DE1930095A1 - Verfahren zur Herstellung von Drehanoden fuer Roentgenroehren - Google Patents

Description

Rudolf Busselmeier · 1 Q ^ Π Π Q R

Patentanwalt . .

Augsburg 3 ■ Rehlingenstraße 8 , ·

Postfach 242
PoaUdiedckonto: M (1 η c h e η Nr. 745 39 ,'

5357/17 Th/Em ".· Augsburg, den 9. Ju-K-i I969

Priorität: Österreich, A 7861/68 12. August I968

Metallwerk Plansee Aktiengesellschaft

Reütte / Tirol, Österreich '

"Verfahren zur Herstellung von Drehanoden für Röntgenröhren"

Es sind bereits Drehanoden für Röntgenröhren bekannt geworden, die aus einem Basiskörper aus Graphit bestehen, auf dem eine Schicht aus Wolfram, Molybdän, Thorium oder Tantal aufgetragen ist, die durch Abbremsen der Elektronen die Röntgenstrahlen erzeugt. Drehanoden dieser Bauart zeichnen sich durch eine ungewöhnlich hohe Belastbarkeit aus, weil der Graphit-Basiskörper eine hohe Wärmekapazität aufweist. Besteht die Schicht, auf der _xdie Elektronen ausgelöst werden, aus Wolfram oder .einer Wolframlegierung, so muß außerdem damit gerechnet werden, daß sich zwischen dieser wolframhaltigen Schicht und dem Graphitkörper spröde Zwischenschichten aus Wolframkarbid bilden, durch welche die Verbindung der Deckschicht mit dem Grundkörper gefährdet sein kann. Man hat deshalb schon daran gedacht, zwischen dem Grundkörper aus Graphit und der Deckschicht aus Wolfram eine Zwischenschicht aus Rhenium anzuordnen, die allerdings die Herstellung der Drehanoden wesentlich ■ verteuert.

Das erfindungsgemäße Verfahren vermeidet die obigen Nachteile. Die Erfindung *>^etrifft ein Verfahren zur Herstellung von Drehanoden für Röntgenröhren mit einem üasiskörper aus Graphit,, diefc ;2?timindest an den

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Auftreffstellen für die Elektronen mit Wolfram bzw. einer Wolframlegierung bedeckt ist. Die ■ Erjjjyjdung .^₁ besteht darin, daß auf dem Graphitkörper zuerst eine Schicht aus Wolfram bzw. einer Wolframlegierung aufgespritzt und darüber eine weitere Schicht aus Wolfram oder einer Wolframlegierung aus gasförmigen Verbindungen abgeschieden wird. Als Legierungszusätze für die beiden Schichten kommen vor allem Rhenium, Osmium, Iridium und andere hochschmelzende Metalle in Frage.

Das Aufspritzen der wolframhaltigen Deckschicht auf den Graphit-Grundkörper kann vorteilhaft mit einer * Plasmapistole vorgenommen werden. Die einzelnen Wolframpartikel, die sich beim Auftreffen auf dem Graphitkörper auf hoher Temperatur befinden, kühlen sich sehr rasch ab, so daß es nicht zur Reaktion mit dem Grundkörper und damit zur Bildung von spröden Wolframkarbidphasen kommen kann. Die aufgespritzte Schicht ist jedoch noch etwas porös und wäre deshalb als Oberflächenschicht für eine Wolframdrehanode nicht ganz geeignet. Es wird deshalb auf die aufgespritzte wolframhaltige ' Schicht noch eine weitere wolframhaltige Schicht aufgetragen, die aus der Gasphase abgeschieden wird. Diese wolframhaltige Deckschicht kann entweder durch direkte tes Aufdampfen von Wolfram und den gewünschten Legierungszusätzen im Vakuum oder durch Abscheidung aus gasförmigen Verbindungen, die Wolfram und die sonstigen Legierungszusätze enthalten, hergestellt werden. Für die Abscheidung von Wolfram kommt die thermische Zersetzung von Wolfram-Hexafluorid bzw. Wolframhexachlorid und Wasserstoff in Frage. In ähnlicher Weise wie Wolfram können auch andere Legierungszusatze, z.B. Rhenium, abgeschieden werden. Deckschichten aus Wolfram-Rhenium-Legierungen können z.B. aus Gemischen hergestellt werden, die neben Viasserstoff Wolfram-Hexafluorid und Rhenium-Hexafluorid enthalten.

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Anhand eines Ausführungsbeispieles wird die Erfindung näher erläutert. In der einzigen Figur der Zeichnung ist eine Wolframdrehanode dargestellt, die aus dem Graphit-Grundkörper 1 besteht, auf dem an den Auftreffstellen für die Elektronen die wolframhaltigen Schichten 2 und 3 aufgetragen sind. Die Schicht 2 besteht aus reinem Wolfram und ist etwa 1 mm stark; sie wurde durch Aufspritzen mit einer Plasmapistole hergestellt, über dieser Schicht 2 ist. eine weitere wolframhaltige Schicht 3 angeordnet, die nur etwa 0,2 mm stark ist. Sie wurde dadurch hergestellt, daß die Drehanode in einem Gemisch aus Wasserstoff und Wolfram-IIexaf luorid im Verhältnis 10:1 bei einer Temperatur von 550 C behandelt wurde. Wird gewünscht, daß die äußere Deckschicht aus einer Wolfram-Rhenium-Legierung besteht, so kann diese aus einem Gemisch abgeschieden werden, ■ das neben Wasserstoff und WoIfram-Hexafluorid auch noch Uhenium-Hexafluorid enthält. Die Deckschicht 3 besteht aus säulenförmigen Kristallen und ist praktisch porenfrei. Es hat sich gezeigt, daß sie gegen die auftreffenden Elektronen sehr widerstandsfähig ist.

- ■ k - Patentansprüche

Claims (1)

1. 5357/17 Th/Em - 'Λ '-■■- 9. Juni Ι969

   ■ Patentansprüche:

   Verfahren zur Herstellung von Drehanoden für Röntgenröhren mit einem Basiskörper aus Graphit, der zumindest an den Auftreffstellen für die Elektronen mit Wolfram oder einer wolframhaltigen Legierung bedeckt ist, dadurch gekennzeichnet , daß auf den Graphitkörper zuerst eine Schicht aus Wolfram oder einer Wolframlegierung aufgespritzt und darüber eine weiter.e Schicht aus Wolfram oder einer Wolframlegierung aus gasförmigen Verbindungen abgeschieden wird.

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   Verfahren nach Anspruch 1, dadurch g e k e η η zeichne t- , daß das Aufspritzen der wolframhaltigen Schicht mittels einer Plasmapistole vorgenommen wird.

   3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch g e k e η η •ζ e i c h η e t , daß die äußere Deckschicht aus einem Gemisch aus Wasserstoff und Wolfram-IIexaf luorid bzw.. Wolfram-IIexachlorid abgeschieden wird, das gegebenenfalls noch weitere Zusätze enthält.

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