DE1514781A1 - Elektronenstrahl-Erzeugungssystem - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem für hohe Strahlspannungen.

Bei bekannten Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen für hohe Strahl spannung en sind die hochspannungsfülirenden Teile des Elektronenstrahlsystems durch Vakuumstrecken oder Isolator-Kriechstrecken von den^jrf auf Erdpotential liegenden oder von außen zugänglichen Teilen isoliert. Insbesondere ist der Abstand zwischen den hochspannungsführenden Teilen und dem normalerweise metallischen Vakuumgehäuse an allen Stellen so groß, daß ein elektrischer Überschlag zum Gehäuse mit Sicherheit nicht auftreten kann. Halterungen für die hoehspannungsführenden Teile sitzen in Isolatoren» die eine große Oberflächen-Kriechstrecke zwischen diesen Halterungen und den geerdeten Teilen, auf denen die Isolatoren aufgebaut sind, aufweisen.

Bei bekannten Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen dieser und ähnlicher Bauart ergeben sich bei der Verwendung hoher Strahl-

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Spannungen, etwa in der Größenordnung 100 kV, erhebliche Abmessungen, die beim praktischen Einsatz sehr hinderlich sein können. Besonders störend sind die großen Gehäusedurchmesser, die sich aus den notwendigen Abständen zwischen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem und Gehäuse-Innenwand ergeben O

Die Erfindung hat sich die Aufgabe gestellt, ein Elektronenstrahl-Erzeugungssystem der eingangs angegebenen Art zu schaffen, das bei gegebener Streu spannung erheblich verminderte Abmessungen, insbesondere einen erheblich verringerten Durchmesser aufweist.

Nach der Erfindung wird die gestellte Aufgabe bei einem Elektronenstrahl-Erzeugungssystem für hohe Strahlspannungen im wesentlichen dadurch gelöst, daß die hochspannungsführenden Teile des Elektrodensystems von einem Gefäß umgeben sind, dessen Außenfläche von einem geerdeten elektrischen Leiter bedeckt ist und dessen Innenwände, als Isolierkörper ausgebildet sind und die hochspannungsführenden Teile mit so kleinem Abstand umgeben, daß zumindest bereichsweise die elektrische Isolierung zwischen den hochspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen teilweise oder ganz von der elektrischen Durchschlagsfestigkeit des Isolierkörpers bestimmt ist.

Bei dem erfindungsgemäßen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem wird somit die im Vergleich zum Vakuum erheblich größere Durchschlagsfestigkeit eines Isolierkörpers ausgenutzt, so daß Jjank der Verwendung dieses Isolierkörpers im Isolationsweg zwischen den hochspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen eine erhebliche Ver-

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kleinerung dieses Isolationsweges möglich ist. Xm Gegensatz zu den bekannten Bauarten von Elektronenstrahl-Erzeugungssystemen werden bei dem erfindungsgemäßen Elektronenstrahl-Erzeugungssystem die verwendeten Isolierstoffe nicht nur nach dem Gesichtspunkt ausgebildet, daß ein möglichst großer Kriechweg auf der Oberfläche der Isolierstoff teile vorhanden ist, sondern bewußt auch senkrecht zu ihrer Oberfläche mit einer elektrischen Feldstärke belastet, die einen erheblichen Bruchteil der Durchschlagsfeldstärke betragen kann.

Nach einem weiteren Merkmal der vorliegenden Erfindung kann das Elektronenstrahl-Erzeugungssystem so ausgebildet sein, daß die elektrische Mitte des Kriechweges auf der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche des Isolierkörpers der elektrischen Mitte der Beschieunigungsstrecke etwa gegenüberliegt. Durch diese Gestaltung des Aufbaues des Elektronenstrahl-Erzeugungssystems wird erreicht, daß die elektrische Belastung des Isolierkörpers zumindest in der Nähe der elektrischen Mitte der Beschleunigungsstrecke etwa nur die Hälfte der gesamten Potentialdifferenz zwischen den hochspannungsführenden und geerdeten Teilen beträgte

Nach einem weiteren Merkmal der vorliegenden Erfindung kann der Isolierkörper derart geformt sein, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektroden-System zugewandten Fläche des Isolierkörpers mit den auf dieser Flache durch die Geometrie der Metallteile bestimmten Potentialen möglichst weitgehend übereinstimnyfc. Durch diese Gestaltung des Isolierkörpers werden die Einflüsse, die bei etwaigen Veränderungen der Oberflächenbeschaffenheit des Isolierkörpers von der dabei entstehenden Veränderung der Ladungsverteilung auf die Strahlgeometrie ausgeübt werden, weitgehend herabgesetzt.

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Weitere Merkmale der Vorteile der Erfindung ergeben sich aus der folgenden beispielsweisen Beschreibung in Verbindung mit den Zeichnungen.

Fig. 1 zeigt schematisch einen Axialschnitt durch den oberen Teil eines erfindungs gemäß en Elektron«, -.strahl -Erzeugungssystems.

Fig. 2 zeigt eine der Fig. 1 entsprechende Darstellung, erläutert jedoch eine andere Ausführungsform, bei der ein Kathodenmagazin mit liathodenwechsel-Vorrichtung vorgesehen ist.

Fig. 3 erläutert schematisch in vergrößerter Darstellung eine erfindungsgemäße Gestaltung des Isolierkörpers, ebenfalls in einem Axialschnitt.

Das in Fig. 1 schematisch dargestellte erfindungsgemäße Elektronenstrahl-Erzeugungssystem enthält ein Gefäß 1, das einen Teil des Vakuumgehäuses darstellt und im wesentlichen aus einem hohlzylindrischen Isolierkörper 5 besteht, auf dessen Außenseite 2 ein geerdeter elektrischer Leiter 3 in Form einer Blech-Ummantelung vorgesehen ist. Die Ummantelung 3 kann beispielsweise mit Hilfe von Spannbändern 30 auf den Isolierkörper 5 aufgezogen sein.

Im Inneren des wesentlich hohlzylindrischen Gefäßes 1 ist das Kathodensystem angeordnet, das sämtliche hochspannungsführenden Teile umfaßt} die Innenwand 4 des Gefäßes liegt verhältnismäßig dicht an dem Kathodensystem, so daß die elektrische Isolierung zwischen dem Kathodensystem und der metallischen Umhüllung 3 A^m wesentlichen von der Durchschlagfestigkeit des Isolierkörpers 5 bestimmt wird. Das Kathoden-

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system ist mit Hilfe eines Tragringes 6 am Isolierkörper befestigt. Der Tragring 6 kann beispielsweise, wie dargestellt, in den Isolierkörper eingegossen sein· Zu diesem Zweck kann der Isolierkörper an den Befestigungsstellen des Tragringes 6 Verstärkungen 35 aufweisen, in welchen die zweckmäßigerweise als Verankerungen ausgebildeten und aus elektrischen Gründen abgerundeten Randteile 3^ des Tragringes 6 eingegossen sind. Die Berührungsfläche zwischen den Randteilen 34 und dem Isolierkörper 5 wird erfindungsgemäß so groß gewählt, daß der vom Kathodensystem im Betrieb über den Tragring 6 abfließende Wärmestrom die Berührungsstellen mit dem Isolierkörper 5 nicht so hoch erwärmen kann, daß das Material, aus dem der Isolierkörper 5 besteht, in seinen Eigenschaften beeinträchtigt wird. Das Kathodensystem besteht bei der dargestellten Ausführungsform aus einer Wehneltelektrode 71 in deren Steueröffnung die V-förmige Kathode 8 liegt. Die Kathode 8 ist in einer Kathodenhalterung befestigt, die mit seitlichen Isolieransätzen 36 in (nicht dargestellten) Führungsbahnen der Wehneltelektrode 7 in vorbestimmter Lage relativ zur Wehneltelektrode einsitzt. Am oberen Ende ist die Kathodenhaiterung 32 mit Verankerungsmitteln versehen, die mit einem (nicht dargestellten) Schlüssel für das Herausnehmen und Einsetzen der Kathodenhalterung in Eingriff treten können. Bei den Ausführungsformen nach den Fig. 1 und 2 sind als Verankerungsmittel einfache Bajonettschlitze 33 angedeutet; selbstverständlich können auch andere Vorrichtungen zum Herstellen eines Eingriffs zwischen der Kathodenhalterung und einem Schlüssel verwendet werden. ■

In dem Tragring 6 sind Pumpöffnungen 9 vorgesehen, damit in den ,oberhalb und unterhalb des Kathodensystems liegenden Räumen 1.4 und 15 im wesentlichen gleiche Drucke herrschen.

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Wie sich aus den Figuren 1 und 2 ergibt, wird bei den dort dargestellten Ausführungsformen das Kathodensystem von dem als Vakuumgehäuse dienenden Isolierkörper 5 getragen. Das obere Ende des Gefäßes 1 ist mit einem lösbaren Deckel 12 versehen, der ebenfalls aus Isoliermaterial besteht und einen zur Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 passenden Randabsatz l6 sowie eine metallische Abdeckung 13 aufweist. Die Abbildung 13 kann mittels Schrauben 29 an dem Deckel 12 angeschraubt sein. Die Abdichtung zwischen dem Isolierkörper 5 und dem Deckel 12 erfolgt durch eine Ringdichtung 17.

Das untere Ende des Isolierkörpers 5 ist mit einem Flansfr 25 versehen und mit diesem Flansch 25 an einer Anodenplatte 11 um einen Flansch 26 eines nach unten anschließenden weiteren Gehäuseteiles 20 mittels Schrauben 27 verschraubt. Um eine genaue Ausrichtung des Gefäßes 1, des Anodenringes 11 und des unteren Gehäuseteiles 20 sicherzustellen, können Paßstifte vorgesehen sein. Die Abdichtung zwischen den genannten Teilen erfolgt wiederum durch Ringdichtungen 22 un d 23 · Die an den unteren Gehäuseteil 20 anschließenden und in diesem Gehäuseteil untergebrachten Teile sind in den Fig. nicht dargestellt. Es kann sich dabei beispielsweise um elektronenoptasche Systeme und Vorrichtungen zur Strahlablenkung sowie Bearbeitungsräume handeln.

Die Anodenplatte 11 besitzt Pumpöffnungen l8 und einen mittleren Anodenwulst 10. Unmittelbar unterhalb der Anodenplatte 11 kann an dem vom Gehäuseteil 20 umschlossenen Raum 19 ein (nicht dargestelltes) Blendensystem angebracht sein, das einen Durchtritt von verdampftem Material aus den Bearbeitungsräumen in die Innenräume 14 und 15 des Elektronenstrahl-Erzeugungs-

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systems verhindert. Die Evakuierung des Gefäßes l erfolgt vom Raum 19 bzw. den daran anschließenden Räumen her durch die Anodenöffnung und die Pumpöffnungen 9 und l8.

Wie aus den Fig. 1 und 2 ersichtlich, gliedert das Kathodensystem das Innere des Isolierkörpers 5 in eine hintere Kammer l4 und eine vordere Kammer 15J die hintere Kammer tk kann durch Abnehmen des Deckels 12 geöffnet werden. Durch die entstandene Öffnung können dann Werkzeuge, Kathoden und dergleichen in das Innere des Isolierkörpers 5 und in das Innere der nach oben offenen becherförmigen Wehneltelektrode eingeführt werden*

In den Fig. 1 und 2 ist die elektrische Mitte des Beschleunigungsweges zwischen der Kathode 8 und der Anode 10 durch die gestrichelte Linie 28 angedeutet. Man erkennt, daß bei der in den Figuren gewählten Anordnung diese Linie 28 die Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 etwa auf halbem Weg zwischen dem Tragring 6 und dem Anodenring 11 schneidet, so daß die elektrische Mitte des Beschleunigungsweges etwa der elektrischen Mitte des Kriechweges zwischen dem auf Kochspannung liegenden Tragring 6 und dem im wesentlichen auf Brdpotential liegenden Anodenring 11 radial gegenüberliegt. Die sich auf der Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 im Betrieb ausbildenden Oberflächenpotentiale beeinflussen die Lage_/r^/ des erzeugten Elektronenstrahls. Bei denen in Fig. 1 und 2 dargestellten Ausfuhr ungs formen ist die Ladungsverteilung auf der Fläche 4 im wesentlichen zeitlich konstant, da Kriechpotential und geometrisches Potential übereinstimmt.

Die Zuführung der auf hohem Potential gegen Erde liegenden Betriebsspannungen zum Kathodensystem erfolgt über (nicht dar-

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gestellte) Leitungen, die vorzugsweise den Isolierkörper etwa radial durchsetzen und beispielsweise mittels einer Hochspannungs-Steckkupplung, die am Außenmantel 3 befestigt sein kann, an Versorgungsleitungen angeschlossen sind·

Die in Fig· 2 dargestellte Ausführungsform eines erfindungsgemäßen Elektronenstrahl-Brzeugungssystems unterscheidet sich von der Ausführungsform nach Fig· 1 im wesentlichen dadurch, daß sich an die hintere Kammer Ik nach hinten eine weitere Kammer 21 anschließt, in welcher sich eine Vorrichtung zur Aufnahme von Reservekathoden und zur Beschickung des Strahlerzeugungesystems unter Vakuum befindet· Bei dieser Ausführungsform ist die Öffnung l€ der hinteren Kammer ik offen, und statt des Deckels 12 ist ein Metallring 51 auf die Oberseite des Isolierkörpers 5 aufgesetzt· Dieser Metallring ist durch eine Ringdichtung 57 gegen den Isolierkörper abgedichtet. Das obere Ende des Isolierkörpers 5 ist mit einem Flansch 5k versehen, der mit dem Rand des Metallringes 51 und einem darüber aufgesetzten Flansch 55 der Kammer 21 mittels Schrauben 53 verschraubt ist. Die Kammer 21 ist mittels einer Ringdichtung 56 gegen den Metallring 51 abgedichtet, im wesentlichen zylindrisch geformt und besteht aus einem an den Flansch 55 anschließenden Mantel 58 und einem Deckel 93, Zur Ausrichtung der Teile 5, 51 und 58 aufeinander dienen beispielsweise Paßstifte 52.

Die Vorrichtung zur Aufnahme von Reservekathoden und zur Beschickung des Strahlerzeugungasystems mit Kathoden besteht im wesentlichen aus einer kreisförmigen Magazinscheibe 64, die in einem Lager 63 um eine parallel zur Strahlachse verlaufende Drehachse gelagert ist und mehrere über den Umfang

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verteilte Magazinöffnungen 65 aufweist, in welchen Kathodenhalterungen 32 lösbar befestigt werden können. Der Außenrand der Magazinscheibe 64 ist mit einer Zahnung versehen und steht mit einem Zahnrad 67 in Eingriff, das in dem Lager 62 gelagert ist. Das Zahnrad 67 wird von einem Ritzel angetrieben, das mit der Antriebswelle eines im Raum 21 angeordneten Getriebemotors 69 drehfest verbunden ist. Der Getriebemotor 69 wird von Stützen 70 getragen und ist über Zuleitungen 71 und eine Vakuum-Leitungsdurchführung 72, die in den Deckel 93 eingekittet ist, mit Anschlußklemmen verbunden. In der Mitte des Deckels 93 ist eine Schubstange 77 mit Hilfe einer Wellendichtung 75 vakuumdicht in Strahlrichtung durchgeführt. Die Dichtung 75 sitzt in einem Ring ein und wird von einem Druckglied 74, das mit Schrauben 76 befestigt ist, an Ort und Stelle gehalten und gegen die Schubstange 77 gedrückt. Das untere Ende der Schubstange 77 ist mit einem zu den Verankerungselementen 33 der Kathodenhaiterung passenden Eingriffmittel versehen, beispielsweise mit einem radialen Stift 78, der mit der in den Fig. 1 und 2 dargestellten Bajonettfassung 33 in Eingriff treten kann. Es läßt sich also durch Absenken der Schubstange 77» Eintreten des Stiftes 78 in den Bajonettschlitz 33, Drehung der Schubstange 77 und erneutes Anheben der Schubstange 77 eine in der Wehneltelektrode befindliche Kathodenhaiterung 32 nach oben herausziehen. In Fig. 2 ist dieser Zustand dargestellt. Um dieses Herausziehen durch die Magazinscheibe 64 zu ermöglichen, ist in der Magazinschibe zumindest eine große Öffnung65 vorgesehen, durch welche die Kathodenhaiterung 32 mit Spiel hindurch geht. Nachdem die in Fig. 2 dargestellte Lage erreicht ist, kann durch Einschalten des Getriebemotors 69 die Magazinscheibe 64 so weit gedreht werden, daß eine leere Magazinöffnung 66 genau unterhalb der herausgezogenen Kathodenhaiterung 32 zu liegen kommt. Durch Absinken der Schubstange 77 kann dann diese Kathodenhaiterung

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in die Magazinöffnung eingesetzt und durch gegenseitige Drehung und durch Drehung der Schubstange 77 von der Schubstange gelöst -werden. Danach kann die Schubstange nach oben weggezogen und die Magazinscheibe -64 durch erneutes Einschalten des Getriebemotors 69 so weit gedreht werden, daß eine volle Magazinöffnung 66, z. B. die in Fig. 2 mit der Reserve-Kathodenhalterung 132 gefüllt« Magazinöffnung_/ genau unterhalb der Schubstange 77 zu liegen kommt. Die exakte Ein- und Ausschaltung des Getriebemotors 69 kann mit Hilfe von (nicht dargestellten) Grenzschaltern und ähnlichen bekannten Einrichtungen auch automatisiert werden. Die genau unterhalb der Schubstange 77 liegende Reserve-Kathodenhalterung 132 läßt sich mit Hilfe der Schubstange 77 erfassen und nach oben ziehen. Sodann kann die Magazinscheibe wieder so weit gedreht werden, daß die große Öffnung 65 unterhalb der nach oben gezogenen Reserve-Kathodenhalterung liegt, und es kann die Schubstange 77 nach unten bewegt werden, bis die an ihr befestigte Reserve-Kathodenhalterung in die Wehneltelektrode 7 eingesetzt ist. Durch Drehen kann sodann die Schubstange 77 aus ihrem Eingriff mit der Reserve-Kathodenhalterung gelöst und wieder nach oben bewegt werden. Zur Beobachtung des Wechselvorganges kann im Material 58 oder im Deckel 93 ein Beobachtungsfenster 59 eingesetzt sein. Das Laden und Entladen der Magazinscheibe 64 mit Kathodenhalterungen kann über eine im Deckel 93 vorgesehene Öffnung erfolgen, die durch einen mittels Dichtung 6l vakuumdicht aufsitzenden Deckel 60 verschlossen ist.

Die Bewegungen der Stange 77 beim Kathodenwechsel lassen sich automatisieren und mit den Bewegungen der Magazinscheibe 64 koordinieren. Derartige Vorrichtungen lassen sich in vielfältiger Weise ausführen. In Fig. 2 ist ledig-

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lieh beispielsweise angedeutet, daß ein Mittelabsohnitt der Stange 77 mit (siewinde versehen sein kann; auf diesem Mittelabschnitt sitzt eine Hülse 94, die innen mit einem zum Stangengewinde 79 passenden Gewinde und außen mit einer Zahnung versehen ist * Die äußere Zahnung steht mit einem Schneckenrad 80 eines Getriebemotors 8i in Eingriff* Die Hüls· 94 1st zwischen Anschlägen 95 der Höhe nach unbeweglich gelagert. Die Anschläge 95 und der Motor 8i sind auf einem Lagerbock 86 und einem Gestell 83 befestigt. Das obere Ende der Stange 77 trägt einen Steuerzylinder 84, der mit einer Steuerkurve 85 und Anschlagmitteln 96 versehen ist. Jn die Kurve 85 greift ein (nicht dargestellter) ortsfester Steuerstift ein, und die Anschlagmittel $6 treten in den Bndlagen der Vertikalbewegung der Stange 77 mit Grenzschaltern 82 in Eingriff. Die Steuerkurve 85 verläuft so, daß sich bei der Drehung des Getriebemotors 81 die zum Lösen und Erfassen der Kathodenhaiterungen erforderlichen Schub- und Drehbewegungen der Stange 77 automatisch an den richtigen Stellen und im richtigen Ausmaß ergeb.en. Auf die genaue Ausführung dieser automatischen Steuerung wird hier nicht weiter eingegangen.

Xn Fig. 3 ist schematisch erläutert, daß der Kriechweg auf der Innenfläche 4 des Isolierkörpers 5 in vorbestimmter Weise verändert, beispielsweise durch die Einfügung von Wellen 91 und 92 in der Nähe des Tragringes 6 verlängert sein kann. Durch derartige oder ähnliche Maßnahmen läßt sich erreichen, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche des Isolierkörpers mit den auf dieser Fläche durch die Geometrie der Metallteile bestimmten Potentialen möglichst weitgehend übereinstimmt. Durch diese Maßnahme wird sichergestellt, daß

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gegenseitige Beeinflussungen des Elektronenstrahls und der Ladungsverteilung auf der Fläche 4 auf ein Minimum herabgesetzt wird*

Ändere Ausführungsformen sind möglich.ohne den Rahmen der Erfindung zu verlassen·

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Claims (1)

1. φμλ 1 R 1 A 7 P 1

   Patentansprüche /I $ I- O I η / Q r

   Elektronenstrahl-Erzeugungssystemfür nolie Strahlspannungen, dad. gek.,· daß die hochspannungsführenden Teile des Elektrodensystems von einem Gefäß (1) umgeben sind, dessen Außenfläche (2) von einem geerdeten elektrischen Leiter (3) "bedeckt ist und dessen Innenwände (4) als Isolierkörper (5) ausgebildet sind und die hocnspannungsführenden Teile (6,7,8) mit so kleinem Abstand umgeben, daß zumindest bereichsweise die elektrische Isolierung zwischen den hocnspannungsführenden Teilen und den im wesentlichen auf Erdpotential liegenden Teilen (3,1o,1i) teilweise oder ganz von der elektrischen ' Durchschlagfestigkeit des Isolierkörpers (5) bestimmt ist.

   2. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Ansprucn 1 , dad«,gek. , daß das Gefäß (1) zumindest einen Teil eines Vakuumgehäuses (1,11,12) bildet, das wahlweise geöffnet werden kann.

   3. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 1 oder 2, mit einem zu den hocrispannungsführenden Teilen genörigen Kathodensystem (7,8), dad. gek., daß das Kathodensystem von dem Isolierkörper (5) getragen.wird»

   4-c Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 3> dad.geko, daß dem KatJiodensystfcm die auf rionem Potential gegen Erde befindlichen Betriebsspannungen über -Leitungen zugeführt werden, die den Isolierkörper durchsetzen.

   5. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nacn Anspruch 3 oder 4-, dad. gek. , daß das ICathodensystem (7,8) im Inneren des im wesentliciien iiohlzylindriscn ausgebildeten Isolierkörpers (5) angeordnet ist und dieses Innere in eine in ütrahlrichtung ninter dem Kathodensystem liegende hintere Kammer (14·-) und eine zwischen dem Kathodensystem und der Anode (ίο) liegende vordere Kammer (15) gliedert.

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   6. Elektronenstrahl »-Erzeugungssystem nach Anspruch 5>, dad. gek., daß die hintere Kammer (14) mit mindestens einer verschließbaren Öffnung (16) zum Zuführen von Kathoden, Werkzeug und dergleichen versehen ist.

   Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 5> dad. gek„, daß sich in dem in Strahlrichtung hinter dem Kathodensystem liegenden Raum (21) eine Vorrichtung zur Aufnahme von Beservekathoden (132) und zur automatischen Beschickung des Strahlerζeugungssystems mit Kathoden unter Vakuum befindet.

   8. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 5, dado gek., daß sich an die hintere Kammer (14) eine weitere Kammer (21) anschließt, in welcher sich eine Vorrichtung zur Aufnanme von Seservekathoden (132) und zur Beschickung des Stranlerzeugungssystems mit Katnoden unter Vakuum befindet.

   9. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach Anspruch 6 oder 7» dad. gek., daß die Öffnung (16) sowoiril vakuumdicht als auch nochspannungsdicrit verschließbar ist.

   Ιο«, Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der .Ansprüche 1-9> dad. gek., daß die elektrische Mitte des Kriechweges auf der dem Elektrodensystem zugewandten Fläcne des Isolierkörpers (5) der elektrischen Mitte (28) der Bescnleunigungsstrek-

   ' ■ ke etwa gegenüberliegt.

   11. Elektronenstrahl-Erzeugungssystem nach einem der Ansprüche 1-1o, dad. gek., daß der Isolierkörper (5) derart geformt ist, daß die vom Kriechweg bestimmten Oberflächenpotentiale der dem Elektrodensystem zugewandten Fläche (4) des Isolierkörpers mit den auf dieser Fläche durch die Geometrie der Metallteile (3>7,1o₎11) bestimmten Potentialen möglicnst weitgehend übereinstimmt.

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   1.2» Elektronenstrahl-Efczeugungssystem nach einem der Ansprüche 1-11, dad. gek*, daß die im Isolierkörper (5) gelagerten und sich im Betrieb erwärmenden Metallteile (6) eine so große Berührtmgsflache mit dem Isolierkörper haben, daß der Isolierkörper die ihm aus den Metallteilen zufließenden Wärmeströme zu auf Erdpotential^liegenden Teilen (5,11) abführen kann» ohne daß die Berührungsstellen zwischen den Metallteilen und dem Isolierkörper sich auf eine Temperatur erwärmen, die dem Isolier* material, aus dem der Isolierkörper besteht, schädlich sind«

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