DE19502393A1 - Depolymerisation von additionsvernetztem Silikonkautschukvulkanisat - Google Patents
Depolymerisation von additionsvernetztem SilikonkautschukvulkanisatInfo
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- C08J11/04—Recovery or working-up of waste materials of polymers
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- C08J11/16—Recovery or working-up of waste materials of polymers by chemically breaking down the molecular chains of polymers or breaking of crosslinks, e.g. devulcanisation by treatment with inorganic material
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
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- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/0834—Compounds having one or more O-Si linkage
- C07F7/0838—Compounds with one or more Si-O-Si sequences
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C08J—WORKING-UP; GENERAL PROCESSES OF COMPOUNDING; AFTER-TREATMENT NOT COVERED BY SUBCLASSES C08B, C08C, C08F, C08G or C08H
- C08J2383/00—Characterised by the use of macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Derivatives of such polymers
- C08J2383/04—Polysiloxanes
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- Y02W—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
- Y02W30/00—Technologies for solid waste management
- Y02W30/50—Reuse, recycling or recovery technologies
- Y02W30/62—Plastics recycling; Rubber recycling
Description
Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren zur Depoly
merisation von additionsvernetzten Silikonkautschukvulkani
saten mit Säurespuren.
Durch Umsetzung von Vinylsiloxanen mit Silanen oder Siloxa
nen, die SiH-Gruppen enthalten, entstehen additionsvernetzte
Silikonkautschukvulkanisate. Diese Vulkanisate können im Ge
gensatz zu unvernetzten hochmolekularen Siloxanen, peroxi
disch vernetzten oder kondensationsvernetzten Silikonkau
tschukvulkanisaten durch einfaches Erhitzen nur teilweise zu
niedermolekularen Siloxanen depolymerisiert werden. Bei
spielsweise ist in der US-A-5 231 059 ein Verfahren zur Her
stellung von schwarzer, kohlenstoffhaltiger Keramik durch
Pyrolyse von additionsvernetzten Silikonkautschukvulkanisa
ten beschrieben.
US-A-2 673 843 beschreibt ein Verfahren zur teilweisen Depo
lymerisation von Silikonkautschukvulkanisat durch Behandlung
mit großen Mengen an wasserfreien Säuren bei ungefähr Raum
temperatur. Man erhält ein flüssiges Gemisch, das nach der
Entfernung der Säure wieder zu einem festen Vulkanisat er
starrt.
In EP-A 523 323 ist ein Verfahren zum Cracken von hochmole
kularen Siliconpolymeren beschrieben, bei dem die Siliconpo
lymere in einem hochsiedenden organischen Lösungsmittel,
welches Schwefelsäure enthält, erhitzt werden, bis sie sich
aufgelöst haben. Anschließend wird das Gemisch basisch ge
macht und die entstandenen cyclischen Siloxane abdestil
liert. Das Lösungsmittel kann durch Filtration nur sehr müh
sam von schwerflüchtigen Nebenprodukten und Bestandteilen
der Siliconpolymere, wie Füllstoffe, gereinigt werden, da
diese Feststoffe äußerst feinteilig anfallen und die Filter
verstopfen. Die abfiltrierten Füllstoffe können nicht auf
wirtschaftliche Weise der Wiederverwendung zugeführt werden.
Das Lösungsmittel ist nur begrenzt einsetzbar und muß häufig
ersetzt werden.
Der vorliegenden Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, ein
Verfahren bereitzustellen, durch das additionsvernetzte Si
likonkautschukvulkanisate auf wenig aufwendige Weise zu wie
derverwendbaren Produkten, insbesondere flüchtigen Siloxanen
und Füllstoffen, abgebaut werden.
Gegenstand der Erfindung ist ein Verfahren zur Depolymerisa
tion von additionsvernetztem Silikonkautschukvulkanisat, bei
dem
in einem erstem Schritt eine Lösung von Säure in Lösungsmit tel in das Silikonkautschukvulkanisat diffundiert,
in einem zweiten Schritt das Lösungsmittel abgedampft wird und
in einem dritten Schritt das Silikonkautschukvulkanisat auf mindestens 350°C erhitzt wird.
in einem erstem Schritt eine Lösung von Säure in Lösungsmit tel in das Silikonkautschukvulkanisat diffundiert,
in einem zweiten Schritt das Lösungsmittel abgedampft wird und
in einem dritten Schritt das Silikonkautschukvulkanisat auf mindestens 350°C erhitzt wird.
Im Verfahren können Brönstedt- oder Lewissäuren eingesetzt
werden. Beispiele für Brönstedt- oder Lewissäuren, die im
Verfahren eingesetzt werden können, sind Mineral-, Carbon-,
Sulfonsäuren, SO₃, BF₃, Phosphorhalogenide, wie PCl₅, POCl₃,
Phosphor-Stickstoff-Halogenide, sowie Metallverbindungen,
wie AlCl₃, TiCl₃, SnCl₄, FeCl₃ und Metallkomplexsalze, die
als Lewis-Säure fungieren.
Bevorzugt sind starke Säuren, wie Bor-, Tetrafluorobor-,
Salpetersäure, salpetrige Säure, Phosphorsäure, phosphorige
Säure, unterphosphorige Säure, Salz-, Fluß-, Jodwasser
stoff, Bromwasserstoff-, Perchlor-, Hexafluorophosphorsäure,
Phosphorhalogenide, Phosphor-Stickstoff-Halogenide, Alumini
umchlorid, Zinkchlorid, Benzolsulfon-, p-Toluolsulfon-, Me
thansulfon-, Trifluormethansulfon- und Carbonsäuren, wie
Trichloressig-, Benzoe-, Trifluoressig-, Oxal-, Phthal- und
Bernsteinsäure.
Besonders bevorzugt sind Phosphorhalogenide, Phosphoroxyha
logenide, Phosphor-Stickstoff-Halogenide, Salz-, Tetrafluor
obor-, und Trifluormethansulfonsäure.
Bei dem erfindungsgemäßen Verfahren werden insbesondere
Phosphor-Stickstoff-Chloride der ungefähren Summenformel
PNCl₂ eingesetzt, die erhältlich sind durch Umsetzung von
Phosphorpentachlorid mit Ammoniak. Derartige Verbindungen
werden häufig als Phosphornitriddichlorid bezeichnet.
Die Säuren müssen in ausreichender Menge in Lösungsmitteln
löslich sein. Bezogen auf 100 Gewichtsteile additionsver
netztes Silikonkautschukvulkanisat werden vorzugsweise höch
stens 5, insbesondere höchstens 0,5, besonders bevorzugt
höchstens 0,1 Gewichtsteile Säure eingesetzt.
Vorzugsweise sind die Säuren schwerflüchtig und weisen ins
besondere einen Siedepunkt oder Sublimationspunkt von minde
stens 250°C, vorzugsweise mindestens 400°C bei 0,1 MPa auf.
Die Säuren müssen hinreichend stabil sein, um beim Erhitzen
des Silikonkautschukvulkanisats nicht vollständig zersetzt
zu werden.
Beispiele für im Verfahren verwendbare Lösungsmittel sind
Ether, wie Dioxan, Tetrahydrofuran, Diethylether, Diethylen
glycoldimethylether; Ester, wie Essigsäureethylester; halo
genierte Kohlenwasserstoffe, wie Dichlormethan, Trichlorme
than, Tetrachlormethan, 1,2-Dichlorethan, Trichlorethylen;
Kohlenwasserstoffe, wie Pentan, n-Hexan, Hexan-Isomerengemi
sche, Heptan, Oktan, Waschbenzin, Petrolether, Benzol, Tolu
ol, Xylole; Ketone, wie Aceton, Methylethylketon, Methyl
isobutylketon; Siloxane, wie Hexamethyldisiloxan und Octame
thylcycibtetrasiloxan; Schwefelkohlenstoff und Nitrobenzol,
oder Gemische dieser Lösungsmittel.
Vorzugsweise werden unpolare Lösungsmittel, wie halogenierte
oder nicht halogenierte Kohlenwasserstoffe, insbesondere ge
sättigte Kohlenwasserstoffe, eingesetzt.
Lösungsmittel oder Lösungsmittelgemische mit einem Siede
punkt bzw. Siedebereich von bis zu 200°C, vorzugsweise bis
zu 150°C, insbesondere bis zu 100°C bei 0,1 MPa sind bevor
zugt.
Im erstem Verfahrensschritt diffundiert eine Lösung von Säu
re in Lösungsmittel in das Silikonkautschukvulkanisat ein
und quillt dabei das Vulkanisat auf. Vorzugsweise werden da
zu mindestens 20, insbesondere mindestens 50 Gewichtsteile
Lösung, bezogen auf 100 Gewichtsteile additionsvernetztes
Silikonkautschukvulkanisat eingesetzt, damit die Säure sich
gut im Vulkanisat verteilt.
Die im Verfahren einsetzbaren Silikonkautschukvulkanisate
sind aufgebaut aus Einheiten von Polydialkylsiloxanen mit
gegebenenfalls substituierten C₁-C₆-Alkyl- oder Phenylre
sten, vorzugsweise Methylresten.
Die substituierten Reste können z. B. Cyanalkylreste, wie der
β-Cyanethylrest, halogenierte Kohlenwasserstoffreste, bei
spielsweise Halogenalkylreste, wie der 3-Chlorpropylrest und
der 3,3,3-Trifluor-n-propylrest, und Halogenarylreste, wie
der o-, m-, und p-Chlorphenylrest oder Alkylreste sein, die
in 3-Stellung am Propylrest gebundene Polyglykoletherreste
aus beispielsweise Ethylenglykol oder Propylenglykol tra
gen.
Ein kleiner Teil der Reste R, höchstens 0,1% der Reste kann
eine kondensierbare Gruppe, wie die OH-, Alkoxy-, Acetoxy- und
Amino-Gruppe, eine addierbare Gruppe, wie die Vinylgrup
pe oder das Wasserstoffatom oder ein C₁-C₁₈-Kohlenwasser
stoffrest sein, der eine kondensierbare oder addierbare
Gruppe trägt.
Bei der Depolymerisation der besonders bevorzugten Vulkani
sate von Polydimethylsiloxankautschuk entstehen bei Tempera
turen von 450 bis 600°C vorwiegend Siloxanzyklen mit 3 bis
10 Siloxaneinheiten, wobei niedere Zyklen bevorzugt gebildet
werden. Von den flüchtigen Siloxanen wird bei den vorstehen
den Temperaturen mehr als 50% Hexamethylcyclotrisiloxan ge
bildet. Die Ausbeute der besonders wertvollen Siloxanzyklen
mit 3 und 4 Siloxaneinheiten beträgt unter diesen Bedingun
gen immer über 70%. Temperaturen über 750°C sind weniger be
vorzugt, da dann vermehrt Zersetzungsprodukte entstehen.
Viele Silikonkautschukvulkanisate enthalten als Weichmacher
niederviskose Silikonöle. Diese Silikonöle beeinflussen die
Zusammensetzung der gebildeten flüchtigen Siloxane kaum.
Das Verfahren kann in Anwesenheit eines Fremdgases, d. h. ei
nes Gases, das kein entstehendes flüchtiges Siloxan ist,
durchgeführt werden. Als Fremdgase eignen sich die üblichen
Inertgase, wie Stickstoff und Argon, aber auch Wasser und
Ammoniak sind geeignet.
Die Anwesenheit von Luftsauerstoff ändert das Verhältnis der
Produkte kaum, da diese sehr schnell gebildet werden und
durch ihre Flüchtigkeit sofort aus der heißen Zone entfernt
werden, bevor größere Mengen oxidiert werden. Der Rückstand
der Pyrolyse nimmt auch nicht zu. Der apparative Aufwand
kann deshalb gering gehalten werden. Die Explosionsgrenzen
von Luft mit flüchtigen Siloxanen müssen dabei beachtet wer
den. Beispielsweise kann der Reaktionsraum in der Aufheiz- und
Abkühlphase unter Inertgas gesetzt werden. Sobald die
Pyrolyse einsetzt, werden so viele flüchtige Siloxane gebil
det, daß in Luft vorhandener Sauerstoff nicht mehr zu einer
explosionsartig verlaufenden Oxidation ausreicht.
Die flüchtigen Siloxane werden vorzugsweise kondensiert,
nachdem sie die Reaktionszone verlassen haben. Vorzugsweise
werden die flüchtigen Siloxane in einem Fremdgasstrom aus
der Reaktionszone entfernt. Die Siloxane können in reiner
Form, in einem Lösungsmittel oder in einer Flüssigkeit kon
densiert werden, in der sie nicht löslich sind. Die Art der
Kondensation hängt von der beabsichtigten Verwendung der Si
loxane ab.
Das Erhitzen im dritten Verfahrensschritt kann unter vermin
dertem Druck oder bei Atmosphärendruck durchgeführt werden.
Erhöhter Druck behindert thermodynamisch die Entstehung
flüchtiger Siloxane und ist deshalb nicht bevorzugt.
Der dritte Verfahrensschritt kann in beliebigen Pyrolyseap
paraturen durchgeführt werden. Geeignet sind beispielsweise
Apparaturen, in denen das Erhitzen in einem Muffelofen,
Rohrofen oder Drehrohrofen stattfindet und bei denen die
flüchtigen Siloxane in einer gekühlten Vorlage kondensiert
werden. Die Beheizung kann indirekt durch Konvektion, durch
Mikrowellen und durch Strahlung erfolgen.
Das erfindungsgemäße Verfahren eignet sich in besonderer
Weise für füllstoffhaltige Silikonkautschukvulkanisate.
Beim Erhitzen entstehen im vorstehend beschriebenen Tempera
turbereich ebenfalls die vorstehend beschriebenen cyclischen
Siloxane in nahezu quantitativer Ausbeute, so daß die Sili
kone von den Füllstoffen getrennt werden.
Der Rückstand nach dem Erhitzen enthält die anorganischen
Füllstoffe. Wenn der Rückstand noch organische Verunreini
gungen oder Ruß enthält, können diese durch Oxidation mit
Sauerstoff entfernt werden. Diese Oxidation kann schon wäh
rend des Erhitzens durch anwesende Luft erfolgen oder, wenn
das Erhitzen unter Inertgas durchgeführt wird, durch Einlei
ten von Luft oder Luftsauerstoff im Anschluß an das Erhit
zen.
Beispiele für anorganische Füllstoffe sind nicht verstärken
de Füllstoffe, also Füllstoffe mit einer BET-Oberfläche von
bis zu 50 m²/g, wie Quarz, Diatomeenerde, Calciumsilikat,
Zirkoniumsilikat, Zeolithe, Metalloxidpulver, wie Alumini
um-, Titan-, Eisen-, oder Zinkoxide bzw. deren, Mischoxide,
Bariumsulfat, Calciumcarbonat, Gips und Glaspulver; ver
stärkende Füllstoffe, also Füllstoffe mit einer BET-Oberflä
che von mehr als 50 m²/g, wie pyrogen hergestellte Kiesel
säure, gefällte Kieselsäure und Silicium-Aluminium-Misch
oxide großer BET-Oberfläche.
Die genannten Füllstoffe, insbesondere Kieselsäuren, können
hydrophobiert sein, beispielsweise durch die Behandlung mit
Organosilanen bzw. -siloxanen oder -silazanen oder durch
Verätherung von Hydroxylgruppen zu Alkoxygruppen. Die hy
drophoben Eigenschaften der Füllstoffe bleiben nach der
Durchführung des Verfahrens bestehen und zuvor hydrophile.
Füllstoffe werden in hydrophobe umgewandelt.
Die Füllstoffe können beispielsweise zur Herstellung neuer
Silikonkautschuke verwendet werden. Die dabei erhaltenen Si
likonkautschuke können zu Vulkanisaten verarbeitet werden,
die depolymerisierten Vulkanisaten vergleichbare Eigenschaf
ten zeigen.
In den nachfolgenden Beispielen sind, falls jeweils nicht
anders angegeben,
- a) alle Mengenangaben auf das Gewicht bezogen;
- b) alle Drücke 0,10 MPa (abs.);
- c) alle Temperaturen 25°C.
30 g eines additionsvernetzten Polydimethylsiloxankautschuk
vulkanisats, welches als Papierbeschichtungsmittel einge
setzt wird, wurden in 20 g Hexan gequollen, mit 1 ml einer
1-%-igen Lösung von PNCl₂ in Dichlormethan versetzt und am
Rückfluß gekocht. Die Lösungsmittel wurden abdestilliert und
das zurückgebliebene Gel wurde bei 650°C für eine Stunde un
ter Stickstoff pyrolysiert. Der Rückstand betrug weniger als
1% des eingesetzten additionsvernetzten Silikonkautschuk
vulkanisats. Als Pyrolyseprodukt entstand ein Gemisch cycli
scher Siloxane.
Eine Probe des in Beispiel 1 eingesetzten additionsvernetz
ten Silikonkautschukvulkanisats wurde bei 500°C für 2 Stun
den unter Stickstoff pyrolysiert. Nach Beendigung der Gas
entwicklung wurde der Rückstand ausgewogen. Er betrug 78%
des eingesetzten additionsvernetzten Silikonkautschukvulka
nisats und war glasartig hart.
Ein additionsvernetzender Polydimethylsiloxankautschuk, der
30% Kieselsäure als Füllstoff enthielt, wurde mit 5%
SiH-Gruppen enthaltenden Siloxanen und 0,5% eines Platinkataly
satorgemisches vulkanisiert. Das Vulkanisat wurde in Hexan
gequollen, und mit einer 1-%-igen Lösung von PNCl₂ in Di
chlormethan versetzt. Das zurückgebliebene Gel wurde bei
500°C für eine halbe Stunde unter Stickstoff pyrolysiert.
Der Rückstand betrug 33% des eingesetzten Vulkanisats. Als
Pyrolyseprodukt entstand ein Gemisch cyclischer Siloxane.
Eine Probe des in Beispiel 3 eingesetzten additionsvernetz
ten Silikonkautschukvulkanisats wurde bei 500°C für eine
halbe Stunde unter Stickstoff pyrolysiert. Der Rückstand be
trug 78% des eingesetzten Vulkanisats.
Claims (3)
1. Verfahren zur Depolymerisation von additionsvernetztem
Silikonkautschukvulkanisat, bei dem
in einem ersten Schritt eine Lösung von Säure in Lö sungsmittel in das Silikonkautschukvulkanisat diffun diert,
in einem zweiten Schritt das Lösungsmittel abgedampft wird und
in einem dritten Schritt das Silikonkautschukvulkanisat auf mindestens 350°C erhitzt wird.
in einem ersten Schritt eine Lösung von Säure in Lö sungsmittel in das Silikonkautschukvulkanisat diffun diert,
in einem zweiten Schritt das Lösungsmittel abgedampft wird und
in einem dritten Schritt das Silikonkautschukvulkanisat auf mindestens 350°C erhitzt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem Phosphor-Stickstoff-Chloride
der ungefähren Summenformel PNCl₂ eingesetzt
werden, die erhältlich sind durch Umsetzung von Phos
phorpentachlorid mit Ammoniak.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Lösungs
mittel halogenierte oder nicht halogenierte Kohlenwas
serstoffe eingesetzt werden.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995102393 DE19502393A1 (de) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | Depolymerisation von additionsvernetztem Silikonkautschukvulkanisat |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE1995102393 DE19502393A1 (de) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | Depolymerisation von additionsvernetztem Silikonkautschukvulkanisat |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE19502393A1 true DE19502393A1 (de) | 1996-08-01 |
Family
ID=7752372
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1995102393 Withdrawn DE19502393A1 (de) | 1995-01-26 | 1995-01-26 | Depolymerisation von additionsvernetztem Silikonkautschukvulkanisat |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE19502393A1 (de) |
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-
1995
- 1995-01-26 DE DE1995102393 patent/DE19502393A1/de not_active Withdrawn
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