DE1644017C3 - - Google Patents

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DE1644017C3
DE1644017C3 DE19641644017 DE1644017A DE1644017C3 DE 1644017 C3 DE1644017 C3 DE 1644017C3 DE 19641644017 DE19641644017 DE 19641644017 DE 1644017 A DE1644017 A DE 1644017A DE 1644017 C3 DE1644017 C3 DE 1644017C3
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Erhard Dipl.-Ing. 8011 Poing Sussmann
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Siemens AG
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    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C30CRYSTAL GROWTH
    • C30BSINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
    • C30B25/00Single-crystal growth by chemical reaction of reactive gases, e.g. chemical vapour-deposition growth
    • C30B25/02Epitaxial-layer growth
    • C30B25/14Feed and outlet means for the gases; Modifying the flow of the reactive gases

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
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  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
DE19641644017 1964-12-23 1964-12-23 Verfahren zum epitaktischen Abscheiden einer Halbleiterschicht Ausscheidung aus: 1262244 Granted DE1644017B2 (de)

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