DE1246897B - Elektronische Festkoerperanordnung - Google Patents
Elektronische FestkoerperanordnungInfo
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- 239000007787 solid Substances 0.000 title claims description 8
- 239000002800 charge carrier Substances 0.000 claims description 32
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims description 20
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 19
- 230000033001 locomotion Effects 0.000 claims description 12
- 230000008878 coupling Effects 0.000 claims description 10
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 claims description 10
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 claims description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 8
- 230000008901 benefit Effects 0.000 claims description 4
- 239000013078 crystal Substances 0.000 claims description 4
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 239000010703 silicon Substances 0.000 claims description 3
- 238000011161 development Methods 0.000 claims description 2
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims 3
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims 1
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 100
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 7
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 6
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 6
- 230000008859 change Effects 0.000 description 4
- 230000003993 interaction Effects 0.000 description 4
- 239000004020 conductor Substances 0.000 description 3
- 229910052732 germanium Inorganic materials 0.000 description 3
- GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N germanium atom Chemical compound [Ge] GNPVGFCGXDBREM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 3
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000712 assembly Effects 0.000 description 2
- 238000000429 assembly Methods 0.000 description 2
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 2
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 238000009413 insulation Methods 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 238000005275 alloying Methods 0.000 description 1
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 1
- 238000010276 construction Methods 0.000 description 1
- 238000005520 cutting process Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000001419 dependent effect Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 238000002955 isolation Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910021421 monocrystalline silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 1
- 230000008054 signal transmission Effects 0.000 description 1
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 description 1
- 230000005421 thermomagnetic effect Effects 0.000 description 1
- 238000012549 training Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
- 230000007704 transition Effects 0.000 description 1
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-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/66—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/68—Types of semiconductor device ; Multistep manufacturing processes therefor controllable by only the electric current supplied, or only the electric potential applied, to an electrode which does not carry the current to be rectified, amplified or switched
- H01L29/70—Bipolar devices
- H01L29/72—Transistor-type devices, i.e. able to continuously respond to applied control signals
- H01L29/73—Bipolar junction transistors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L27/00—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate
- H01L27/02—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers
- H01L27/04—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body
- H01L27/08—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind
- H01L27/082—Devices consisting of a plurality of semiconductor or other solid-state components formed in or on a common substrate including semiconductor components specially adapted for rectifying, oscillating, amplifying or switching and having potential barriers; including integrated passive circuit elements having potential barriers the substrate being a semiconductor body including only semiconductor components of a single kind including bipolar components only
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L29/00—Semiconductor devices specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching and having potential barriers; Capacitors or resistors having potential barriers, e.g. a PN-junction depletion layer or carrier concentration layer; Details of semiconductor bodies or of electrodes thereof ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/02—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor
- H01L29/36—Semiconductor bodies ; Multistep manufacturing processes therefor characterised by the concentration or distribution of impurities in the bulk material
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N70/00—Solid-state devices having no potential barriers, and specially adapted for rectifying, amplifying, oscillating or switching
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
- Light Receiving Elements (AREA)
Description
DEUTSCHES ^ßTT^S PATENTAMT DeutscheKl.: 21g-35
AUSLEGESCHRIFT
Nummer: 1246 897
Aktenzeichen: J 18572 VIII c/21 g
J 246 897 Anmeldetag: 13.August 1960
Auslegetag: 10. August 1967
In Daten verarbeitenden Systemen, speziell in solchen, bei denen das Signal des Aufnehmerelementes
verhältnismäßig klein ist, erweist es sich oft als notwendig, die Zuführungen, die dieQuelle mit demDaten
verarbeitenden System verbinden, von Masse zu isolieren. Wenn beispielsweise die Daten von verschiedenen
Aufnehmerelementen, beispielsweise Thermoelementen oder Dehnungsmeßstreifen, welche relativ
kleine Spannungen in der Größe von einigen Mikrovolt liefern, getrennt an ein Daten registrierendes
System angeschaltet werden, ist es störend, wenn dabei Spannungssprünge entstehen. Es ist daher in
solchen Systemen wünschenswert, die Aufnehmerelemente von den Daten verarbeitenden Systemen zu
isolieren.
Auf anderen Anwendungsgebieten ist es oft wünschenswert, Gleichspannungen zu modulieren oder zu
zerhacken, um Wechselspannungssignale zu erhalten, die man dann mit einem gewöhnlichen Wechselspannungsverstärker
verstärken kann.
Die vorliegende Erfindung betrifft eine für derartige Anwendungen geeignete elektronische Festkörperanordnung
zur Übertragung von Spannungen oder Strömen, bestehend aus einem mehrschichtigen
Körper, bei dem die einzelnen Schichten eine unterschiedliche Konzentration an beweglichen Ladungsträgern
besitzen.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, Signalübertragungssysteme zu schaffen, deren Funktion auf
der bekannten Wechselwirkung zwischen Ladungsträgern und Phononen beruht.
Diese Aufgabenstellung wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß jeweils zwei benachbarte Schichten
mit relativ hoher Ladungsträgerkonzentration durch eine keine oder nur eine relativ geringe Konzentration
an beweglichen Ladungsträgern enthaltende Zwischenschicht elektrisch getrennt sind, daß die beiden
voneinander isolierten Schichten oder voneinander isolierten Schichtenfolgen als Stromwege in je einem
von zwei getrennten Stromkreisen liegen und daß die Dicke aller Schichten so bemessen ist, daß die durch
die Bewegung der Ladungsträger beeinflußten Gitterschwingungen der im ersten Stromkreis liegenden
Schicht infolge der Kopplung der den Gitterschwingungen zugeordneten Phononen über die Zwischenschicht
die Gitterschwingungen der anderen, im zweiten Stromkreis liegenden benachbarten Schicht relativ
hoher Ladungsträgerkonzentration und damit die Bewegung der Ladungsträger in dieser Schicht beeinflussen.
Nach der Erfindung besteht die Festkörperanordnung also aus zwei benachbarten, bewegbare
Elektronische Festkörperanordnung
Anmelder:
Deutsche ITT Industries
Gesellschaft mit beschränkter Haftung,
Freiburg (Breisgau), Hans-Bunte-Str. 19
ίο
Als Erfinder benannt:
William Shockley, Los Altos, Calif. (V. St. A.)
Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 9. September 1959
(839 011)
V. St. v. Amerika vom 9. September 1959
(839 011)
Ladungsträger enthaltenden Stromwegen, deren Ladungsträger über Phononen miteinander gekoppelt
sind. Die Dicke der Zwischenschicht sollte etwa der mittleren freien Weglänge der Phononen entsprechen.
Aus der schweizerischen Patentschrift 262 662 und dem deutschen Gebrauchsmuster 1751709 sind zwar
Festkörperanordnungen mit temperaturabhängigen Widerständen bekannt, die durch eine mit ihnen in
Wärmekontakt stehende, elektrisch isolierte, stromdurchflossene leitende Schicht gesteuert werden. Es
handelt sich dabei aber um Anordnungen, deren Steuerung durch reine Wärmeleitung erfolgt und die
auch nicht im Hinblick auf eine Phononenkupplung dimensioniert sind. Aus der deutschen Patentschrift
815 493 und der USA-Patentschrift 2 497 770 waren ferner Halbleiteranordnungen bekannt, die durch
mechanische Energie gesteuert werden. Es handelt sich aber bei diesen Anordnungen nicht um Ubertragungsanordnungen
für elektrische Spannungen oder Ströme, sondern um reine elektromechanische Wandler.
Die Erfindung macht von einer neuartigen Verwendung eines Isolators Gebrauch. Die Festkörperanordnung
nach der Erfindung ermöglicht es, Gleichspannungen zu modulieren, umzusetzen oder ähnliche
Vorgänge durchzuführen. Es kann auch ein neuer Typ eines Halbleiterverstärkers geschaffen
werden, dessen Funktion darauf beruht, daß Phononen bei Bewegung der Ladungsträger mitgezogen
werden. Die weitere Ausbildung und Vorteile der Erfindung werden im folgenden an Hand der Zeichnung
näher erläutert.
709 620/420
F i g. 1 zeigt eine graphische Darstellung der Geschwindigkeitsverteilung
der Träger in einem Halbleiter mit und ohne ein zusätzliches elektrisches Feld;
Fig.2 zeigt die graphische Darstellung der Phononenenergieverteilung pro Impulsintervall für
Phononen, die im Halbleiter gemäß F i g. 1 vorhanden sind;
F i g. 3 zeigt eine Festkörperanordnung nach der Erfindung in Verbindung mit dazugehöriger Schaltung;
F i g. 4 bis 7 zeigen anders ausgebildete Festkörperanordnungen nach der Erfindung;
F i g. 8 zeigt Festkörperanordnungen nach der Erfindung, die so verbunden sind, daß die erzeugte Ausgangsspannung
größer ist als die Eingangsspannung;
F i g. 9 zeigt eine Festkörperanordnung entsprechend der F i g. 8, die aber auf einem einzigen Block
aus Halbleitermaterial aufgebaut ist;
F i g. 10 zeigt eine Festkörperanordnung nach der ao Erfindung, die als Zerhacker oder Umformer geschaltet
ist;
Fig. 11 zeigt eine Festkörperanordnung nach der Erfindung, die als Verstärker geschaltet ist, und
F i g. 12 zeigt eine weitere Ausfiihrungsform einer Festkörperanordnung nach der vorliegenden Erfindung.
Das Verständnis über die Funktion der betrachteten Anordnungen wird an Hand der Erläuterung der
vorzugsweisen Ausführungsbeispiele erleichtert.
In F i g. 1 stellt die Kurve I die Geschwindigkeitsverteilung der Ladungsträger (Elektronen oder
Löcher) in einem Halbleiter ohne elektrisches Feld dar. Wenn ein äußeres Feld auf den Halbleiter einwirkt,
ergibt sich eine Geschwindigkeitsverteilung der Ladungsträger entsprechend der gestrichelten
Kurve II. In Fi g. 1 ist auf der Ordinate die Zahl der Elektronen pro Geschwindigkeitsintervall bezüglich
der Geschwindigkeit in der .Ϊ-Richtung, welche die Richtung des Stromflusses ist, aufgetragen.
In Fig.2 ist eine Kurve der Phononenverteilung pro Impulsintervall für eine Gruppe von Phononen
aufgetragen, die Impulse besitzen, welche ihnen eine Wechselwirkung mit den Elektronen gestatten. Auf
der Ordinate sind die Energie und auf der Abszisse die Phononenimpulse Px aufgetragen. Die Kurve III
stellt die Verteilung ohne angelegtes Feld dar. Wenn ein Strom fließt, stoßen die Ladungsträger mit den
Phononen zusammen oder treten in sonstige Wechselwirkung mit ihnen, und die Phononenverteilung
ändert sich dadurch quantitativ in der Art, wie in der gestrichelten Kurve IV der F i g. 2 dargestellt ist. Es
ist zu erkennen, daß der durchschnittliche Impuls der Phononen, welche mit den Elektronen in Wechselwirkung
treten können, in Richtung der durch das Feld hervorgerufenen Geschwindigkeitskomponente (Driftgeschwindigkeit)
der Träger verschoben wird. Der Gesamtimpuls des Phononensystems geteilt durch die
Gesamtenergie des Phononensystems entspricht der Geschwindigkeit des Energieflusses der Phononen.
Unter bestimmten Bedingungen (vgl. Literaturangabe weiter unten) ist die Phononengeschwindigkeit ungefähr
gleich der Driftgeschwindigkeit der Elektronen unter dem Einfluß des angelegten Feldes.
Dieser zuletzt genannte Zustand ist in der Theorie der Thermokraft als der Sättigungseffekt bekannt. Er
tritt dann ein, wenn die Wahrscheinlichkeit, daß ein Phonon von einem Elektron gestreut wird, größer
ist als die Wahrscheinlichkeit, daß ein Phonon von einem anderen Phonon gestreut wird. Bei tieferen
Temperaturen ist dieser Effekt verhältnismäßig vollständig, ebenso bei relativ hoher Elektronendichte. Es
ist daher einleuchtend, daß eine fast vollständige Sättigung bei einer geringen Elektronendichte bei tiefen
Temperaturen eher erreicht werden kann als bei höheren Temperaturen.
Die mittlere freie Weglänge der Phononen, welche mit den Elektronen reagieren, nimmt mit abnehmender
Temperatur verhältnismäßig rasch zu und nimmt bei Temperaturen zwischen 20 und 100° K eine
mikroskopisch meßbare Größenordnung an. Bei Raumtemperatur liegt die mittlere freie Weglänge
der Phononen, welche mit den Elektronen reagieren, in der Größenordnung von IO-4 cm oder 1 μ.
In F i g. 3 ist eine Festkörperanordnung dargestellt, die aus zwei durch einen pn-übergang getrennten
Schichten entgegengesetzter Leitfähigkeit besteht. Ohne Anlegen einer Vorspannung an den pn-übergang
wird an der Verbindungsstelle eine Raumladungswolke 11 erzeugt. Die Zone dieser Raumladungswolke
ist an Ladungsträgern verarmt. In der Praxis kann es wünschenswert sein, eine Vorspannung
12 anzulegen, durch welche die Breite der Raumladungszone vergrößert wird. Die Raumladungszone
11, welche an Ladungsträgern verarmt ist, bewirkt die Isolierung der Zone mit p-Leitfähigkeit
von der Zone mit η-Leitfähigkeit. Ein Übergang der beschriebenen Art kann durch irgendein bekanntes
Verfahren, beispielsweise durch Ziehen eines Kristalls aus der Schmelze bei veränderbaren Ziehbedingungen
oder durch ein Diffusionsverfahren hergestellt werden. Wie im folgenden noch näher erläutert
wird, sind die p- und η-leitenden Schichten verhältnismäßig dünn.
Die beiden Pole eines Signalgenerators Vs mit einem Innenwiderstand Rs sind in der in der Zeichnung
dargestellten Art mit der η-Schicht verbunden. Durch den Generator wird in der η-Schicht ein elektrischer
Strom erzeugt. Die Schicht wird zweckmäßig genügend hoch dotiert, so daß eine beträchtliche,
unter Umständen sogar gesättigte Mitbewegung der Phononen entsprechend den durch die Schicht
fließenden Ladungsträgern (Elektronen) entsteht. Die Schicht ist vorzugsweise verhältnismäßig dünn, so
daß die Decke der Schicht etwa der mittleren freien Weglänge der Phononen entspricht. Es können jedoch
auch beträchtliche Wechselwirkungen entstehen, wenn die mittlere freie Weglänge kleiner als
die Dicke der Schicht ist und mehrere Anordnungen in Parallelschaltung verwendet werden, wie weiter
unten noch näher beschrieben wird.
Die in der η-Schicht fließenden Elektronen stehen in Wechselwirkung mit den Phononen und verursachen
einen Impuls, wie es durch die Kurve TV in Fig.2 dargestellt ist. Die Phononen erhalten eine
bevorzugte Bewegung in Richtung des Stromflusses. Diese Phononenbewegung, die durch den in der
η-Schicht fließenden Strom verursacht wird, pflanzt sich durch die Raumladungszone 11 in die p-Schicht
fort. Die Phononen treten dort mit den Ladungsträgern (Löchern) in der p-Schicht in Wechselwirkung
und rufen eine Bewegung der Löcher in der gleichen Richtung wie der Elektronenstrom in der n-Schicht
hervor. Die Bewegung der Löcher in der p-Schicht verursacht eine Spannung in der Bewegungsrichtung
zwischen den Enden der Schicht. Bei Einschalten
einer Last zwischen die Enden wird diese von einem Strom durchflossen. Der Strom hängt von dem resultierenden
Widerstand der p-Schicht und der Ausgangsschaltung ab.
Eine Änderung der Spannung zwischen dem Eingang und der Masse, die im vorliegenden Beispiel
durch den Spannungsgenerator Va mit dem Arbeitswiderstand Jka dargestellt wird, verursacht nur Änderungen
der Spannung über den pn-übergang der Anordnung. Wenn diese Spannung im Vergleich mit
der Vorspannung klein ist, entstehen verhältnismäßig kleine Ströme durch den pn-übergang. Diese Ströme
sind im Verhältnis zu der Phononenmitbewegung vernachlässigbar. Wenn weiterhin die Anordnung in
bezug auf den pn-übergang symmetrisch aufgebaut ist, wird der Rückstrom, der durch die zusätzliche
Gleichspannung zwischen der η-Schicht und der p-Schicht entsteht, in der p-Schicht symmetrisch fließen
und kein Signal in der p-Schicht erzeugen. Damit ist der Ausgang der Festkörperanordnung der Spannung
am Eingang der η-Schicht proportional und von Gleichspannungsschwankungen der Grundspannung,
welche die Breite der Raumladungszone 11 nicht merklich verändert, über einen großen Spannungsbereich
unabhängig.
Die Raumladungszone 11 hat vorzugsweise eine Dicke, die gleich oder kleiner als die freie Weglänge
der Phononen ist, wodurch eine merkliche Anzahl von Phononen von der η-Schicht in die p-Schicht
gelangen kann und dort die Löcher in der p-Schicht in Bewegung setzt. Bei einer symmetrischen Anordnung
ist die Phononendrift in der p-Schicht ungefähr gleich der Hälfte des Sättigungswertes in der
n-Schicht.
Die Anordnung nach Fig.3 kann durch die in F i g. 4 dargestellte Konstruktion vereinfacht werden.
Die p- und η-Schichten werden in einen Block aus Halbleitermaterial 13, beispielsweise aus Silizium,
Germanium oder ähnlichem Material, eindiffundiert. Beispielsweise kann eine p-Schicht 14 durch Diffusion
von Akzeptorverunreinigungen hergestellt werden. Anschließend wird eine n-Schicht 15 durch Diffusion
von Donatorverunreinigungen auf der Oberfläche der dünnen p-Schicht erzeugt. Die Anordnung
wird dann chemisch oder mechanisch bearbeitet, um alle den Block umgebenden Oberflächenschichten,
mit Ausnahme der in F i g. 4 dargestellten Schichten 14 und 15, zu entfernen. Ein Aufbau der in F i g. 4
dargestellten Anordnung ist relativ leicht herzustellen, insbesondere können relativ dünne Schichten in
der Größenordnung der mittleren freien Weglänge der Phononen hergestellt werden.
Bei der Anordnung nach F i g. 4 können Phononen von den dünnen Schichten auch in den Grundkörper
13 gelangen. Als Folge davon ist die Kopplung zwisehen den Schichten geringer, als es wünschenswert
erscheint. Bei der Anordnung nach F i g. 3 bestehen die gleichen Nachteile, da die Phononen an die Oberfläche
des Materials gelangen können und dort gestreut werden. Dabei verlieren sie ihren bevorzugten
Impuls in Richtung der Elektronenbewegung.
In F i g. 5 ist ein Aufbau gezeigt, mit welchem ein besserer Wirkungsgrad erreicht werden kann. In der
Hauptsache besteht die Anordnung aus einer Aufeinanderfolge von abwechselnd geschichteten n- und pleitenden
Lagen mit Anschlüssen an den gegenüberliegenden Seiten. Solche Schichtenfolgen können,
z. B. durch einen Stufenziehprozeß, aus Silizium-
oder Germaniumkristallen hergestellt werden. Nach dem Ziehen des Materials wird ein Block des dargestellten
Typs durch Zerschneiden des Kristalls hergestellt. An den vier Ecken des Blockes werden Zuführungen
angebracht. So wird beispielsweise durch Eindiffundieren von p-leitendem Material an den
Ecken 17 eine p-leitende Zone erzeugt, welche mit den p-Schichten in Verbindung steht. Ein Legierungsprozeß oder irgendein anderes bekanntes Verfahren
kann zur Herstellung der Zuführungen 17 angewendet werden. Ähnlich werden die η-leitenden Anschlüsse
18 an den anderen beiden Ecken des Blockes angebracht. Sie dienen zum Anschluß der n-leitenden
Schichten. Dann wird das Zuleitungspaar 17 an zwei entgegengesetzten Ecken und das andere Paar der
Zuleitungenie an den anderen Ecken angebracht. Ein Strom zwischen den p-leitenden Anschlüssen 17
erzeugt einen Löcherstrom in den p-Schichten diagonal durch den Block. Die dadurch bedingte
Phononenmitbewegung wird auf die benachbarten η-Schichten übertragen und erzeugt eine Spannung
oder einen Strom zwischen den entgegengesetzten Anschlüssen. Wenn der Block verhältnismäßig lang
im Vergleich zu seiner Breite ist, dann laufen die Stromwege zwischen den beiden Zuführungen 17 fast
parallel zu den Stromwegen zwischen den Zuleitungen 18, wodurch der Effekt der Phononenmitbewegung
am größten wird. Der Vorteil des dargestellten Aufbaues besteht darin, daß die Phononen, die die
p-Schichten in irgendeiner Richtung verlassen, auf jeden Fall mit den Ladungsträgern in den benachbarten
η-leitenden Schichten in Wechselwirkung treten und dabei einen Strom durch diese Schichten
erzeugen. Die einzelnen Schichten sind voneinander durch die Raumladungszonen an den pn-Ubergängen
isoliert. Es ist auch möglich, eine geeignete Vorspannung zwischen den beiden Schichtenfolgen anzulegen,
um die Breite der Raumladungszone zu vergrößern.
Bei einigen Anwendungen der Erfindung ist es wünschenswert, eine bessere als durch die vorhandene
oder mittels einer Vorspannung vergrößerte Raumladungszone mögliche Isolierung zu erhalten.
In solchen Fällen ist eine Anordnung des in F i g. 6 dargestellten Typs zu bevorzugen. Die Anordnung
nach F i g. 6 weist einen Stromweg 20, eine Isolierschicht 21 und einen zweiten Stromweg 22 auf, die
alle auf einem Block 23 aufgebaut sind. Bei Herstellung der Stromwege und Isolierschichten auf einem
Block 23 ist es auch wieder möglich, sich der Diffusionstechnik zu bedienen, um möglichst dünne
Lagen zu erhalten, deren Dicke mit der mittleren freien Weglänge der Phononen vergleichbar ist. Die
Zwischenschicht 21 besitzt sehr wenig Ladungsträger. Sie besteht praktisch aus eigenleitendem Material.
Die Schichten 20 und 22 haben eine größere Ladungsträgerkonzentration,
wodurch der Sättigungseffekt leicht erreicht werden kann. Falls eine noch bessere Isolierung gewünscht wird, kann eine Vorspannung
zwischen der Zwischenschicht 21 und den benachbarten Schichten angelegt werden, derart, daß
die pn-Ubergänge in Sperrichtung beansprucht werden und die Breite der Raumladungszone größer
wird. Im übrigen arbeitet die Anordnung gemäß F i g. 6 so, wie es bereits beschrieben wurde. Eine
Weiterbildung der Anordnung nach F i g. 6 ist in F i g. 7 zu sehen, bei welcher die Anordnung ohne
die Basis 23 hergestellt wird.
In F i g. 8 ist eine Mehrzahl von Anordnungen 25, 26 und 27 einer der vorstehend beschriebenen
Typen, beispielsweise der des Typs gemäß Fig. 3, in einer bestimmten Art miteinander verbunden. Es
wird dadurch eine Spannungsverstärkung erzielt. Das Eingangssignal wird den parallelgeschalteten ersten
leitenden Schichten der Anordnungen 25, 26 und 27 zugeführt. Wie der Zeichnung zu entnehmen ist, wird
die Spannung den Zuleitungen 28 und 29 zugeführt, welche mit den entgegengesetzten Enden der ersten
Schichten der Anordnungen 25, 26 und 27 verbunden sind. Die Ausgangsschichten sind in Serie zwischen
die Ausgangsleiter 31 und 32 geschaltet. Die Verbindung zwischen den Schichten wird durch die
Leiter 33 und 34 hergestellt. Die Eingangsspannung wird demnach der Parallelschaltung der Schichten
zugeleitet und die Ausgangsspannung einer Serienschaltung entnommen, wodurch eine Spannungsverstärkung erreicht wird.
Bei anderen Anwendungen, beispielsweise beim Vorliegen kleiner Eingangssignale der Größenordnung
zwischen 5 und 10 μν, ist die Verwendung einer Anordnung des soeben beschriebenen Typs
ebenfalls von Vorteil. Die Anordnung hat dabei die Wirkung eines Transformators, durch den die Spannungsaraplitude
der Signale um das Mehrfache gegenüber den ursprünglichen Signalen vergrößert werden
kann. Auf diese Weise können Signale erhalten werden, weiche im Vergleich zu den Anfangssignalen
sehr groß sind.
In F i g. 9 ist ein Verfahren zur Herstellung einer Anordnung des in Fig. 8 dargestellten Typs auf
einem Block dargestellt. Danach hat eine Halbleiterbasis 36 eine darauf durch Diffusion oder andere
bekannte Maßnahmen gebildete Schicht 37. Die Schicht 37 stellt die Ausgangsschicht dar. Durch
einen zweiten Diffusionsprozeß werden mehrere langgestreckte Schichten 38 erzeugt. Zu diesem
Zweck wird die Schicht 37 durch Masken oder andere geeignete Maßnahmen so abgedeckt, daß verschiedene
voneinander getrennte Schichten 38 entstehen können. Diese Schichten sind durch Drähte 39
in Serie geschaltet. Das Eingangssignal wird über die Leitungen 41 und 42 eingeführt, während
das Ausgangssignal an der Schicht 37 abgenommen wird.
Aus dem bereits Geschilderten geht hervor, daß bei Vergrößern der Breite der Raumladungszone
oder der Isolierschicht eine Dicke erreicht wird, welche größer als die mittlere freie Weglänge der
Phononen ist. In einem solchen Fall sind die Eingangs- und Ausgangsschichten nicht länger miteinander
gekoppelt. Es wird beispielsweise bei den Anordnungen nach F i g. 3 und 4 eine große Vorspannung
12 an der Verbindungsstelle in erster Linie die Breite der Raumladungszone vergrößern, so daß nur
noch eine geringe Anzahl von Phononen in die Ausgangsschicht gelangen und dort mit den Ladungsträgern
in Wechselwirkung treten können. Bei den Anordnungen nach F i g. 6 und 7 verursacht das Anlegen
einer Vorspannung hinreichender Größe ein so starkes Verbreitern der Isolierschicht, daß keine
Phononenkopplung zwischen Eingangs- und Ausgangsschicht entstehen kann. Daher kann bei Anlegen
einer Gleichspannung an die Eingangsschicht und eines Wechselspannungssignals geeigneter Größe
an den pn-übergang bzw. die Isolierschicht die Anordnung als Zerhacker verwendet werden, der bei
einem Gleichstromeingangssignal ein Wechselstromausgangssignal liefert.
Ih Fig. 10 ist eine Anordnung des in Fig. 6 bereits dargestellten Typs zu sehen. Die Anordnung
enthält die Basiszone 23, eine Eingangsschicht 20, eine Ausgangsschicht 22 und eine Isolierschicht 21.
Ein Wechselstromvorspannungssignal 43 wird zwischen den Schichten 20 und 22 und der Isolierschicht
21 angelegt. Wenn dieses Signal eine geeignete Amplitude besitzt, wird eine von Ladungsträgern verarmte
Schicht, d. h. eine Raumladungszone, erzeugt, welche im wesentlichen breiter bzw. dicker als die
freie Weglänge der Phononen ist, wodurch eine Phononenkopplung zwischen den Schichten 20 und
22 verhindert wird. Dadurch wird ein Gleichstromeingangssignal am Ausgang zwischen O und einem
Wert, der von der Kopplung zwischen der Eingangsund der Ausgangsschicht abhängt, schwanken.
Der in Fig. 10 für einen Zerhacker beschriebene ao Effekt kann ebensogut zur Bildung eines Wechselstromverstärkers ausgenutzt werden. Dabei wird eine große Gleichspannung an die Schicht 20 gelegt, um eine Sättigung zu erreichen. Der Ausgang der Schicht 22 kann mit Hilfe eines Signals 44 gesteuert werden (Fig. 11). Demnach wird ein verstärktes Wechselspannungssignal erhalten, wenn eine kleine Wechselspannung bei 44 zum Vergrößern und Verkleinern der Breite der Raumladungszone verwendet wird.
Der in Fig. 10 für einen Zerhacker beschriebene ao Effekt kann ebensogut zur Bildung eines Wechselstromverstärkers ausgenutzt werden. Dabei wird eine große Gleichspannung an die Schicht 20 gelegt, um eine Sättigung zu erreichen. Der Ausgang der Schicht 22 kann mit Hilfe eines Signals 44 gesteuert werden (Fig. 11). Demnach wird ein verstärktes Wechselspannungssignal erhalten, wenn eine kleine Wechselspannung bei 44 zum Vergrößern und Verkleinern der Breite der Raumladungszone verwendet wird.
Daraus ist zu entnehmen, daß die Festkörperanordnung nach der Erfindung als Gleichspannungsumformer
und bei Anlegen eines sich ändernden Signals als Zerhacker, Wandler oder Verstärker verwendet
werden kann. Alle beschriebenen Anordnungen beruhen hinsichtlich ihrer Funktion auf der
Phononenkopplung zwischen zwei stromführenden Schichten. Die Phononen ändern ihren Impuls durch
den Stromfluß in einer Schicht, laufen durch eine Isolierschicht und treten mit den Ladungsträgern in
der anderen Schicht in Wechselwirkung, wodurch sie an diese einen Impuls abgeben. Eine Spannung oder
ein Strom kann dann zwischen einem Paar von Zuleitungen, die mit den entgegengesetzten Seiten der
zweiten Schicht verbunden sind, entnommen werden.
Die Theorie der Wechselwirkung zwischen Phononen und Ladungsträgern wurde von H e r r i η g auf
einer Konferenz in Deutschland diskutiert und ist wiedergegeben in dem Buch »Halbleiter und Phosphore«,
F. Vieweg und Sohn, Deutschland, 1958,
S. 184. Eine weitere Liste von Berichten kann in dem Aufsatz »Analyses of Phonon-Drag Thermomagnetic
Effects in η-Type Germanium« von C. Herring, T.H.Geballe und J.E.KunzIer, Bell System
Techn. Journ., Vol. 38, S. 657, 1959, gefunden werden.
Aus der vorangegangenen Beschreibung geht hervor, daß die gewünschte Kopplung durch Phononen
zwischen zwei Stromwegen dann eintritt, wenn die Wege so angelegt sind, daß eine Möglichkeit für die
Phononen besteht, von einem Weg in den anderen überzutreten. Diese Möglichkeit kann am besten dadurch
erreicht werden, daß zwei Stromwege innerhalb eines homogenen Körpers angeordnet sind, in
welchem keine Streuung der Phononen durch mechanische Zusammenstöße auftreten kann. Diese Verhältnisse
werden beispielsweise in Zusammenhang mit diffundierten Schichten in einem Einkristall aus
Silizium erreicht. Eine Kopplung mit einem etwas
Claims (13)
1. Elektronische Festkörperanordnung zur Übertragung von Spannungen oder Strömen,
bestehend aus einem mehrschichtigen Körper, bei dem die einzelnen Schichten eine unterschiedliche
Konzentration an beweglichen Ladungsträgern besitzen, dadurch gekennzeich-35
net, daß jeweils zwei benachbarte Schichten mit relativ hoher Ladungsträgerkonzentration
durch eine keine oder nur eine relativ geringe Konzentration an beweglichen Ladungsträgern
enthaltende Zwischenschicht elektrisch getrennt sind, daß die beiden voneinander isolierten
Schichten oder voneinander isolierten Schichtenfolgen als Stromwege in je einem von zwei getrennten
Stromkreisen liegen und daß die Dicke aller Schichten so bemessen ist, daß die durch
die Bewegung der Ladungsträger beeinflußten Gitterschwingungen der im ersten Stromkreis liegenden
Schicht infolge der Kopplung der den Gitterschwingungen zugeordneten Phononen über
die Zwischenschicht die Gitterschwingungen der anderen, im zweiten Stromkreis liegenden benachbarten
Schicht relativ hoher Ladungsträgerkonzentration und damit die Bewegung der Ladungsträger in dieser Schicht beeinflussen.
2. Festkörperanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der einzelnen
Schichten der mittleren freien Weglänge der Phononen in dem verwendeten Material entspricht.
3. Festkörperanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der eine Stromweg
aus einer relativ dünnen Schicht eines Halbleitermaterials des einen Leitfähigkeitstyps (n)
und der zweite Stromweg aus einer relativ dünnen Schicht aus Halbleitermaterial des entgegengesetzten
Leitfähigkeitstyps (p) gebildet ist und daß ein pn-übergang die beiden Stromwege voneinander
trennt.
4. Festkörperanordnung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden dünnen
Schichten der Stromwege aus hochdotiertem, insbesondere bis zur Entartungskonzentration dotiertem
Halbleitermaterial bestehen.
5. Festkörperanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Stromwege
aus metallischen Schichten bestehen.
6. Festkörperanordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Stromwege
aus unterschiedlichem Material, die eine Schicht aus Metall und die andere Schicht aus Halbleitermaterial,
bestehen.
7. Festkörperanordnung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die beiden Stromwege aus Halbleitermaterial bestehen und durch eine dazwischenliegende
Isolierschicht elektrisch voneinander isoliert sind.
8. Festkörperanordnung nach Ansprach 7, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden aus Halbleitermaterial
entgegengesetzter Leitfähigkeit bestehenden Stromwege (20 und 22) durch eine
Schicht (21) aus eigenleitendem Halbleitermaterial voneinander getrennt sind.
9. Festkörperanordnung nach Ansprach 8, dadurch gekennzeichnet, daß die Dicke der zwischen
den Halbleiterschichten befindlichen Isolierschicht der Größenordnung der mittleren
freien Weglänge der Phononen entspricht.
10. Festkörperanordnung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß mehrere aus zwei durch eine an Ladungsträgem verarmte Zone getrennten Stromwegen bestehende Anordnungen
so zusammengeschaltet sind, daß die den Eingang bildenden Stromwege parallel und die den
Ausgang bildenden Stromwege in Reihe geschaltet sind.
11. Festkörperanordnung nach einem oder mehreren der vorhergehenden Ansprüche, dadurch
gekennzeichnet, daß die Dicke der an Ladungsträgem verarmten Raumladungszone zwischen
den beiden Stromwegen durch Anlegen einer Vorspannung zwischen den beiden Schichten
veränderbar ist.
12. Verfahren zum Betrieb einer Festkörperanordnung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen zwei aus Halbleitermaterial entgegengesetzter Leitfähigkeit als Stromwege
dienenden Schichten (20 und 22), die durch eine in ihrer Dicke der Größenordnung der mittleren
freien Weglänge der Phononen entsprechende Isolierschicht (21) voneinander getrennt sind, ein
Wechselstromsignal (43) solcher Amplitude angelegt wird, daß die zwischen den als Stromwege
dienenden Schichten (20 und 22) entstehende Raumladungszone in ihrer Dicke schwankt und
dabei teilweise dicker als die freie Weglänge der Phononen wird und infolgedessen im Stromkreis
der zweiten Schicht (22) ein zerhackter Gleichstrom auftritt (F i g. 10), wenn am Eingang der
ersten Schicht (20) ein Gleichstrom eingespeist wird.
13. Verfahren zum Betrieb einer Festkörperanordnung nach einem oder mehreren der vorhergehenden
Ansprüche, bei der zwei aus Halb-
709 620/420
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US83901159A | 1959-09-09 | 1959-09-09 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1246897B true DE1246897B (de) | 1967-08-10 |
Family
ID=25278635
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DEJ18572A Pending DE1246897B (de) | 1959-09-09 | 1960-08-13 | Elektronische Festkoerperanordnung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE1246897B (de) |
GB (1) | GB937241A (de) |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH262662A (de) * | 1946-06-14 | 1949-07-15 | Standard Telephon & Radio Ag | Thermisch empfindliches elektrisches Widerstandselement. |
US2497770A (en) * | 1948-12-29 | 1950-02-14 | Bell Telephone Labor Inc | Transistor-microphone |
DE815493C (de) * | 1948-08-19 | 1951-11-19 | Western Electric Co | Elektromechanisches UEbertragungssystem |
DE1751709U (de) * | 1956-01-07 | 1957-09-05 | N S F Nuernberger Schraubenfab | Heissleiteranordnung. |
-
1960
- 1960-08-13 DE DEJ18572A patent/DE1246897B/de active Pending
- 1960-08-29 GB GB29775/60A patent/GB937241A/en not_active Expired
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CH262662A (de) * | 1946-06-14 | 1949-07-15 | Standard Telephon & Radio Ag | Thermisch empfindliches elektrisches Widerstandselement. |
DE815493C (de) * | 1948-08-19 | 1951-11-19 | Western Electric Co | Elektromechanisches UEbertragungssystem |
US2497770A (en) * | 1948-12-29 | 1950-02-14 | Bell Telephone Labor Inc | Transistor-microphone |
DE1751709U (de) * | 1956-01-07 | 1957-09-05 | N S F Nuernberger Schraubenfab | Heissleiteranordnung. |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
GB937241A (en) | 1963-09-18 |
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