmasken mit einem einzelnen Schlitz
oder einer Schlitzkonfiguration ersetzt.
Claims (9)
1. Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklöchern
(SL1; SL2) in dielektrischen Schichten (DS1; DS2) von Lamina
ten, mit
- - einer Einrichtung zur Erzeugung eines Laserstrahls (LS1; LS2)
- - einer Lochmaske (LM1; LM2), die ein Bild der zu erzeugenden Sacklöcher (SL1; SL2) enthält,
- - einer Laseroptik (LO1; LO2), welche den Laserstrahl (SL1; LS2) durch die Lochmaske (LM1, LM2) auf die zu bearbei tenden dielektrischen Schichten (DS1, DS2) richtet,
- - Mitteln zur Erzeugung eines Luftfilms zwischen der Lochmaske (LM1; LM2) und den zu bearbeitenden dielektrischen Schichten (DS1; DS2), wobei die Lochmaske (LM1; LM2) in einem als aerostatische Lagerplatte ausgebildeten Maskenträger (MT1; MT2) angeordnet ist.
2. Laser-Bohrvorrichtung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lochmaske (LM1; LM2) auswechselbar im Maskenträger
(MT1; MT2) angeordnet ist.
3. Laser-Bohrvorrichtung nach Anspruch 1 oder 2,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Maskenträger (MT1; MT2) in X- und Y-Richtung starr
und in Z-Richtung beweglich an der Laseroptik (LO1; LO2) ange
ordnet ist.
4. Laser-Bohrvorrichtung nach Anspruch 3,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Maskenträger (MT1; MT2) über mindestens zwei in Z-
Richtung verschiebbare Führungssäulen (FS1; FS2) mit der La
seroptik (LO1; LO2) verbunden ist.
5. Laser-Bohrvorrichtung nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lochmaske (LM1) das Bild eines Einzelloches enthält.
6. Laser-Bohrvorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Lochmaske (LM2) das Bild einer Lochgruppe enthält.
7. Laser-Bohrvorrichtung nach Anspruch 6,
dadurch gekennzeichnet,
daß der Laserstrahl (LS2) mit einer X/Y-
Strahlablenkeinrichtung (SA) über die Lochmaske (LM2) mit dem
Bild der Lochgruppe gescant wird.
8. Verwendung einer Laser-Bohrvorrichtung nach einem der An
sprüche 1 bis 7 zur Erzeugung von Durchkontaktierungslöchern,
die in mehrlagigen Leiterplatten (LP1; LP2) oder Multi Chip
Modulen zwei Verdrahtungsebenen elektrisch leitend miteinan
der verbinden.
9. Verwendung einer Laser-Bohrvorrichtung nach einem der An
sprüche 1 bis 7 zur Erzeugung von Sacklöchern in Lötstoppab
deckungen.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19538984A DE19538984C1 (de) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklöchern |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19538984A DE19538984C1 (de) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklöchern |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19538984C1 true DE19538984C1 (de) | 1997-04-24 |
Family
ID=7775293
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19538984A Expired - Fee Related DE19538984C1 (de) | 1995-10-19 | 1995-10-19 | Laser-Bohrvorrichtung zur Erzeugung von Sacklöchern |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19538984C1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10222500A1 (de) * | 2002-05-22 | 2003-12-18 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Materialbearbeitung |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4037716C1 (de) * | 1990-11-27 | 1992-04-09 | Hitachi Seiko, Ltd., Ebina, Kanagawa, Jp |
-
1995
- 1995-10-19 DE DE19538984A patent/DE19538984C1/de not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE4037716C1 (de) * | 1990-11-27 | 1992-04-09 | Hitachi Seiko, Ltd., Ebina, Kanagawa, Jp |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
HILLEBRAND, F.-J.: Laserbohren in organischen Leiterplatten - Material, in: Feinwerktech- nik & Meßtechnik, 1983, H. 2, S. 56-58 * |
JP 06-15472 A = JP 06-15472 A in: Patents Abstracts of Japan, Mechanical fields, 1994, Vol. 18, No. 217 * |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10222500A1 (de) * | 2002-05-22 | 2003-12-18 | Bosch Gmbh Robert | Verfahren zur Materialbearbeitung |
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