DE1248166B - Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten - Google Patents

Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten

Info

Publication number
DE1248166B
DE1248166B DE1964N0025267 DEN0025267A DE1248166B DE 1248166 B DE1248166 B DE 1248166B DE 1964N0025267 DE1964N0025267 DE 1964N0025267 DE N0025267 A DEN0025267 A DE N0025267A DE 1248166 B DE1248166 B DE 1248166B
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
semiconductor
semiconductor body
bodies
alloy
contacts
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
DE1964N0025267
Other languages
English (en)
Inventor
Raymond Coulon
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
Priority to DE1964N0025267 priority Critical patent/DE1248166B/de
Publication of DE1248166B publication Critical patent/DE1248166B/de
Pending legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/04Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer
    • H01L21/18Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof the devices having potential barriers, e.g. a PN junction, depletion layer or carrier concentration layer the devices having semiconductor bodies comprising elements of Group IV of the Periodic Table or AIIIBV compounds with or without impurities, e.g. doping materials
    • H01L21/24Alloying of impurity materials, e.g. doping materials, electrode materials, with a semiconductor body

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)

Description

BUNDESKEPUBLIK DEUTSCHLAND
DEUTSCHES
PATENTAMT
AUSLEGESCHRIFT
Int. Cl.:
HOIl
Deutsche Kl.: 21 g -11/02
Nummer: 1 248 166
Aktenzeichen: N 25267 VIII c/21 g
Anmeldetag: 17. Juli 1964
Auslegetag: 24. August 1967
Die Erfindung bezieht sich auf eine Mehrfachlegierform zum gleichzeitigen Auflegieren von Kontakten auf mehrere Halbleiterkörper, in der mehrere Aufnahmeräume für je einen Halbleiterkörper ausgespart und in diese Räume mündende Bohrungen für das aufzulegierende Kontaktmaterial angeordnet sind. Solche Legierformen können bei der Herstellung von Halbleiterbauelementen, wie Transistoren und Dioden, mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten Verwendung finden. Zum Auflegieren eines derartigen Kontaktes auf einen Halbleiterkörper wird im allgemeinen ein Kügelchen oder Körnchen des aufzulegierenden Kontaktmaterials auf dem Halbleiterkörper angeordnet und das Ganze auf eine Temperatur unterhalb des Schmelzpunktes des Halbleitermaterial und oberhalb der eutektischen Temperatur von Kontakt- und Halbleitermaterial erhitzt. Dabei bildet sich eine Legierungsschmelze, indem sich ein Teil des darunterliegenden Halbleitermaterials löst, so daß die Schmelze bis zu einer gewissen Tiefe in den Halbleiterkörper eindringt.
Für das herzustellende Halbleiterbauelement ist es bekanntlich im allgemeinen wichtig, daß das Kontaktmaterial genau auf der Oberfläche des Halbleiterkörpers lokalisiert wird und die Legierungsschmelze einen bestimmten Flächenteil des Halbleiterkörpers beansprucht und eine bestimmte Eindringtiefe hat. Zu diesem Zweck kann eine Legierform Verwendung finden, in der ein Aufnahmeraum für den Halbleiterkörper ausgespart ist und eine oder mehrere in diesen Raum mündende Bohrungen für das aufzulegierende Kontaktmaterial angeordnet sind.
Bei der Massenherstellung von Halbleiterbauelementen mit legierten Kontakten finden häufig sogenannte Mehrfachlegierformen Verwendung, d. h. Legierformen zum Herstellen mehrerer Halbleiterbauelemente durch gleichzeitiges Auflegieren von Kontakten auf mehrere Halbleiterkörper, und die Erfindung bezieht sich auf eine derartige Mehrfachlegierform.
Der Aufnahmeraum für jeden Halbleiterkörper in einer solchen Form muß so bemessen sein, daß der Halbleiterkörper genau in ihn paßt, und die Bohrung muß so angebracht und bemessen sein, daß die geschmolzene Legierung an einer genau bestimmten Stelle auf der Oberfläche des Halbleiterkörpers gebildet wird, wobei die Wände der Bohrung in der Form verhindern müssen, daß die Schmelze über diese Wände hinaus über die Halbleiteroberfläche ausfließt. Zu diesem Zweck muß auch dafür gesorgt werden, daß rings um die Bohrung die Wand des Aufnahmeraumes für den Halbleiterkörper an die .Mehrfachlegierform zum Herstellen von
Halbleiterbauelementen mit einem oder
mehreren auflegierten Kontakten
Anmelder:
N. V. Philips' Gloeilampenfabrieken,
Eindhoven (Niederlande)
Vertreter:
Dipl.-Ing. E. E. Walther, Patentanwalt,
Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Als Erfinder benannt:
Raymond Coulon,
Herouville-St.-Clair (Frankreich)
Oberfläche des Halbleiterkörpers möglichst gut anschließt, damit die Schmelze nicht zwischen diese Wand und den Halbleiterkörper fließen kann.
Bei der üblichen Verwendung von Halbleiterkörpern in Form dünner Scheiben mit einheitlichen Abmessungen, bei denen Legierungskontakte auf einer oder beiden der ebenen Seiten angebracht werden müssen, müssen die Begrenzungsflächen der Aufnahmeräume möglichst eben sein. Die Seitenwände der Aufnahmeräume müssen weiter derartig sein, daß eine seitliche Verschiebung der Halbleiterscheiben verhindert wird.
Gemäß einer bekannten Bauart ist eine derartige Mehrfachlegierform aus zwei Teilen zusammengesetzt, deren ebene Seiten einander zugekehrt sind, wobei in der ebenen Seite zumindest eines dieser Teile Aussparungen für die Halbleiterkörper angebracht sind und in jede dieser Aussparungen eine oder mehrere Bohrungen für das aufzulegierende Kontaktmaterial münden.
Eine Schwierigkeit dabei ist, einer solchen Aussparung, die verhältnismäßig kleine Abmessungen haben kann, genau die erforderliche Tiefe und einen genau ebenen Boden zu geben. Zu diesem Zweck sind schwierige mechanische Bearbeitungen erforderlich, die die Herstellung einer solchen Form teuer machen.
Diese Nachteile gelten auch für eine weitere bekannte dreiteilige Legierform, die nur die Behand-
709 638/424
3 4
lung eines Halbleiterkörpers zur Zeit gestattet. Bei legieren von Kontakten auf nur eine Seite der HaIb-
dieser Form liegt der Halbleiterkörper in einer Aus- leiterkörper Anwendung finden.
sparung des mittleren Formteiles, durch den äußere Die Erfindung wird nachstehend an Hand der
Formteile so geführt werden, daß Bohrungen für das Zeichnung näher erläutert.
aufzulegierende Kontaktmaterial in diesen Formteilen 5 F i g. 1 ist eine Seitenansicht eines mit zwei auf-
über dem Halbleiterkörper münden. legierten Kontakten versehenen Halbleiterkörpers;
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine F i g. 2 zeigt in senkrechtem Schnitt einen Teil
Mehrfachlegierform zu schaffen, die die genannten einer zweiteiligen Mehrfachlegierform bekannter
Nachteile nicht aufweist. Bauart;
Diese Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch io F i g. 3 ist ein senkrechter Schnitt durch eine dreieine Legierform zum gleichzeitigen Auflegieren von teilige Legierform gemäß der Erfindung, wobei Kontakten auf mehrere Halbleiterkörper, in der meh- F i g. 3 a eine Einzelheit zeigt;
rere Aufnahmeräume für einen Halbleiterkörper aus- Fig. 4 ist eine Draufsicht auf die in Fig. 3a dargespart und in diese Räume mündende Bohrungen gestellte Einzelheit, wobei der obere Teil der Form für das aufzulegierende Kontaktmaterial vorgesehen 15 teilweise entfernt ist;
sind, die dadurch gekennzeichnet ist, daß die Form Fig. 5 und 6 sind eine Draufsicht auf bzw. ein
drei Körper umfaßt, und zwar zwei Körper, deren senkrechter Schnitt durch den mittleren Teil der
einander zugekehrte ebene Seiten mit der gleichen Form nach Fig. 3;
Zahl vorspringender Teile mit in einer Ebene liegen- F i g. 7 und 8 sind ein senkrechter Schnitt bzw.
den Anlageflächen für die Ober- und Unterseite der 20 eine Untenansicht des oberen Teiles der Form nach
Halbleiterkörper versehen sind, sowie einen zwischen F i g. 3.
den genannten Körpern liegenden plattenförmigen In Fig. 1 ist ein Halbleiterkörper 1, der z.B. aus Körper mit durchgehenden Öffnungen, in die die η-leitendem Germanium besteht, an der Oberseite vorspringenden Teile passen und deren Wände die mit einem auflegierten Kontakt 2 und an der Unter-Seitenwände der Aufriahmeräume für die Halbleiter- 25 seite mit einem etwas größeren auflegierten Kontakt 3 körper bilden. versehen. Die Kontakte 2 und 3 sind z. B. durch'
Durch die Verwendung vorspringender Teile zum Auflegieren von Indiumkügelchen bei 550° C her-Begrenzen der Ober- und Unterseite der Aufnahme- gestellt, wodurch gleichrichtende Übergänge mit dem räume sind die Anlageflächen leichter zu bearbeiten η-leitenden Germanium gebildet sind. Der Körper 1 und zu polieren, wodurch eine genaue Passung mit 30 mit den Kontakten 2 und 3 kann als Transistor Verden ebenen Seiten der Halbleiterkörper möglich ist. wendung finden, wobei der Kontakt 2 die Emitter-Die Öffnungen im dazwischenliegenden Körper kön- elektrode und der Kontakt 3 die Kollektorelektrode nen leicht mit sehr engen Toleranzen hergestellt wer- bildet. Für die Massenherstellung von Transistoren den. Dadurch, daß die Anlageflächen der vorsprin- ist es wichtig, daß die Kontakte koaxial zueinander genden Teile in einer Ebene liegen, ist es möglich, 35 liegen und daß die von jedem Kontakt eingenommene jeden dieser beiden Körper aus einer Platte mit einer Fläche des Halbleiterkörpers eine bestimmte Größe völlig ebenen Seite herzustellen und die Anlageflächen hat.
auf einfache Weise in einem einzigen Arbeitsgang zu F i g. 2 zeigt einen Teil einer Mehrfachlegierform
polieren. bekannter Bauart, mit der ein Halbleiterkörper mit
Insbesondere um eine genaue Passung der vor- 4° Legierungskontakten versehen werden kann, wie dies
stehenden Teile und der Halbleiterkörper in die Öff- in Fig. 1 dargestellt ist. Die Form besteht z. B. aus
nungen zu gewährleisten, sind die vorstehenden Teile Graphit. Diese Form hat zwei Teile, einen Grund-
und die Öffnungen vorzugsweise zylindrisch ausgebil- körper 10 und einen Deckel 11, zwischen denen sich
det, wodurch bei der Herstellung der Legierform ver- als Aufnahmeräume für die Halbleiterkörper die-
hältnismäßig einfache, mechanische Bearbeitungen 45 nende Aussparungen 13 befinden, die je einen HaIb-
Anwendung finden können. In diese Legierform las- leiterkörper 1 enthalten können. Die Grundkörper
sen sich sowohl zylindrische als auch quadratische 10 und 11 enthalten zueinander koaxiale Bohrun-
Halbleiterplatten genau einpassen. gen 3' bzw. 2', die in die Aussparungen 13 münden
Dadurch, daß die Legierform gemäß der Erfin- und zum Anbringen des aufzulegierenden Kontaktdung genau anschließende Paßflächen beiderseits der 5° materials zum Herstellen der Kontakte 3 bzw. 2 diezu behandelnden Halbleiterkörper hat, eignet sie nen (s. Fig. 1). Man kann z. B. zunächst das Matesich insbesondere zur Verwendung beim Auflegieren rial für den Kontakt 2 und nach Umkehren der von Kontakten auf zwei einander gegenüberliegenden Form das Material für den Kontakt 3 auflegieren, Seiten jedes Halbleiterkörpers, wie dies z. B. beim wobei das Kontaktmaterial in Form von Kügelchen Herstellen sogenannter Legierungstransistoren mit 55 in den Öffnungen 2'bzw. 3'angebracht wird,
beiderseits des Halbleiterkörpers auflegiertem Emit- Eine derartige bekannte Form, wie sie in F i g. 2 ter- und Kollektorkontakt Anwendung findet. Bei dargestellt ist, ist schwer mit der erforderlichen hohen solchen Legierungstransistoren werden die elektri- Genauigkeit herstellbar. Es ist z. B. schwierig, mit sehen Eigenschaften unter anderem durch die Ein- mechanischen Mitteln den Vertiefungen im Körper dringtiefe der Schmelze jedes Kontaktes, die Abmes- 60 10, die häufig sehr kleine Abmessungen haben müssungen jedes Kontaktes und eine genaue koaxiale sen, genau die erforderliche Gestalt und insbesondere Lage der einander gegenüberliegenden Kontakte be- einen genau eben polierten Boden als Paßfläche für stimmt. Zu diesem Zweck können in den vorsprin- die Unterseite des Halbleiterkörpers 1 zu geben. Im genden Teilen beiderseits der Aufnahmeräume für allgemeinen weist eine solche Bodenfläche Unregeldie Halbleiterkörper; Bohrungen für das aufzulegie- 65 mäßigkeiten auf, so daß sich eine schlechte Passung rende Kontaktmaterial angebracht sein. Die Erfin- zwischen dieser Fläche und der Unterseite des Halbdung ist jedoch nicht auf eine solche Form be- leiterkörpers ergibt, wodurch beim Legierverfahren schränkt, sondern kann auch mit Vorteil zum Auf- die geschmolzene Legierung zwischen der Form und
dem Halbleiterkörper außerhalb der Bohrung 3' ausfließen kann und damit bei Verwendung der Form für die Massenherstellung von Halbleitervorrichtungen eine weniger gute Reproduzierbarkeit und viel Ausschuß auftreten können.
Die in F i g. 3 dargestellte Legierform enthält drei Körper, und zwar einen Grundkörper 10, einen oberen Körper oder Deckel 11 und einen dazwischenliegenden plattenförmigen Körper oder ein Gitter 12. Sie können auf bekannte Weise aus Graphit oder einem anderen feuerfesten Material bestehen, das vom geschmolzenen Kontaktmaterial nicht benetzt wird. Die Oberseite des Körpers 10 und die Unterseite des Deckels 11 weisen vorspringende Teile 6 bzw. 7 zylindrischer Gestalt auf, die, wenn die Form zusammengesetzt ist, einander gegenüberliegen (s. für den Deckel 11 auch die F i g. 7 und 8). In der Achse der vorspringenden Teile 6 und 7 sind Bohrungen 3' bzw. 2' angebracht, die zum Anbringen des aufzulegierenden Kontaktmaterials dienen. Zylindrische Halbleiterkörper 1 sind zwischen den Stirnflächen der vorspringenden Teile 6 und 7 festgeklemmt. Weiter passen die vorspringenden Teile 6 und 7 in zylindrische Löcher oder Bohrungen 8 im Gitter 12 (s. auch die F i g. 5 und 6). Der zylindrische Umfang ■ der Halbleiterkörper 1 ist in enger Berührung mit der Wand der Bohrungen 8 des Gitters 12 und die ebenen Ober- und Unterseiten der Halbleiterkörper 1 in enger Berührung mit den Stirnflächen der vorspringenden Teile 6 und 7 der Körper 10 bzw. 11 (s. auch die F i g. 3 a und 4).
Die vorspringenden Teile 6 und 7 können auf an sich bekannte Weise durch Ausfräsen und gegebenenfalls Drehen mit geeigneten Werkzeugen erzeugt sein. Die ursprüngliche Oberfläche der Körper 10 und 11 kann dabei sehr leicht eben geschliffen und poliert worden sein, so daß die am Ende erhaltenen Stirnflächen der Teile 6 bzw. 7 fluchten und sich genau an die unteren bzw. oberen Flächen der Halbleiterkörper 1 anschließen und beim Legierverfahren ein Ausfließen der Schmelze zwischen die Stirnflächen der Halbleiterkörper verhindert wird. Auch die Bohrungen 3', 2' und 8 können mit geeignetem Werkzeug sehr genau hergestellt werden. Die Bohrungen 2' und 3' können nach dem Zusammenbau der Formteile angebracht sein, damit sie in einander gegenüberliegenden Vorsprüngen genau koaxial zueinander liegen.
Beim Zusammenbau der Form kann zunächst das Gitter 12 am Grundkörper 10 befestigt werden, z.B. mit Hilfe nicht dargestellter Bolzen. Das erhaltene Ganze sieht jetzt in seiner Gestalt dem Grundkörper 10 der bekannten, in F i g. 2 dargestellten Legierform ähnlich. Die Halbleiterkörper 1 können jetzt in den Bohrungen 8 des Gitters 12 auf den Stirnflächen der vorstehenden Teile 6 angebracht werden. Der Grundkörper 10 und der Deckel 11 sind weiter mit Paßflächen 20 bzw. 21 versehen, die so angebracht sind, daß beim Auflegen des Deckels die Stirnflächen der vorspringenden Teile 7 sich genau an die obere Fläche der Halbleiterkörper 1 anlegen. Die Befestigung des Deckels 11 am Boden 10 kann mit Hilfe nicht dargestellter Bolzen erfolgen.
Dadurch, daß die Teile der Form eine Gestalt und Abmessungen haben, die auf mechanischem Wege mit hoher Genauigkeit herstellbar sind, wobei z.B. die erwünschten Abmessungen der Aufnahmeröhre für die Halbleiterkörper bis auf wenige Mikrometer genau erzielbar sind, bedeutet die Verwendung der Form nach der Erfindung bei der Massenherstellung von Halbleitervorrichtungen eine Verringerung des Ausschusses. Weiter kann die Form nach der Erfindung so gebaut sein, daß sogar auf sehr kleine Halbleiterkörper sehr kleine Kontakte reproduzierbar auflegiert werden können. Es wurde z. B. eine dreiteilige Form vom in F i g. 3 dargestellten Typ hergestellt, bei der die Körper 10 und 11 aus einer Graphitplatte mit einer Dicke von 7 mm und das Gitter 12 aus ejner Graphitplatte von 1,5 mm hergestellt wurden und die eine Länge von 50 mm und eine Breite von 28 mm hat und 128 Aufnahmeräume für Halbleiterkörper enthält. Es sei noch bemerkt, daß die Form auch für Halbleiterkörper mit z. B. rechteckiger oder quadratischer Gestalt Verwendung finden kann, wobei der Durchmesser der Bohrungen 8 nach den Flächendiagonalen dieser Körper berechnet ist.
Für die Herstellung der Form können übliche mechanische Bearbeitungen mit Hilfe von Präzisionswerkzeugen, Bohrmaschinen und Flachschleifmaschi- nen Anwendung finden.
Selbstverständlich kann die an Hand der Fig. 8 im Rahmen der Erfindung beschriebene Ausführungsform in ihren baulichen Einzelheiten abgewandelt werden, um sie z. B. Halbleiterkörpern anderer Geometrie anzupassen.

Claims (3)

Patentansprüche:
1. Mehrfachlegierform zum gleichzeitigen Auflegieren von Kontakten auf mehrere Halbleiterkörper, in der mehrere Aufnahmeräume für einen Halbleiterkörper ausgespart und in diese Räume mündende Bohrungen für das aufzulegierende Kontaktmaterial vorgesehen sind, dadurchgekennzeichnet, daß die Form drei Körper (10,11,12) umfaßt, und zwar zwei Körper (10, 11), deren einander zugekehrte ebene Seiten mit der gleichen Zahl vorspringender Teile (6, 7) mit in einer Ebene liegenden Anlageflächen für die Ober- und Unterseite der Halbleiterkörper (1) versehen sind, sowie einen zwischen den genannten Körpern (10,11) liegenden plattenförmigen Körper (12) mit durchgehenden öffnungen (8), in die die vorspringenden Teile (6, 7) passen und deren Wände die Seitenwände der Aufnahmeräume für die Halbleiterkörper (1) bilden.
2. Legierform nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die vorspringenden Teile und die im plattenförmigen Körper angebrachten Öffnungen zylindrisch sind.
3. Legierform nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in den vorspringenden Teilen beiderseits der Aufnahmeräume für die Halbleiterkörper Bohrungen zum Anbringen des aufzulegierenden Kontaktmaterials angebracht sind.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 072 751.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
709 638/424 8. 67 © Bundesdruckerei Berlin
DE1964N0025267 1964-07-17 1964-07-17 Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten Pending DE1248166B (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1964N0025267 DE1248166B (de) 1964-07-17 1964-07-17 Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE1964N0025267 DE1248166B (de) 1964-07-17 1964-07-17 Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE1248166B true DE1248166B (de) 1967-08-24

Family

ID=7343365

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE1964N0025267 Pending DE1248166B (de) 1964-07-17 1964-07-17 Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE1248166B (de)

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1072751B (de) * 1958-01-17 1960-01-07 Siemens iS. Halske Aktiengesellschaft, Berlin und München Legierungsverfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen mit pn-Ubergangen z B Transistoren unter Verwendung von zentrierenden Legierungsformen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1072751B (de) * 1958-01-17 1960-01-07 Siemens iS. Halske Aktiengesellschaft, Berlin und München Legierungsverfahren zum Herstellen von Halbleiteranordnungen mit pn-Ubergangen z B Transistoren unter Verwendung von zentrierenden Legierungsformen

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE1081619B (de) Verfahren zur Herstellung zusammengesetzter glasig-kristalliner Koerper
DE1536862A1 (de) Filtersatz
DE1499784B2 (de) Verfahren zur herstellung einer polschuheinheit fuer einen magnetkopf
DE2523232A1 (de) Kuehldose fuer einen thyristor
DE1524777A1 (de) Verfahren zum Herstellen mehrerer zu einem Bauteil zusammengefasster Magnetkoepfe
EP0021269A2 (de) Kühldose für scheibenförmige Halbleiterbauelemente
DE1248166B (de) Mehrfachlegierform zum Herstellen von Halbleiterbauelementen mit einem oder mehreren auflegierten Kontakten
DE1199323B (de) Magnetischer Datenspeicher und Verfahren zur Herstellung derartiger Speicher
DE1499819C3 (de) Verfahren zur Herstellung einer Mehrfach-Magnetkopfeinheit und danach hergestellte Mehrfach-Magnetkopfeinheit
EP0043019A1 (de) Presswerkzeug zur Herstellung von schalenförmigen Presskörpern, insbesondere Platten, Tellern, Bechern, Schüsseln o. dgl. aus pulverförmigem, vorzugsweise keramischen Material
DE3602654C2 (de) Verfahren zur Bildung einer Verbund-Magnetkopf-Stuktur und Verbund-Magnetkopf-Struktur
DE1614834C2 (de) Verfahren zum Herstellen einer Halb leiteranordnung
EP1111631B1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Kontaktstückrohlings und eines Kontaktstückes sowie ein Kontaktstückrohling, ein Kontaktstück und eine Kontaktstückanordnung für Axialmagnetfeldanwendungen in einer Vakuumkammer
DE3215883A1 (de) Vorrichtung und verfahren zum herstellen von druckmittelkanaele aufweisenden adapterbloecken sowie herstellung der vorrichtung
DE3012487C2 (de) Maschinenelement, Verfahren zur Herstellung und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE2917872A1 (de) Trennscheibe
DE3310934A1 (de) Programmtraeger fuer schaltende zeitmessgeraete
DE1474372A1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Magnetkopfes
DE102005039148A1 (de) Verfahren zur Material abtragenden Bearbeitung von Werkstücken
DE1945899A1 (de) Halbleitervorrichtung und Verfahren zu ihrer Herstellung
AT236516B (de) Verfahren zur Herstellung scheibenförmiger Gegenstände, z. B. Kollektorscheiben für kleine Motoren, und Vorrichtung zum Räumen von Schlitzen in scheibenförmigen Gegenständen
DE832108C (de) Schleifscheibe mit Buchse
DE1177254B (de) Legierform und Verfahren zur Herstellung von Halbleiteranordnungen
DE3128774C2 (de)
AT240933B (de) Vorrichtung zum Einbetten von Kugeln in eine verformbare Platte