DE1237703B

DE1237703B - Verfahren zum magnetischen Einschliessen eines Plasmas

Info

Publication number: DE1237703B
Application number: DEU9045A
Authority: DE
Inventors: Raphael Anthony Dandl; Robert Justice
Original assignee: US Atomic Energy Commission (AEC)
Current assignee: US Atomic Energy Commission (AEC)
Priority date: 1961-06-23
Filing date: 1962-06-14
Publication date: 1967-03-30
Also published as: FR1328555A; US3230418A; GB935355A

Description

DEUTSCHES JMVWl· PATENTAMT

AUSLEGESCHRIFT

DeutscheKl.: 21g-21/21

Nummer: 1237703

Aktenzeichen: U 9045 VIII c/21 g

J 237 703 Anmeldetag: 14.Juni 1962

Auslegetag: 30. März 1967

Die Erfindung bezieht sich auf ein Verfahren zum magnetischen Einschließen eines Plasmas in einem evakuierten elektrischen Entladungsgefäß, das von wenigstens vier Magnetspulen umgeben ist, wobei jeweils zwei Magnetspulen konzentrisch zueinander und die konzentrischen Spulenpaare in axialer Flucht im Abstand voneinander angeordnet sind.

In den meisten Anlagen, in denen das Plasma von einem magnetischen Feld eingeschlossen ist, das sich rund um das Plasma schmiegt, d. h. ohne eine Diskontinuität, ist eine Tendenz zur Instabilität vorhanden. Der Grund hierfür ist, daß die Kraftlinien, die man sich als um das Plasma gezogene Linien vorstellt, sich selbst verkürzen, indem sie sich in das Gas hineinsenken und dadurch auf dieses eine nach auswärts gerichtete Kraft ausüben. Es kann jedoch ein Plasmaeinschluß, der gegen eine willkürliche Felddeformation verhältnismäßig stabil ist, erhalten werden, wenn die Feldlinien sich überall von einem diamagnetischen Plasma wegkrümmen, d.h. die Feldplasmagrenzschicht an jeder Stelle gegen das Plasma zu konvex gekrümmt ist. Um dieser Forderung zu genügen, muß die magnetische Feldkonfiguration Scheitel oder Zipfel aufweisen, d.h. Punkte oder Linien (oder beides), durch die die Feldlinien nach außen von der Mitte des Umschließungsbereichs verlaufen. Eine Diskussion des Energieprinzips für die hydromagnetische Stabilität ist in »Proceedings of the Royal Society«, Series A, Bd. 244, S. 17 bis 40, 1958, enthalten.

Es wurden bereits Scheitelgeometrien entwickelt, beispielsweise die »picket fence«-Geometrie und die »chalice«-Geometrie. Eine Diskussion dieser Arten von Geometrien ist in dem Buch von Samuel Glasstone und Ralph H.Lovberg, »Controlled Thermonuclear Reactions«, D. Van Nostrand Company, Inc., Princeton, New Jersey, S. 421 bis 427 (I960), enthalten.

Zwei wichtige Merkmale einer magnetischen Feldkonfiguration zur Halterung von Plasma sind die inhärente Stabilität des Plasmas und der ausreichende Einschluß des Plasmas durch das magnetische Feld. Bisher vorgeschlagene Scheitelfeldkonfigurationen bedingten im allgemeinen im wesentlichen stabile Vorrichtungen. Jedoch werden einige Plasmateilchen durch diese Feldkonfigurationen nicht eingeschlossen, da sie auslecken, indem sie sich zwischen den Linien der Radialkomponenten des magnetischen Feldes hindurchdrücken. Bei einem Plasma hoher Dichte wird der Leckverlust außerordentlich hoch.

Unter experimentellen thermonuklearen Bedingungen verhält sich ein Plasma weitgehend wie ein

Verfahren zum magnetischen Einschließen eines
Plasmas

Anmelder:

United States Atomic Energy Commission,
Germantown, Md. (V. St. A.)

Vertreter:

Dr.-Ing. W. Abitz, Patentanwalt,
München 27, Pienzenauer Str. 28

Als Erfinder benannt:

Raphael Anthony Dandl, Oak Ridge, Tenn.;
Robert Justice, Knoxville, Tenn. (V. St. A.)

Beanspruchte Priorität:

V. St. v. Amerika vom 23. Juni 1961 (119 247) ·

ideales Gas und übt einen nach auswärts gerichteten Druck aus, dessen Größe direkt der Temperatur und der Dichte proportional ist. Wenn ein Plasma eingeschlossen werden soll, darf sein nach außen gerichteter Druck P_p nicht den nach innen gerichteten Druck P_B, den das Magnetfeld ausüben kann, überschreiten. Da das Plasma als ideales Gas anzusehen ist, ist P_p = nkT, wobei η die Teilchendichte, T die Temperatur in ⁰K und k die Boltzmann-Konstante ist. Der maximale, nach innen gerichtete Druck P_B, den das Magnetfeld erzeugen kann, wird bestimmt durch die Gleichung B²Zan, wobei B die Magnetfeldstärke in Gauß ist. Das Verhältnis dieser beiden Drücke wird mit β bezeichnet, wobei β = nkTf (B²Zan) ist.

Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine magnetische Feldkonfiguration zu schaffen, in der keine radialen Komponenten des magnetischen Feldes vorhanden sind und die so beschaffen ist, daß ein hoher Wert von β (annähernd 1) realisiert werden kann, d. h., es soll eine magnetische Scheitelfeldkonfiguration mit starkem positivem Feldanstieg erzeugt werden, um die hydromagnetische Stabilität für den Plasmaeinschluß zu gewährleisten.

Diese Aufgabe wird gemäß der Erfindung dadurch gelöst, daß zur Erzeugung eines Feldbereiches mit verschwindend kleinen radialen Feldkomponenten in der Mitte des Raums zwischen den Spulenpaaren,

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der durch Scheitellinien und Scheitelpunkte begrenzt ist und die magnetische Einschließungszone für das Plasma bildet, die äußeren Spulen jedes Paares gleichsinnig und in entgegensetzter Richtung wie die inneren Spulen jedes Paares erregt werden, und daß der durch die inneren Spulen fließende Strom dreimal so groß oder größer ist als der durch die äußeren Spulen fließende Strom.

Die Erfindung unterscheidet sich demnach von einem bekannten Gegenstand, der ebenfalls zwei koaxial im Abstand voneinander angeordnete konzentrische Spulenpaare und Einrichtungen zum Erregen dieser Spulenpaare besitzt, dadurch daß die äußeren Spulen in entgegengesetzter Richtung wie die inneren Spulen vom Erregerstrom durchflossen werden und der die inneren Spulen durchsetzende Strom größer als der die äußeren Spulen durchsetzende Strom ist. Durch diese Maßnahme wird die angestrebte verbesserte Scheitelkonfiguration mit positivem Feldgradienten ohne radiale Feldkomponenten erhalten. Dadurch wird die Ausleckgeschwindigkeit von Plasmateilchen, die bekannten Scheitelfeldkonfigurationen anhaftet, wesentlich vermindert. Auf diese Weise kann ein Plasma hoher Dichte magnetisch eingeschlossen werden, und das eingeschlossene Plasma wird in einem Feld mit einem zunehmend größeren Feldgradienten ohne radiale Komponenten gehaltert, wenn es einen Druck gegen dieses Einschließungsfeld ausübt, wobei ein hoher /3^LWert realisiert werden kann. 3'

Die verbesserte Scheitelfeldgeometrie nach dem Erfindungsvorschlag ist so orientiert, daß eine Injektion von Plasma längs der Feldlinien in den Bereich geringer Feldstärke, der durch diese Geometrie bedingt ist, erfolgen kann, wobei das Plasma durch Kollision mit neutralen Gasmolekülen oder mit eingeschlossenen Ionen eingefangen wird. Der Plasmaeinfang in dem Bereich niederer Feldstärke kann ebenfalls dadurch erreicht werden, daß Elektronen mit hoher Energie in der Nachbarschaft dieses Bereiches erzeugt werden. Diese Elektronen erzeugen dann ein Plasma, indem sie das vorhandene Gas ionisieren.

An Hand der Figuren wird die Erfindung beispielsweise näher erläutert.

F i g. 1 zeigt eine schematische Ansicht der Anordnung der magnetischen Feldspulen gemäß der Erfindung, wobei eine Form der resultierenden magnetischen Scheitel eingezeichnet ist;

F i g. 2 zeigt in schematischer Ansicht eine An-Ordnung der Komponenten, um ein Plasma in der in der F i g. 1 dargestellten magnetischen Feldkonfiguration zu erzeugen;

F i g. 3 zeigt eine schematische Ansicht einer abgeänderten magnetischen Feldkonfiguration nach der Fig.l;

F i g. 4 zeigt eine schematische Ansicht einer anderen abgeänderten magnetischen Feldkonfiguration nach der Fig. 1;

F i g. 5 zeigt in schematischer Ansicht eine andere Anordnung der Komponenten, um ein Plasma in einer in der F i g. 1 dargestellten magnetischen Feldgeometrie zu erzeugen.

In der F i g. 1 ist eine Anordnung dargestellt, mit der das Verfahren gemäß der Erfindung durchgeführt £ werden kann. Eine innere ringförmige Spiegelspule 1 ist von einer äußeren ringförmigen Spiegelspule 2 umgeben und im Abstand von dieser angeordnet. Im

Abstand von den Spulen 1 und 2 sind ein weiteres Paar von konzentrischen ringförmigen Spiegelspulen 3 und 4 angeordnet. Die Spulen 1, 2, 3 und 4 werden durch nicht dargestellte Gleichstromquellen erregt. Die inneren Spulen X und 3 werden mit einem dreimal so großen oder größeren Strom als die äußeren Spulen 2 und 4 erregt, um einen Bereich 5 von niederer Feldstärke oder der Feldstärke Null zu erzeugen, wie in der F i g. 1 zu sehen ist. Jede der äußeren Spulen 2 und 4 wird auf solche Weise erregt, daß ein verstärktes Magnetfeld entsteht, während die inneren Spulen 1 und 3 so erregt werden, daß sie ein Magnetfeld erzeugen, das dem der äußeren Spulen entgegengesetzt gerichtet ist. Die Richtung der magnetischen Feldlinien wird teilweise durch die Linien 6, 7, 8 und 9 angedeutet. Es kann ersehen werden, daß die resultierende magnetische Feldkonfiguration zwei Scheitelpunkte längs der Z-Achse des Feldes und zwei Linienscheitel erzeugt, die etwa längs um 45° zur Z-Achse geneigten Linien folgen und daß die magnetischen Feldlinien, die die Linienscheitel erzeugen, zwischen den inneren und äußeren Spulen verlaufen, wie dargestellt ist.

Die in der F i g. 1 dargestellte Vorrichtung besitzt einen positiven Feldgradienten in einer Ebene, die durch die Mitte des Bereichs 5 verläuft und die parallel zu den Innenflächen der Spulen \, 2 und 3 und 4 ist. Dieser Feldgradient besitzt keine radiale Komponente außerhalb des Bereichs 5, und das Vorhandensein eines solchen Gradienten dient für den Einschluß eines dichten Plasmas in der in Zusammenhang mit der F i g. 2 beschriebenen Art und Weise.

Die in der F i g. 1 dargestellte Vorrichtung ist in einem geeigneten Vakuumraum eingeschlossen, der auf einen Druck von etwa 3 · 10~⁷ mm Hg evakuiert ist. Dieser Druck ist nicht kritisch und nur beispielsweise angegeben. Es wird eine durchschnittliche Flußdichte von beispielsweise etwa 3500 Gauß des magnetischen Feldes an den äußeren konvexen Grenzschichten des Bereichs 5 aufrechterhalten. Diese Flußdichte kann, wenn gewünscht, größer sein, was durch Einregulieren des Stromflusses der Spulen 1, 2, 3 und 4 bewerkstelligt werden kann.

Die in der F i g. 1 dargestellte Anordnung kann als Einrichtung zum Einschließen eines konzentrierten, energiereichen Plasmas in dem Bereich niederer Feldstärke verwendet werden. F i g. 2 zeigt eine Anordnung, bei der ein energiereiches, sehr dichtes Plasma in das magnetische Volumen, das in der F i g. I dargestellt ist, injiziert werden kann. Bei der in der F i g. 2 dargestellten Anordnung ist eine innere, ringförmige, magnetische Spiegelspule 15 von einer äußeren, ringförmigen, magnetischen Spiegelspule 16 umgeben. Ein Plasmabeschleuniger 35 ist koaxial zwischen den Spulen 15 und 16 angeordnet. Der Plasmabeschleuniger 35 besitzt eine Anode 20 und eine Kathode 21 sowie eine Elektrode 22. Ein ringförmiger Isolator 23 ist zwischen der Elektrode 22 und der Anode 20 angeordnet. Ebenfalls ein ringförmiger Isolator 24 befindet sich zwischen der Elektrode 22 und der Kathode 21. Gas aus einer nicht dargestellten Gasquelle wird in den Verteiler der Entladungskammer dem Plasmabeschleuniger 35 durch Leitungen 25 und 26 eingeleitet. Einzelheiten der Betriebsweise des vorliegend benutzten Plasmabeschleunigers sind a. a. O. beschrieben. Mit diesem Plasmabeschleuniger wird ein Plasma von etwa

3 ■ IO¹¹ Teilchen pro Kubikzentimeter in einem Magnetfeld mit der Feldstärke von 3000 Gauß und einer Betriebsspannung von etwa 1800 Volt zwischen Anode und Kathode erzeugt. Das Plasma aus dem Beschleuniger ist nicht durch neutrale Teilchen verunreinigt. Die Plasmadichte des von dem Beschleuniger erzeugten Plasmas ist etwa dem Quadrat der magnetischen Feldstärke proportional.

Im Abstand von den Spulen 15 und 16 und der Ionenschleuder 35 sind ein zweites Paar von konzentrischen inneren und äußeren magnetischen Spiegelfeldspulen 17 und 18, sowie ein zweiter Plasmabeschleuniger 36 angeordnet, der in dem Raum zwischen der inneren Spule 17 und der äußeren Spule 18 sich befindet. Der Beschleuniger 36 weist eine Anode 27, eine Kathode 28 und eine Zwischenelektrode 29 auf. Ein ringförmiger Isolator 31 befindet sich zwischen der Elektrode 29 und der Anode 27, und ein ringförmiger Isolator 30 ist zwischen der Elektrode 29 und der Kathode 28 angeordnet. Gas aus einer nicht dargestellten Gasquelle wird zu dem Verteiler der Ionenschleuder 36 über Leitungen 32 und 33 zugeleitet. Der Beschleuniger 36 arbeitet in der gleichen Weise wie der Beschleuniger 35.

Die magnetische Feldkonfiguration, die in der F i g. 2 dargestellt ist, wird auf dieselbe Weise, wie in Zusammenhang mit der F i g. 1 oben beschrieben wurde, erhalten. Ein dichtes, neutralisiertes Plasma 37 wird von dem Beschleuniger 35 injiziert, und dieses Plasma folgt den Feldlinien in der Plasmaeinschließungszone 19. Ebenso wird ein dichtes, neutralisiertes Plasma 38 von dem Beschleuniger 36 injiziert, und dieses Plasma folgt den Feldlinien in der Plasmaeinfangzone 19. Die Zone 19 in der F i g. 2 ist der Bereich geringer Feldstärke, der durch die Spulen 15,16,17 und 18 erzeugt wird. Das in der Zone 19 eingefangene Plasma verhält sich im wesentlichen stabil gegen willkürliche Feldformationen, da die Feldlinien sich überall von dem Plasma in diesem Bereich wegkrümmen. Der positive Feldgradient außerhalb der Zone 19 in einer durch diese Zone gelegten Ebene erzeugt, wie im Zusammenhang mit der F i g. 1 erläutert wurde, einen Einschluß eines sehr dichten Plasmas innerhalb dieses Bereichs. Da keine radialen Komponenten dieses positiven Feldgradienten vorhanden sind, wird das Plasma ausreichend in dieser Zone 19 gehalten, ohne schwerwiegende Leckverluste durch die Scheitel zu erleiden. Dadurch wird die hydrodynamische Stabilität des Plasmas mit einem hohen Wert des Verhältnisses β erreicht. Das resultierende Plasma, das in dem Bereich 19 eingeschlossen ist, kann dann z. B. als Neutronenquelle funktionieren.

Variationen der grundsätzlichen Scheitelkonfiguration, die in der F i g. 1 dargestellt ist, können erhalten werden, indem der Strom in einem Satz der Spiegelfeldspulen verändert wird, um den Ort und die Form der Nullfeldzone oder Zone geringer Feldstärke zu verändern. In den F i g. 3 und 4 sind Beispiele solcher Variationen dargestellt. Konzentrische innere und äußere Spiegelfeldspulen Γ und 2' sind im Abstand von konzentrischen inneren und äußeren Spiegelfeldspulen 3' und 4' angeordnet. Die magnetischen Feldlinien sind teilweise durch die Linien 6', 7', S' und 9' angedeutet. In der F i g. 3 ist eine Anordnung dargestellt, bei der die Stromstärke bei den inneren Spiegelfeldspulen 1' und 3' größer ist als die bei der in der F i g. 1 dargestellten Anordnung verwendete,

während die Stromstärke in den Spulen 2' und 4'' dieselbe wie bei der Anordnung gemäß der F i g. 1 ist, so daß der Bereich niederer Feldstärke oder der' Nullfeldbereich ein Kreis oder ein Torus ist, dessen Mitte die Z-Achse ist. In der F i g. 4 ist eine Anordnung dargestellt, bei der die Stromstärke in den äußeren Spiegelfeldspulen 2' und 4' größer als bei der in der F i g. 1 dargestellten Anordnung ist, während die Stromstärke in den Spulen 1' und 3' gleich

ίο wie in der F i g. 1 ist, so daß zwei Bereiche geringer Feldstärke oder der Feldstärke Null auf der Z-Achse erzeugt werden, die im gleichen Abstand von der Mittelebene der Spiegelfeldspulen angeordnet sind. In jeder dieser zwei abgeänderten Feldkonfigura-

x5 tionen ist es möglich, ein Plasma zu erzeugen und in der in Zusammenhang mit der Fig.2 oben dargestellten Weise aufrechtzuerhalten.

F i g. 5 zeigt eine andere Ausführungsform zur Erzeugung eines Plasmas. Bei der in der F i g. 5 dargestellten Vorrichtung wird eine innere ringförmige Spiegelspule 40 von einer äußeren ringförmigen Spiegelspule 41 im Abstand umgeben. Im Abstand von den Spulen 40 und 41 ist ein anderes Paar von konzentrischen, ringförmigen Spiegelspulen 42 und 43 angeordnet. Die Spulen 40, 41, 42 und 43 werden von Gleichstromquellen (nicht dargestellt) erregt. Die inneren Spulen 40 und 42 werden etwa mit dem dreifach größeren Strom als die äußeren Spulen 41 und 43 erregt. Jede dieser äußeren Spulen 41 und 43 wird auf solche Weise erregt, daß sie ein Magnetfeld erzeugen, das dem durch die inneren Spulen erzeugten Magnetfeld entgegengesetzt ist, um einen Bereich 44 geringer Feldstärke zu erhalten.

Die in der F i g. 5 dargestellte Vorrichtung ist in einem geeigneten evakuierten Raum eingeschlossen, der in gleicher Weise, wie im Zusammenhang mit der Anordnung, die in der Fig. 1 dargestellt ist, erläutert wurde, evakuiert ist. Ein Plasma kann in der in der F i g. 5 dargestellten Vorrichtung auf folgende Weise erzeugt v/erden. Ein MikrowellenhoM-raum 51 ist in der Mitte des Feldes, wie in der Zeichnung dargestellt ist, angeordnet, um die darin befindlichen Elektronen auf ihre Cyclotronfrequenz zu beschleunigen. Die Wandungen dieses Hohlraums 51 sind perforiert. Ein Mikrowellensender 49 ist über eine Wellenleitung 50 mit dem Hohlraum 51 verbunden. Der Hohlraum 51 erzeugt in Kombination mit dem Sender 49 und dem Wellenleiter 50 ein ringförmiges Resonanzvolumen 52, wie in der Zeichnung angedeutet ist. Das Resonanzvolumen ist ringförmig, da das Magnetfeld zylindersymmetrisch ist. Der Querschnitt dieses Volumens 52 ist in Wirklichkeit nicht kreisförmig, jedoch zum Zweck der Darstellung als Kreis angedeutet. Die auf ihre Cyclotronfrequenz beschleunigten Elektronen werden in dem Resonanzvolumen 52 eingefangen. Diese Elektronen präzisieren auf Kreisbahnen innerhalb des Ringvolumens 52, so daß zwei resultierende elektrische Kreisströme parallel zu der Achse des Volumens §2 vorhanden sind. Diese Ströme sind entgegengesetzt gerichtet, einer längs der inneren Peripherie des Volumens 52 und der andere längs der äußeren Peripherie des Volumens 52. Bevor der Mikrowellensender erregt wird, ist die Magnetfeldkonfiguration der in der F i g. 5 dargestellten Anordnung dieselbe wie die Scheitelkonfiguration der in der F i g. 1 dargestellten Anordnung und besitzt einen Bereich 44 geringer Magnetfeldstärke. Nachdem der Mikro-

Claims

wellensender erregt ist, um den Ring von eingefangenen heißen Elektronen zu erzeugen, wird das durch die Elektronen erzeugte Feld die axiale Scheitelfeldkonfiguration modifizieren, so daß eine resultierende Feldkonfiguration entsteht, bei der der Bereich 44 geringer Feldstärke das ringförmige Resonanzvolumen 52, wie in der F i g. 5 dargestellt ist, umfaßt. Dieser Bereich 44 wird teilweise durch die Spiegelfeldspulen und teilweise von dem diamagnetischen Plasma gebildet, das in dem Bereich 44 infolge Ionisation des Gases durch die darin befindlichen beschleunigten Elektronen erzeugt wird. Die Richtungen der magnetischen Feldlinien der resultierenden Feldkonfiguration sind zum Teil durch die Linien 45, 46, 47 und 48 angedeutet. Die magnetische Feldstärke ist so gewählt, daß die Elektronencyclotronfrequenz in einer Zone innerhalb des Hohlraums 51 dieselbe ist wie die injizierte Senderfrequenz. Die Senderfrequenz kann etwa 2,25 Kmc beispielsweise betragen.

Die energiereichen Elektronen werden in dem Resonanzvolumen 52 eine Energie in Abhängigkeit von ihrer Aufenthaltsdauer und der angewandten Feldstärke absorbieren. Sie werden das in dem Bereich befindliche Gas ionisieren. Das Plasma, das dadurch gebildet wird, wird in der scheiteiförmigen Einschlußzone 44 niederer Feldstärke eingeschlossen und umgibt das Resonanzvolumen. Das oben beschriebene Verfahren der Plasmabildung und des Plasmaeinfangs kann getrennt oder in Verbindung mit den koaxialen Plasmabeschleunigern, die in der F i g. 2 dargestellt sind, verwendet werden. Wenn es zusammen mit diesen Plasmabeschleunigern angewandt wird, werden diese und das Resonanzhohlraumverfahren sich einander bei der Bildung und beim Einschluß von energiereichem Plasma in der Einschlußzone 44 nach der F i g. 5 ergänzen.

gnetspulen umgeben ist, wobei jeweils zwei Magnetspulen konzentrisch zueinander und die konzentrischen Spulenpaare in axialer Flucht im Abstand voneinander angeordnet sind, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung eines Feldbereiches mit verschwindend kleinen radialen Feldkomponenten in der Mitte des Raumes zwischen den Spulenpaaren, der durch Scheitellinien und Scheitelpunkte begrenzt ist und die magnetische Einschließungszone für das Plasma bildet, die äußeren Spulen jedes Paares gleichsinnig und in entgegengesetzter Richtung wie die inneren Spulen jedes Paares erregt werden und daß der durch die inneren Spulen fließende Strom dreimal so groß oder größer ist als der durch die äußeren Spulen fließende Strom.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß neutrales Plasma in die Einschließungszone mit einem zwischen den inneren und äußeren angeordneten Plasmabeschleuniger injiziert wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Plasmaeinschlußbereich niederer Feldstärke von einem Mikrowellenresonanzhohlraum umgeben wird und daß zur Modifikation des durch die Magnetfeldspulen erzeugten Feldes unter Verwendung eines Mikrowellensenders, der über einen Wellenleiter mit dem Resonanzhohlraum verbunden ist, die Elektronen auf ihre Zyklotronfrequenz beschleunigt werden und ein ringförmiges Resonanzvolumen in dem Resonanzhohlraum bilden, so daß die Elektronen das Gas in diesem Hohlraum ionisieren und ein Plasma bilden, das zusammen mit dem Plasma, das von den Plasmabeschleunigern gebildet wird, in dem resultierenden Bereich geringer Feldstärke eingeschlossen ist.

Patentansprüche:

1. Verfahren zum magnetischen Einschließen 40 ^In Betracht gezogene Druckschriften:

eines Plasmas in einem evakuierten elektrischen Französische Patentschriften Nr. 1 224 262, Entladungsgefäß, das von wenigstens vier Ma- 1230 661.

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

709 5*7/316 3.67 © Bundesdruckerei Berlin