DE1278022B - Verfahren zur Herstellung einer hochschmelzenden nichtsperrenden Legierungselektrodeoder einer hochschmelzenden nichtsperrenden Lotverbindung - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer hochschmelzenden nichtsperrenden Legierungselektrodeoder einer hochschmelzenden nichtsperrenden Lotverbindung

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DE1278022B
DE1278022B DE1963T0024486 DET0024486A DE1278022B DE 1278022 B DE1278022 B DE 1278022B DE 1963T0024486 DE1963T0024486 DE 1963T0024486 DE T0024486 A DET0024486 A DE T0024486A DE 1278022 B DE1278022 B DE 1278022B
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Dr Dieter Gerstner
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Telefunken Patentverwertungs GmbH
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Telefunken Patentverwertungs GmbH
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    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
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    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
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Description

BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
HOIl
Deutsche KI.: 21g-11/02
Nummer: 1278 022
Aktenzeichen: P 12 78 022.2-33 (T 24486)
Anmeldetag: 14. August 1963
Auslegetag: 19. September 1968
Bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen muß man häufig die Feststellung machen, daß bei Verwendung von Legierungselektroden oder Loten das Eutektikum aus dem Legierungsmaterial oder Lot mit dem Halbleitermaterial bei verhältnismäßig niederer Temperatur schmilzt. Die Anwendung von Legierungsmaterialien oder Loten, deren Eutektikum mit dem Material des Halbleitergrundkörpers eine niedrige Schmelztemperatur aufweist, hat den Nachteil, daß beim weiteren Aufbau des Halbleiterbauelements, wie z. B. beim Anlöten der Zuleitungsdrähte oder beim Zuschmelzen des Gehäuses, Schwierigkeiten auftreten können, die auf die höheren Temperaturen bei den auf das Legieren oder Löten folgenden Wärmebehandlungen zurückzuführen sind. Durch nachfolgende Wärmebehandlungen mit relativ hohen Temperaturen kann das Legierungsmaterial bzw. das Lot wieder flüssig werden, so daß Kurzschlüsse entsethen oder der in das Eutektikum eingebrachte Zuleitungsdraht bzw. die Grundplatte wieder gelöst so werden.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren anzugeben, welches diese Nachteile nicht aufweist. Die Erfindung besteht darin, daß zur Vermeidung eines Wiederaufschmelzens bei einer auf das Legieren oder Löten folgenden Wärmebehandlung ein eine Schmelzpunkterhöhung bewirkender Stoff während oder nach dem Legieren oder Löten mit dem Legierungsmaterial oder Lot in Berührung gebracht und mit diesem zusammen zur Erzielung eines höheren Schmelzpunktes erwärmt wird.
Es ist bereits ein Verfahren bekannt, bei dem Legierungsmaterial ebenfalls auf einen Stoff gegeben wird, der unter Umständen den Schmelzpunkt des Legierungsmaterials erhöht. Die Zugabe des Stoffes erfolgt bei dem bekannten Verfahren jedoch aus einem anderen Grund, und zwar sollen durch die Stoffzugaben die Sperreigenschaften des pn-Überganges beeinflußt werden. Im Gegensatz dazu handelt es sich bei der Erfindung nicht um die Herstellung von sperrenden Elektroden, sondern um die Herstellung von nichtsperrenden Elektroden, bei denen durch die Stoffzugabe keine Sperreigenschaften beeinflußt werden. Bei einem weiteren bekannten Verfahren wird die Haftfestigkeit von Aluminiumelektroden durch entsprechende Stoffzugaben erhöht.
Der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff kann gemäß der Erfindung während des Legierens oder nach dem Legieren mit dem Legierungsmaterial zusammengebracht werden. Der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff wird beispielsweise auf die Verfahren zur Herstellung einer
hochschmelzenden nichtsperrenden
Legierungselektrode oder einer
hochschmelzenden nichtsperrenden
Lotverbindung
Anmelder:
Telefunken
Patentverwertungsgesellschaft m. b. H.,
7900 Ulm, Elisabethenstr. 3
Als Erfinder benannt:
Dr. Dieter Gerstner, 7104 Willsbach
Oberfläche der Legierungspille aufgebracht oder in eine Vertiefung der Legierungspille eingeführt.
Es besteht auch die Möglichkeit, den die Schmelzpunkterhöhung bewirkenden Stoff in Gestalt eines Legierungsdrahtes in die legierte Pille einzubringen oder bei Verwendung von Elektrodenzuleitungen ihn als Überzug auf die Elektrodenzuleitung aufzubringen.
Die Schmelztemperatur des die Schmelzpunkterhöhung bewirkenden Stoffes wird vorzugsweise so gewählt, daß sie über der Schmelztemperatur des Legierungsmaterials oder Lotes liegt. Der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff und das Legierungsmaterial oder Lot werden zur Schmelzpunkterhöhung auf eine Temperatur gebracht, die unterhalb der Schmelztemperatur des die Schmelzpunkterhöhung bewirkenden Stoffes liegt.
Handelt es sich um das Auflöten eines Halbleiterkörpers auf einen Grundkörper, so wird der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff auf den Grundkörper vor oder gleichzeitig mit dem Auflöten aufgebracht.
Als Schmelzpunkterhöhung bewirkender Stoff wird beispielsweise eines der Elemente Gold, Silber oder Kupfer oder eine Mischung zweier oder sämtlicher dieser Elemente verwendet. Die Erfindung eignet sich vorzugsweise zur Schmelzpunkterhöhung einer Indium-Gallium-Legierung oder eines Indium-Gallium-Lotes.
Die Erfindung wird im folgenden an einem Ausführungsbeispiel erläutert.
Die Fig. 1 und 2 erläutern die Anwendung der Erfindung auf die Aushärtung eines Lotes, welches zur Herstellung einer sperrschichtfreien Lötverbin-
809 617/431
dung zwischen dem Halbleiterkörper 1 und dem Gehäusesockel 2 dient. Im Gegensatz zu bekannten Verfahren ist gemäß der Erfindung beim Auflöten eines p-leitenden Halbleiterkörpers 1 auf den Gehäusesockel! neben dem aus Indium bestehenden Lot 3 noch zusätzlich eine Goldschicht 4 vorgesehen, die in Analogie zum Aushärten des Legierungsmaterials ein Aushärten des Lotes 3 bewirkt. Das Aushärten des Lotes erfolgt beim Ausführungsbeispiel der Fig. 2 gleichzeitig mit der Herstellung der sperrschichtfreien Lötverbindung zwischen Halbleiterkörper 1 und dem Gehäusesockel 2. Die F i g. 2 zeigt das Halbleitersystem der F i g. 1 nach Beendigung des Lötprozesses, durch den das Indium-Lot gleichzeitig in eine hochschmelzende Verbindung 5 übergeführt worden ist.

Claims (10)

Patentansprüche:
1. Verfahren zum Herstellen einer hochschmelzenden nichtsperrenden Legierungselektrode oder einer hochschmelzenden nichtsperrenden Lotverbindung bei Halbleiteranordnungen, dadurch gekennzeichnet, daß zur Vermeidung eines Wiederaufschmelzens bei einer auf das Legieren oder Löten folgenden Wärmebehandlung ein eine Schmelzpunkterhöhung bewirkender Stoff während oder nach dem Legieren oder Löten mit dem Legierungsmaterial oder Lot in Berührung gebracht und mit diesem zusammen zur Erzielung eines höheren Schmelzpunktes erwärmt wird.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff auf die Oberfläche der Legierungspille aufgebracht wird.
3. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff in eine Vertiefung der Legierungspille eingebracht wird.
4. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff in Gestalt des Legierungsdrahtes in die legierte Pille eingebracht wird.
5. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß beim Herstellen einer Legierungselektrode der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff als Überzug auf die Elektrodenzuleitungen aufgebracht und zusammen mit den Elektrodenzuleitungen in die legierte Pille eingebracht wird.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Schmelztemperatur des die Schmelzpunkterhöhung bewirkenden Stoffes über der Schmelztemperatur des Legierungsmaterials oder Lotes liegt und daß dann der Stoff und die Legierungsmaterialschmelze oder das flüssige Lot zur Schmelzpunkterhöhung auf eine Temperatur gebracht werden, die unterhalb der Schmelztemperatur des die Schmelzpunkterhöhung bewirkenden Stoffes liegt.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff beim Auflöten des Halbleiterkörpers auf einen Grundkörper auf diesen vor dem Auflöten aufgebracht wird.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß der die Schmelzpunkterhöhung bewirkende Stoff auf einen der Befestigung des Halbleiterkörpers dienenden Gehäusefuß aufgebracht wird.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß als den Schmelzpunkt erhöhender Stoff eines der Elemente Gold, Silber oder Kupfer oder eine Mischung zweier oder aller dieser Elemente verwendet wird.
10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, gekennzeichnet durch die Anwendung zur Schmelzpunkterhöhung einer Indium-Gallium-Legierung oder eines Indium-Gallium-Lotes.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Österreichische Patentschriften Nr. 211 872,
712.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
809 617/431 9.68 © Bundesdruckerei Berlin
DE1963T0024486 1963-08-14 1963-08-14 Verfahren zur Herstellung einer hochschmelzenden nichtsperrenden Legierungselektrodeoder einer hochschmelzenden nichtsperrenden Lotverbindung Withdrawn DE1278022B (de)

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Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT211872B (de) * 1958-01-14 1960-11-10 Philips Nv Verfahren zum Herstellen halbleitender Elektrodensysteme
AT219712B (de) * 1958-12-18 1962-02-12 Bosch Gmbh Robert Stromleiter mit stark gekrümmter Stromspannungskennlinie

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AT211872B (de) * 1958-01-14 1960-11-10 Philips Nv Verfahren zum Herstellen halbleitender Elektrodensysteme
AT219712B (de) * 1958-12-18 1962-02-12 Bosch Gmbh Robert Stromleiter mit stark gekrümmter Stromspannungskennlinie

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