DE1231355B - Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-anordnung mit einem legierten pn-UEbergang - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer Halbleiter-anordnung mit einem legierten pn-UEbergang

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DE1231355B DES86813A DES0086813A DE1231355B DE 1231355 B DE1231355 B DE 1231355B DE S86813 A DES86813 A DE S86813A DE S0086813 A DES0086813 A DE S0086813A DE 1231355 B DE1231355 B DE 1231355B
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Dipl-Phys Joachim Dathe
Dipl-Phys Leo Grasser
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1764056B1 (de) * 1967-03-27 1972-03-09 Western Electric Co Verfahren zum herstellen einer halbleiteranordnung

Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB924121A (en) * 1959-11-13 1963-04-24 Siemens Schucertwerke Ag A monocrystalline semi-conductor device

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB924121A (en) * 1959-11-13 1963-04-24 Siemens Schucertwerke Ag A monocrystalline semi-conductor device

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1764056B1 (de) * 1967-03-27 1972-03-09 Western Electric Co Verfahren zum herstellen einer halbleiteranordnung
DE1764056C2 (de) * 1967-03-27 1984-02-16 Western Electric Co., Inc., 10038 New York, N.Y. Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung

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