DE1262101C2 - Tiegel fuer die verdampfung von stoffen im vakuum mittels elektronenstrahlen, insbesondere zur bandbedampfung - Google Patents
Tiegel fuer die verdampfung von stoffen im vakuum mittels elektronenstrahlen, insbesondere zur bandbedampfungInfo
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Description
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Tiegels überhaupt erst die in den Unteranspriichen Temperatur des Kühlmittels 3. Dadurch ist einerseits
präzisierten Ausführungsformen, mit welchen weitere eine gute Wärmeableitung vom Verdampfungsgut 6
erhebliche Vorteile erzielt werden können. und also eine gleichmäßige Verdampfung gewährin den F i g. 1 bis 3 sind drei Ausführungsbeispiele leistet. Andererseits werden alle chemischen Reakvon erfindungsgemäß ausgebildeten Tiegeln dar- 5 tionen sicher ausgeschlossen, die bei Erwärmung
gestellt, welche sich als besonders vorteilhaft zur zwischen dem Verdampfungsgut 6 und dem Material
Lösung der gestellten Aufgabe erwiesen haben. der Wand 1 eintreten könnten.
Die Fig.l zeigt einen Verdampfungstiegel oder Da der obere Rand 7 des Tiegels ebenfalls gekühlt
ein Verdampfungsschiffchen, das aus einer inneren wird, wird als weiterer Vorteil auch weitestgehend
Wand 1 und einer äußeren Wand 2 besteht. Zwischen l0 vermieden, daß bei Dejustierung des Elektroaenihnen befindet sich das Kühlmittel 3, das durch das strahlbündels 8 und seinem Auftreffen auf den Rand 7
Rohr4 zu- und durch das Rohr 5 abgeführt wird. eine Verunreinigung der aufgedampften Schichten
Int Inneren befindet sich das Verdampfungsgut 6, das eintreten kann. Denn bei der recht guten Wärmemittels des Elektronenstrahls 8 erhitzt und ver- ableitung eines gekühlten Tiegelrandes kann ein
dampft wird. Zur besseren Kühlung können in be- 1S Elektronenstrahl das Material des Randes 7 praktisch,
konnter Weise Leitbleche für das Kühlmittel vor- nicht verJampfen.
gesehen sein. Als Tiegelmaterial· dienen ii. bekannter Weise
teilen. Die Grenzfläche zwischen dem Veruampfungs- wie Edelstahl, Stahl, Gußeisen, Quarzgut, Glas,
gut 6 und der inneren Wand 1 befindet sich auf der »0 Quarzglas können dafür benutzt werden.
Claims (4)
1. Kühlbarer Tiegel für das Verdampfen von Ähnliches tritt auch bei der Verdampfung mittels
Stoffen im Vakuum mittels Elektronenstrahlen, 5 Elektronenstrahlen auf. Hier ist zwar die äußere
insbesondere zur Bandbedampfung, dadurch Oberfläche des Verdampfungsschiffchens anfangs auf
gekennzeichnet, daß er doppelwandig ge- Zimmertemperatur und wird nicht beheizt (wie bei
staltet und mit einer Zuleitung (4) und Ablei- der vorhergehend besprochenen Widerstandserhittung(5)
für das zwischen den Wänden des Tiegels zung); beim Verdampfen steigt jedoch seine Tempefiießende
Kühlmittel versehen ist. io ratur an, da dem in ihm befindlichen Verdampfungs-
2. Tiegel nach Anspruch 1, dadurch gekenn- gut ständig Wärme zugeführt wird. Dadurch steigt
zeichnet, daß seine innere Wandung (9) verstärkt auch die Verdampfungsrate an und muß eventuell
ausgebildet ist und die Wandstärke vom oberen zurückgeregelt werden. Außerdem erreicht die Tem-Rand
(7) zur Bodenfläche zu zunimmt. peratur der Grenzfläche zwischen Verdampfungsgut
3. Tiegel nach Anspruch 2, dadurch gekenn- i« un(j dem nicht direkt beheizten, also kühlen Tiegel
zeichnet, daß sich die Randwandstärken (7) der hohe Werte, die über der Schmelztemperatur des
inneren Wandung zu den Bodenwandstärken (9) Verdampfungsgutes liegen, so daß schädliche Reakwie
1:3 bis 1:5 verhalten. tionen auftreten können.
4. Tiegel nach Anspruch 1 bis 3, dadurch ge- Aus der britischen Patentschrift 754102 ist das
kennzeichnet, daß bei langgestreckter Ausfüh- ao Verdampfen von Metall, insbesondere von Alumirung
die innere Wandung (10) an den Tiegel- nium>
durch Elektronenbombardement unter Vakuum enden gegenüber dem mittleren Teil (10) ver- bekannt. Der das zu verdampfende Aluminium entstärkt
ausgebildet ist (Fig. 3). haltende Tiegel aus keramischem oder feuerfestem
Werkstoff ist in einen der Tiegelform entsprechend
as ausgesparten Kupferblock eingesetzt, dessen Basisteil
als Kupfervollkörper ausgebildet ist. Die Höhe dieses
Vollkörperbasisteiles entspricht etwa der Tiegelhöhe.
Eine Kühlrohrschlange ist um den Basisteil ange-
Zur Verdampfung im Vakuum werden vielfach ordnet, um den Tiegel auf einer solchen Temperatur
Tiegel benutzt, die infolge der größeren, in ihnen 30 zu halten, daß das Aluminium nicht durch die Poren
enthaltenen Menge an Verdampfungsgut große Char- des Tiegelwerkstoffes hindurchdringen oder mit dem
gen, z. B. graue Bandlängen, zu bedecken gestatten, Tiegelwerkstoff reagieren kann,
ohne daß Verdampfungsgut nachgeliefert werden Aus der USA.-Patentschrift 3 046 936 ist ebenfalls
ohne daß Verdampfungsgut nachgeliefert werden Aus der USA.-Patentschrift 3 046 936 ist ebenfalls
muß. Dies hat den Verteil, daß kein besonderer das Verdampfen von Aluminium unter Vakuum
Mechanismus zur Nachlieferung notwendig ist; der 35 durch Elektronenbombardement bekannt. Der Tiegel,
Aufbau der Bedampfungsanlage wird einfacher. aus welchem das Aluminium verdampft wird, ist
Diese Tiegel werden im allgemeinen mittels direkten mit einer Kühlrohrschlange umgeben, damit das mit
Stromdurchgangs erhitzt. In letzter Zeit ist auch die der Tiegelinnenwand in Berührung befindliche Alu-Erhitzung
mittels Elektronenstrahlen schon öfter minium entweder in festem Aggrsgatzustand vorliegt
benutzt worden. Sie hat den Vorteil, daß gewisse 40 oder eine solche niedrige Temperatur aufweist, daß
Stoffe, die sich wie z. B. SiO2 bei langsamer Erhit- es nur in vernachlässigbarem Umfang mit dem Tiegel
zung zersetzen- (im Beispiel· in SiO + O), bei der reagiert.
schnellen und starken örtlichen Erhitzung mittels Bekannt 1st es, auf dem Gebiet des Elektronen-Elektronenstrahlen
unzersetzt in die Dampfphase strahlschmelzens wassergekühlte Kupfertiegel zu verübergehen.
Es sind auch Vorschläge gemacht wor- 45 wenden (Zeitschrift für »Metallkunde«, 1961, S. 294).
den, die Elektronenstrahlen in sogenannten Flach- Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, beim
Strahlkanonen (»transverse guns«) zu erzeugen. Sie Verdampfen von Stoffen im Vakuum mittels Elekergeben
ein flaches ElektronenstrahlbUndel von einer tronenstrahlcn durch die Ausgestaltung des Verfast
beliebigen, recht großen Strahlbreite, dessen dampfungstiegels eine möglichst konstante Verdamp-Form
besser geeignet ist als die sonst üblichen zylin- jo fungsrate zu erreichen, unter gleichzeitiger Vermeidrischen
Strahlbündel, um aus den üblichen lang- dung von schädlichen Reak'.ionen des zu verdampfengestreckten
Schiffchen Stoffe zu verdampfen. den Stoffes mit dem Tiegelwerkstoff.
Bei der Vakuumbedampfung ist es besonders Diese Aufgabe wird in überraschend einfacher
wichtig, die verdampfte Menge pro Zeiteinheit zu Weise durch einen kühlbaren Tiegel für das Verkennen
und diese z.B, bei der Bedampfung von as dampfen von Stoffen Im Vakuum mittels Elektronen-Bändern
konstant zu halten. Bei widerstandsbeheiz- strahlen erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß er
ten Schiffchen stellt sich eine gewisse Temperatur doppelwandig gestaltet und mit einer Zuleitung und
ein, die sich aus dem Uleichgewicht zwischen der Ableitung für das zwischen den Wänden des Tiegels
zugeführten Wärmemenge einerseits und der Ver- fließende Kühlmittel verseher, ist. Durch diese erfindampfungswärme
sowie der Bestrählungsenergie 60 dungsgemäße Ausführungsform des kühlbaren Tieandererseits
ergibt. Wenn sich die Abstrahlung gels ist nicht nur eine bessere Kühlung — und damit
infolge Änderung der Oberflächeneigenschaften des weitgehende Konstanthaltung der Tiegeltcmperatur —
Schiffchenmatcrials und des Verdampfungsgutes gewährleistet als bei Verwendung einer nur din
ändert und die eventuell noch vorhandene elektrische Ticgelboden oder den Tiegel umgebenden Kühlrohr-Lcitfähigkeit
des Verdampfungsgutes durch Ände- 65 schlange, sondern es werden darüber hinaus noch
rung der Geometrie (Füllung des Verdampfers, Hin- weitere, in den nachstehenden Figurenbeschreibungen
und Herlaufen des Verdampfungsgutes im Schiffchen angegebene Vorteile erzielt. Insbesondere ermöglicht
usw.) schwankt, ändert sich auch das obige Gleich- die erfindungsgemäße Ausbildung des kühlbarcn
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19621262101 DE1262101C2 (de) | 1962-12-15 | 1962-12-15 | Tiegel fuer die verdampfung von stoffen im vakuum mittels elektronenstrahlen, insbesondere zur bandbedampfung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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DE19621262101 DE1262101C2 (de) | 1962-12-15 | 1962-12-15 | Tiegel fuer die verdampfung von stoffen im vakuum mittels elektronenstrahlen, insbesondere zur bandbedampfung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1262101B DE1262101B (de) | 1973-10-25 |
DE1262101C2 true DE1262101C2 (de) | 1973-10-25 |
Family
ID=5659032
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19621262101 Expired DE1262101C2 (de) | 1962-12-15 | 1962-12-15 | Tiegel fuer die verdampfung von stoffen im vakuum mittels elektronenstrahlen, insbesondere zur bandbedampfung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1262101C2 (de) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3228311C2 (de) * | 1982-07-29 | 1984-07-05 | Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln | Verdampfertiegel für Vakuum-Aufdampfanlagen |
Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB754102A (en) * | 1951-06-22 | 1956-08-01 | Edwards & Co London Ltd W | Improvements in or relating to a method and apparatus for vapourising materials, forexample, metal in vacuum |
US3046936A (en) * | 1958-06-04 | 1962-07-31 | Nat Res Corp | Improvement in vacuum coating apparatus comprising an ion trap for the electron gun thereof |
-
1962
- 1962-12-15 DE DE19621262101 patent/DE1262101C2/de not_active Expired
Patent Citations (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB754102A (en) * | 1951-06-22 | 1956-08-01 | Edwards & Co London Ltd W | Improvements in or relating to a method and apparatus for vapourising materials, forexample, metal in vacuum |
US3046936A (en) * | 1958-06-04 | 1962-07-31 | Nat Res Corp | Improvement in vacuum coating apparatus comprising an ion trap for the electron gun thereof |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE1262101B (de) | 1973-10-25 |
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