DE1235265B - Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen aus Schmelzen - Google Patents
Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen aus SchmelzenInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C30—CRYSTAL GROWTH
- C30B—SINGLE-CRYSTAL GROWTH; UNIDIRECTIONAL SOLIDIFICATION OF EUTECTIC MATERIAL OR UNIDIRECTIONAL DEMIXING OF EUTECTOID MATERIAL; REFINING BY ZONE-MELTING OF MATERIAL; PRODUCTION OF A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; SINGLE CRYSTALS OR HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; AFTER-TREATMENT OF SINGLE CRYSTALS OR A HOMOGENEOUS POLYCRYSTALLINE MATERIAL WITH DEFINED STRUCTURE; APPARATUS THEREFOR
- C30B15/00—Single-crystal growth by pulling from a melt, e.g. Czochralski method
- C30B15/14—Heating of the melt or the crystallised materials
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Description
BUNDESREPUBLIK DEUTSCHLAND DEUTSCHES «?ÄW PATENTAMT
Int. Cl.:
BOId
PATENTSCHRIFT
Nummer:
Aktenzeichen:
Anmeldetag:
BOIj
Deutsche KL: 12 c - 2
Deutsche KL: 12 c - 2
1 235 265
N22191IVc/12c
9. Oktober 1962
2. März 1967
14. September 1967
N22191IVc/12c
9. Oktober 1962
2. März 1967
14. September 1967
Auslegetag:
Ausgabetag:
Patentschrift stimmt mit der Auslegeschrift überein
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen, insbesondere Einkristallstäben,
aus Schmelzen, bestehend aus einem Schmelztiegel, einem sich über diesem Tiegel befindenden,
senkrecht beweglichen Träger, der an seinem dem Tiegel zugewandten Ende mit einem Halter für
einen Keimkristall verbunden ist.
Es ist üblich,' bei einer solchen Vorrichtung den im Halter angeordneten Keimkristall in eine sich im
Tiegel befindende Schmelze zu tauchen und dann den Halter mit dem Keimkristall langsam aufzuziehen,
wobei das geschmolzene Material am Keimkristall erstarrt und so ein meistens stabförmiger Kristall anwächst.
Es ist in den meisten Fällen erwünscht, daß dieser anwachsende Kristall nur wenige Gitterfehler enthält.
Es ist daher bekannt, einen Keimkristall zu wählen, der keine oder nur sehr wenige Gitterfehler aufweist.
Es ist weiter bekannt, den Keimkristall erst in die Schmelze zu tauchen, nachdem er einige Zeit
unmittelbar über der Schmelze geschwebt hat, um so den Temperaturunterschied zwischen dem Keimkristall
und der Schmelze im Zeitpunkt des Eintauchens in die Schmelze möglichst klein zu halten.
Um einer Abkühlung des bereits angewachsenen Kristalls entgegenzuwirken und so die Zahl der
Gitterfehler, hauptsächlich in der Randzone des Kristalls, niedrig zu halten, ist es bekannt, einen
Strahlungsschirm vorzusehen, der dem entstehenden Kristall durch Strahlung Wärme zuführt und so einer
ungleichmäßigen Abkühlung des Kristalls entgegenwirkt.
In der Praxis hat sich jedoch gezeigt, daß die Zahl der Gitterfehler im angewachsenen Material oft
größer ist als im Keimkristall.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung zu schaffen, bei deren Anwendung zum
Ziehen von Kristallen aus Schmelzen die Zunahme der Zahl der Gitterfehler im angewachsenen Material
gegenüber dem Keimkristall verringert oder ganz unterdrückt wird.
Der Erfindung liegt die Erkenntnis zugrunde, daß wenn der Keimkristall unmittelbar über der Schmelze
gehalten wird, er zwar auf der der Schmelze zugewandten Seite erhitzt wird, daß er aber auf der
anderen Seite, an der er im Halter befestigt ist, verhältnismäßig stark abgekühlt wird, da durch den
Halter Wärme abgeleitet wird. Die genannte Aufgabe wird in Anwendung dieser Erkenntnis durch eine
Vorrichtung der eingangs genannten Art gelöst, die dadurch gekennzeichnet ist, daß der Schirm scheibenförmig
um den Träger angeordnet ist und mit dem Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen
aus Schmelzen
aus Schmelzen
Patentiert für:
N.V. Philips' Gloeilampenfabrieken, Eindhoven
(Niederlande)
(Niederlande)
Vertreter:
Dipl.-Ing. E.-E. Walther, Patentanwalt,
Hamburg 1, Mönckebergstr. 7
Als Erfinder benannt:
Adolf Steinemann, Genf (Schweiz)
Beanspruchte Priorität:
Niederlande vom 13. Oktober 1961 (270 246) -
Halter thermisch in gutem Kontakt steht und Strahlung absorbieren und dem Kristall über den
Halter Wärme zuleiten kann.
Wenn der Strahlungsschirm unmittelbar über die Schmelze gehalten wird, kann er einen großen
Betrag an Strahlungswärme auffangen, der durch Wärmeleitung durch den Halter einerseits dem
Keimkristall und andererseits dem Träger zugeführt wird. Solange sich also der Schirm unmittelbar über
der Schmelze befindet, wird die Abkühlung durch den Träger zum größten Teil ausgeglichen. Je weiter sich
der , Schirm während des Aufziehens von der Schmelze entfernt und dabei weniger Wärme auffängt
oder sogar Wärme ausstrahlt, um so mehr wird dieser Ausgleich abnehmen, bis der Schirm dem Halter
schließlich Wärme entzieht. In beiden Fällen wird dabei die Temperatur des Halters fallen und der genannte
Ausgleich abnehmen, was als ein zusätzlicher Vorteil zu betrachten ist. Je weiter nämlich der
Kristall anwächst, um so größer wird der Wärmewiderstand zwischen dem Halter und der Stelle, wo
der Kristall anwächst, werden. Durch die allmählich fallende Temperatur des Halters wird jedoch die für
das Anwachsen des Kristalls erforderliche Wärmeableitung über den Keimkristall erleichtert.
Der Schirm kann aus Graphit bestehen; er kann auch aus Metall, z. B. Wolfram oder Molybdän, hergestellt
werden und ist vorzugsweise auf seiner dem Tiegel zugewendeten Seite geschwärzt, z. B. durch
Anbringen einer Rußschicht.
709 673/19
Die waagerechten Abmessungen des Schirmes sind vorzugsweise wenigstens ebenso groß wie diejenigen
der Oberseite des Tiegels, wodurch der zusätzliche Vorteil erhalten wird, daß der Schirm die
Gefahr eines Hineinfallens von Verunreinigungen in den Tiegel reduziert.
Die Erfindung wird an Hand der Zeichnung näher erläutert.
Fig. 1 zeigt eine Vorrichtung zum Ziehen von
Kristallen in einer Lage, bei der ein Keimkristall sich unmittelbar über einer Schmelze befindet;
F i g. 2 zeigt die gleiche Vorrichtung wie in F i g. 1 in einer Lage, bei der der Keimkristall in die
Schmelze getaucht ist;
Fig. 3 zeigt die gleiche Vorrichtung wie die Fig. 1
und 2 während des Aufziehens eines Kristalls aus der Schmelze.
Die in den Fig. 1 bis 3 dargestellte Vorrichtung enthält einen Schmelztiegel 1 aus Graphit, der auf
einer Stütze 2 aus Quarzglas aufliegt. Der Tiegel 1 ist von einer Hochfrequenzspule 3 umgeben, die durch
einen nicht dargestellten Hochfrequenzgenerator gespeist werden kann und durch die der Tiegel erhitzt
werden kann, so daß sich eine Schmelze 4 aus dem Material des aufzuziehenden Kristalls bilden kann.
Weiter ist die Vorrichtung mit einem senkrecht beweglichen Träger 5 versehen. Dieser Träger besitzt
einen stabförmigen Teil 6, der mittels eines über eine Rolle 8 laufenden Drahtes 9 mit Gegengewicht 10 mit
einem Antriebsmotor 7 verbunden ist, so daß der Träger senkrecht bewegt werden kann. Der Träger
enthält weiter einen Kristallhalter 11, an dem ein Kristall 12 aus dem aufzuziehenden Kristallmaterial
befestigt werden kann.
Um den Träger 5 befindet sich ein scheibenförmiger Strahlungsschirm 13, der mittels einer Mutter 14
an dem Kristallhalter festgeklemmt ist, wodurch eine thermisch gut leitfähige Verbindung zwischen dem
Schirm und dem Halter erhalten wird. Der Strahlungsschirm 13 besteht aus Graphit oder aus einem
feuerfesten Metall, z. B. Molybdän, Wolfram, Tantal oder Platin, das wenigstens auf der Unterseite des
Schirmes mit Ruß bedeckt ist.
In F i g. 1 ist die Vorrichtung in einer Lage gezeichnet, bei der der Halter so weit gesenkt ist, daß
der Keimkristall 12 sich unmittelbar über der Schmelze 4 befindet. Der Keimkristall 12 und der
Keimkristallhalter 11 werden dabei wohl Wärmestrahlung von der Schmelze auffangen, aber durch
die verhältnismäßig kleinen Abmessungen des Keimkristalls und des Trägers ist diese Menge Wärmestrahlung
nur gering und durch die Wärmeableitung zum stabförmigen Teil 6 des Trägers nicht imstande,
den Keimkristall in wesentlichem Maße zu erhitzen. Weil jedoch der Strahlungsschirm 13 sich auch
verhältnismäßig dicht· dem Tiegel mit Schmelze genähert hat, wird auch dieser Schirm Strahlungswärme
von der Oberseite des Tiegels und der Schmelze auffangen. Infolge seiner großen Oberfläche
und seines hohen Absorptionsvermögens für Strahlung auf seiner Unterseite wird der Schirm 13
viel größere Mengen Wärme auffangen können als der Keimkristallhalter 11 und der Keimkristall 12. Infolge
seines gut wärmeleitfähigen Kontaktes mit dem Keimkristallhalter 11 wird der Schirm 13 diese große
Menge Wärme einerseits dem Träger 5 zuführen können, so daß der Wärmeableitung vom Keimkristall
zum Träger entgegengewirkt wird, und andererseits über den Keimkristallhalter dem Keimkristall
zuführen können, wodurch die Temperatur des Keimkristalls 12 sich bedeutend näher an die
Temperatur der Schmelze annähern kann als bei Abwesenheit des Schirmes 13.
Bei der darauffolgenden weiteren Herabsenkung des Halters 5, bis ein Teil des Keimkristalls 12 in die
Schmelze 4 getaucht ist (s. F i g. 2), ist der Temperaturunterschied zwischen der Schmelze 4 und dem
Keimkristall 12 schon derart verkleinert, daß bei dem plötzlich gebildeten thermischleitfähigen Kontakt
zwischen der Schmelze 4 und dem Keimkristall 12 das Auftreten großer thermischer Spannungen verhütet
wird.
Nachdem der Halter 5 einige Minuten in der in F i g. 2 dargestellten Lage gelassen ist, wobei das
Unterende des Keimkristalls 12 abschmilzt, wird der Halter langsam, z. B. mit einer Geschwindigkeit von
0,5 mm in der Minute, hochgezogen, wobei an den Keimkristall ein stabförmiger Einkristall 15 anwächst
(s. F i g. 3). Die beim Anwachsen gebildete Erstarrungswärme soll über den schon angewachsenen
Teil des Kristalls 15, den Keimkristall 12 und den Halter 11 abgeleitet werden.
Claims (5)
1. Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen aus Schmelzen, bestehend aus einem Schmelztiegel,
einem sich über diesem Tiegel befindenden, senkrecht beweglichen Träger, der an seinem dem
Tiegel zugewandten Ende mit einem Halter für einen Keimkristall verbunden ist, und einem
Strahlungsschirm, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schirm scheibenförmig um den Träger angeordnet ist und mit dem Halter thermisch in gutem Kontakt steht und Strahlung
absorbieren und dem Keimkristall über den Halter Wärme zuleiten kann.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet,
daß der Schirm aus Graphit besteht.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Schirm aus Metall besteht,
das wenigstens auf der dem Tiegel zugewendeten Seite geschwärzt ist.
4. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß die waagerechten
Abmessungen des Schirmes wenigstens ebenso groß sind wie diejenigen der Oberseite des Tiegels.
■
5. Vorrichtung nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der Schirm an den
Kristallhalter festgeschraubt ist.
In Betracht gezogene Druckschriften:
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 108 185;
USA.-Pateritschrift Nr. 3 002 824.
Deutsche Auslegeschrift Nr. 1 108 185;
USA.-Pateritschrift Nr. 3 002 824.
Hierzu 1 Blatt Zeichnungen
709 517/343 2. 67 © Bundesdruckerei Berlin
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
NL270246 | 1961-10-13 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE1235265B true DE1235265B (de) | 1967-03-02 |
Family
ID=19753342
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE1962N0022191 Pending DE1235265B (de) | 1961-10-13 | 1962-10-09 | Vorrichtung zum Ziehen von Kristallen aus Schmelzen |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
BE (1) | BE623518A (de) |
CH (1) | CH416573A (de) |
DE (1) | DE1235265B (de) |
GB (1) | GB997444A (de) |
NL (1) | NL270246A (de) |
SE (1) | SE302445B (de) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997032059A1 (fr) * | 1996-02-29 | 1997-09-04 | Sumitomo Sitix Corporation | Procede et appareil pour retirer un monocristal |
CN102471927B (zh) * | 2009-07-17 | 2016-05-04 | 丰田自动车株式会社 | SiC单晶的制造方法 |
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US3002824A (en) * | 1956-11-28 | 1961-10-03 | Philips Corp | Method and apparatus for the manufacture of crystalline semiconductors |
-
0
- BE BE623518D patent/BE623518A/xx unknown
- NL NL270246D patent/NL270246A/xx unknown
-
1962
- 1962-10-09 DE DE1962N0022191 patent/DE1235265B/de active Pending
- 1962-10-10 CH CH1186862A patent/CH416573A/de unknown
- 1962-10-10 GB GB3838162A patent/GB997444A/en not_active Expired
- 1962-10-10 SE SE1084462A patent/SE302445B/xx unknown
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
SE302445B (de) | 1968-07-22 |
GB997444A (en) | 1965-07-07 |
BE623518A (de) | |
NL270246A (de) | |
CH416573A (de) | 1966-07-15 |
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