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Die vorliegende Offenbarung bezieht sich auf das technische Gebiet der Anzeige, und insbesondere auf ein Anzeigepanel und eine Anzeigevorrichtung.
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Hintergrund der Erfindung
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Anzeigepanels mit OLED (Organic Light Emitting Diode, organische Leuchtdioden) haben die Vorteile von großer Farbskala, Dünnheit und Flexibilität und werden auf dem Anzeigegebiet weit verbreitet angewendet. Im Stand der Technik hateinOLED-Anzeigepanel jedoch eine relativ geringe Gesamtdurchlässigkeit und ist im Allgemeinen gelblich, so dass ein Bild, das durch eine unter dem OLED-Anzeigepanelangeordnet Kamera erhalten wird, für eine anormale Farbe anfällig ist.
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Es sei darauf hingewiesen, dass die im Hintergrundabschnitt offenbarten Informationen nur zur Verbesserung des Verständnisses des Hintergrunds der vorliegenden Offenbarung dienen und daher Informationen enthalten können, die nicht den Stand der Technik bilden, der einem Durchschnittsfachmann bereits bekannt ist.
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Offenbarung der Erfindung
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Die Aufgabe der vorliegenden Offenbarung ist es, die oben erwähnten Mängel des Standes der Technik zu überwinden. Somit stellt die vorliegende Offenbarung ein Anzeigepanel und eine Anzeigevorrichtung bereit, die die Genauigkeit eines Erfassungsergebnisses einer lichtempfindlichen Komponente verbessern.
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Gemäß einem Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird ein Anzeigepanel bereitgestellt, das einen ersten Anzeigebereich und mindestens einen zweiten Anzeigebereich an einer Seite des ersten Anzeigebereichs aufweist, wobei eine Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs größer als eine Durchlässigkeit des ersten Anzeigebereichs ist;
wobei das Anzeigepanel ein Basissubstrat, eine Treiberschaltungsschicht und eine lichtemittierende Pixelschicht umfasst, die nacheinander gestapelt sind;
wobei das Basissubstrat mindestens eine organische Materialschicht umfasst, die mit einer Antireflexionsrille versehen ist, die zumindest teilweise mit dem zweiten Anzeigebereich überlappt; wobei die Dicke eines Teils der mindestens einen organischen Materialschicht, der sich in der Nähe der Antireflexionsrille befindet, allmählich in einer Richtung von dem ersten Anzeigebereich zu dem zweiten Anzeigebereich abnehmt.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung beträgt an einer Position nahe der Antireflexionsrille ein Neigungswinkel der mindestens einen organischen Materialschicht 10 Grad bis 60 Grad.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist in der Richtung von dem ersten Anzeigebereich zu dem zweiten Anzeigebereich eine Breite einer orthographischen Projektion einer Seitenwand der zumindest einen organischen Materialschicht nahe der Antireflexionsrille auf dem Basissubstrat nicht mehr als 30 Mikrometer.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung bedeckt eine orthographische Projektion der Antireflexionsrille auf dem Basissubstrat den zweiten Anzeigebereich.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Basissubstrat eine erste organische Materialschicht, eine erste Barriereschicht und eine zweite organische Materialschicht, die nacheinander gestapelt sind, wobei die Treiberschaltungsschicht auf einer Seite der zweiten organischen Materialschicht angeordnet ist, die der ersten organischen Materialschicht abgewandt ist; und
wobei die Antireflexionsrille auf der Seite der zweiten organischen Materialschicht angeordnet ist, die der ersten organischen Materialschicht abgewandt ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung durchdringt die Antireflexionsrille die zweite organische Materialschicht und legt einen Teil der ersten Barriereschicht frei.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Basissubstrat eine erste organische Materialschicht, eine erste Barriereschicht und eine zweite organische Materialschicht, die nacheinander gestapelt sind, wobei die Treiberschaltungsschicht auf einer Seite der zweiten organischen Materialschicht angeordnet ist, die der ersten organischen Materialschicht abgewandt ist; und
wobei die erste organische Materialschicht mit der Antireflexionsrille auf ihrer der Treiberschaltungsschicht zugewandten Seite versehen ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung durchdringt die Antireflexionsrille die erste organische Materialschicht.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung weist die erste Barriereschicht ein ausgehöhltes Loch auf, das die Antireflexionsrille freilegt; wobei eine Kante des ausgehöhlten Lochs mit einer Kante einer der ersten Barriereschicht zugewandten Öffnung der Antireflexionsrille zusammenfällt.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist die Durchlässigkeit der zweiten organischen Materialschicht größer als die der ersten organischen Materialschicht.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist eine Größe einer Kerbe der Antireflexionsrille größer als eine Größe eines Grunds der Antireflexionsrille.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Anzeigepanel ferner eine erste Füllmaterialschicht, die zwischen dem Basissubstrat und der Treiberschaltungsschicht und innerhalb der Antireflexionsrille angeordnet ist; und
wobei die Durchlässigkeit der ersten Füllmaterialschicht größer als die der ersten organischen Materialschicht ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Basissubstrat eine erste organische Materialschicht, eine erste Barriereschicht und eine zweite organische Materialschicht, die nacheinander gestapelt sind, wobei die Treiberschaltungsschicht auf einer Seite der zweiten organischen Materialschicht angeordnet ist, die der ersten organischen Materialschicht abgewandt ist; und
wobei die erste organische Materialschicht mit der Antireflexionsrille auf ihrer der Treiberschaltungsschicht abgewandten Seite versehen ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst die Anzeigepanel ferner eine zweite Füllmaterialschicht, die in die Antireflexionsrille eingebettet ist; und
wobei die Durchlässigkeit der zweiten Füllmaterialschicht größer als die der ersten organischen Materialschicht ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Basissubstrat eine erste organische Materialschicht, eine erste Barriereschicht und eine zweite organische Materialschicht, die nacheinander gestapelt sind, wobei die Treiberschaltungsschicht auf einer Seite der zweiten organischen Materialschicht angeordnet ist, die der ersten organischen Materialschicht abgewandt ist; wobei die Antireflexionsrille in der zweiten organischen Materialschicht angeordnet ist; und wobei die erste organische Materialschicht auch mit einer Verdünnungsrille auf ihrer der Treiberschaltungsschicht abgewandten Seite versehen ist, wobei eine orthographische Projektion der Verdünnungsrille auf dem Basissubstrat den zweiten Anzeigebereich bedeckt.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung beträgt ein Neigungswinkel der ersten organischen Materialschicht 80 Grad bis 90 Grad an einer Position nahe der Verdünnungsrille.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Anzeigepanel ferner eine dritte Füllmaterialschicht, die in die Verdünnungsrille eingebettet ist; wobei die Durchlässigkeit der dritten Füllmaterialschicht größer als die der ersten organischen Materialschicht ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Anzeigepanel ferner eine Rückfilmschicht, die sich auf einer der Treiberschaltungsschicht abgewandten Seite des Basissubstrats befindet; wobei die Rückfilmschicht mit einer Öffnung versehen ist, in deren orthographischen Projektion auf dem Basissubstrat sich der zweite Anzeigebereich befindet.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Anzeigepanel ferner eine zweite Barriereschicht und eine Pufferschicht, die nacheinander zwischen dem Basissubstrat und der Treiberschaltungsschicht gestapelt sind, wobei die Pufferschicht auf einer dem Basissubstrat abgewandten Seite der zweiten Barriereschicht angeordnet ist; und
wobei das Anzeigepanel ferner eine Planarisierungsschicht umfassen kann, die zwischen der lichtemittierenden Pixelschicht und der Treiberschaltungsschicht angeordnet ist.
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In einer beispielhaften Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst das Anzeigepanel ferner eine Berührungsschicht und eine Reflexionsreduktionsschicht, die nacheinander auf einer dem Basissubstrat abgewandten Seite der lichtemittierenden Pixelschicht gestapelt sind, wobei die Reflexionsreduktionsschicht eine Schwarzmatrixschicht und eine Farbfilmschicht umfasst.
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Gemäß einem weiteren Aspekt der vorliegenden Offenbarung wird eine Anzeigevorrichtung bereitgestellt, die das oben beschriebene Anzeigepanel und mindestens eine lichtempfindliche Komponente umfasst, wobei sich die lichtempfindliche Komponente auf einer dem Basissubstrat zugewandten Seite des Anzeigepanels befindet und gerade dem zweiten Anzeigebereich gegenüberliegt.
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Es versteht sich, dass die obige allgemeine Beschreibung und die folgende detaillierte Beschreibung nur beispielhaft und erläuternd sind und die vorliegende Offenbarung nicht einschränken.
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Figurenliste
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Die Zeichnungen, die Ausführungsformen der Offenbarung zeigen,sind in die Beschreibung aufgenommen und bilden einen Teil davon, und dienen zusammen mit der BeschreibungzumErläutern von Prinzipien der Offenbarung. Offensichtlich zeigen die Zeichnungen nur einige Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung.Für den Durchschnittsfachmann auf dem Gebiet können andere Zeichnungen ohne kreative Anstrengung aus diesen Zeichnungen erhalten werden. Dabei zeigen es:
- 1 eine schematische Draufansicht der Struktur eines Anzeigepanels in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 2 eine schematische Draufansicht der Struktur eines Anzeigepanels in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 3 eine schematischeTeilschnittansicht der Struktur eines Anzeigepanels in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 4 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 5 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 6 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 7 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 8 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 9 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 10 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 11 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 12 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 13 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 14 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 15 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 16 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 17 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 18 eine schematische Strukturansicht eines Trägersubstrats mit einer vorstehenden Schicht in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 19 eine schematische Strukturansicht eines Trägersubstrats mit einer vorstehenden Schicht in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 20 eine schematische Strukturansicht des Vorbereitens eines Basissubstrats auf einemTrägersubstrat in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 21 eine schematische Strukturansicht des Basissubstrats nach dem Abziehen einesTrägersubstrats in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 22 eine schematische Strukturansicht des Basissubstrats nach dem Abziehen eines Trägersubstrats in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 23 eine schematische Strukturansicht des Vorbereitens eines Basissubstrats auf einem Trägersubstrat in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 24 eine schematische Strukturansicht des Basissubstrats nach dem Abziehen eines Trägersubstrats in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 25 eine schematische Strukturansicht des Basissubstrats nach dem Abziehen eines Trägersubstrats in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 26 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
- 27 eine schematische Teilschnittansicht der Struktur einer Anzeigevorrichtung in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung.
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Ausführungsformen der Erfindung
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Beispielhafte Ausführungsformen werden nun vollständiger unter Bezugnahme auf die Zeichnungen beschrieben. Die beispielhafteAusführungsformen können jedoch in einer Viezahl von Formen implementiert werden und sollten nicht daraufbeschränkt werden. Vielmehr werden diese Ausführungsformen bereitgestellt, damit die vorliegende Offenbarung vollständiger wird, um Fachleuten die Idee der beispielhaften Ausführungsformen zu vermitteln. Dieselben Bezugszeichen in den Zeichnungen bezeichnen dieselben oder ähnliche Strukturen, und daher wird ihre wiederholte Beschreibung weggelassen. Außerdem sind die Zeichnungen nur schematische Darstellungen von Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung und nicht notwendigerweise maßstabsgetreu gezeichnet.
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Die Begriffe „ein“, „eine“, „der“, „besagte“ und „mindestens eine“ werden verwendet, um das Vorhandensein von einem oder mehreren Elementen/Bestandteilen/usw.anzuzeigen.Die Begriffe „umfassen“, „enthalten“ und „haben“ sind offene Begriffe und bedeuten einschließlich und beziehen sich darauf, dass zusätzlich zu den aufgelisteten Elementen/Komponenten usw. weitere Elemente/Komponenten usw. vorhanden sein können. Die Begriffe „erster“, „zweiter“ und „dritter“ usw. werden nur als Markierungen verwendet und sollen die Anzahl der zugeordneten Objekte nicht einschränken.
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Im Stand der Technik kann ein OLED-Anzeigepanel ein Basissubstrat, eine Treiberschaltungsschicht und eine lichtemittierende Pixelschicht umfassen, die nacheinander gestapelt sind. Die Treiberschaltungsschicht ist mit Pixelansteuerschaltungen versehen. Jede der Pixelansteuerschaltungen ist dazu ausgebildet, einen entsprechenden Pixel in der lichtemittierenden Pixelschicht zu treiben. Um die Flexibilität des Anzeigepanels zu verbessern, kann das Basissubstrat ein organisches Material aufweisen, beispielsweise ein Polyimidmaterial. Um einzelne Filmschichten auf dem Anzeigepanel effektiv zu tragen, muss das Basissubstrat jedoch eine gewisse mechanische Festigkeit aufweisen, so dass dem organischen Material des Basissubstrats häufig eine Vielzahl von Zusatzstoffen zugesetzt werden, die im Allgemeinzu Reduktion des Absorptionsgrads und zu unterschiedlichen Absorptionsvermögen des Basissubstrats für Licht von unterschiedlichen Wellenlängen führen. Zum Beispiel weist im Stand der Technik das Polyimidmaterial als Basissubstrat üblicherweise ein hoher Absorptionsgrad auf, insbesondere für blaues Licht, was ermöglicht, dass das Anzeigepanel einen hohen Gelbkoeffizienten hat.
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Die vorliegende Offenbarung stellt ein Anzeigepanel bereit. Wie in 1 und 2 gezeigt, weist das Anzeigepanel einen ersten Anzeigebereich C und mindestens einen zweiten Anzeigebereich D an einer Seite des ersten Anzeigebereichs C auf. Die Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs D ist größer als die Durchlässigkeit des ersten Anzeigebereichs C.
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Wie in 4 bis 17 gezeigt, umfasst das Anzeigepanel ein Basissubstrat 200, eine Treiberschaltungsschicht 300 und eine lichtemittierende Pixelschicht 400, die nacheinander gestapelt sind. Das Basissubstrat 200 umfasst mindestens eine Schicht 210 aus organischem Material, wobei die mindestens eine Schicht 210 aus organischem Material mit einer Antireflexionsrille 201 (d. h. einer Rille zum Erhöhen der Lichtdurchlässigkeit) versehen ist, die zumindest teilweise mit dem zweiten Anzeigebereich D überlappt. Die Dicke eines Teils der mindestens einen organischen Materialschicht 210, der sich in der Nähe der Antireflexionsrille 201 befindet, nimmt allmählich von dem ersten Anzeigebereich C zu dem zweiten Anzeigebereich D ab.
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In der vorliegenden Offenbarung weist das Anzeigepanel den zweiten Anzeigebereich D mit höherer Durchlässigkeit auf, der für eine lichtempfindliche Komponente 901 verwendet werden kann, um Licht aus einer Lichtaustrittsseite des Anzeigepanels zu erfassen. Mit anderen Worten, in der Anzeigevorrichtung, die das Anzeigepanel aufweist, kann die lichtempfindliche Komponente 901 auf einer Rückseite des Anzeigepanels angeordnet sein und gerade dem zweiten Anzeigebereich D gegenüberliegen. Die Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs D ist höher, wodurch die Genauigkeit des Erfassungsergebnisses der lichtempfindlichen Komponente 901 verbessert wird, beispielsweise die Genauigkeit eines von einer Kamera erfassten Bildes.
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Das Basissubstrat 200 des Anzeigepanels ist mit der Antireflexionsrille 201 versehen, die zumindest teilweise mit dem zweiten Anzeigebereich D überlappt, so dass die Antireflexionsrille 201 Absorption des vom zweiten Anzeigebereich D transmittierenden Lichts durch das Basissubstrat 200 verringern und somit die Durchlässigkeit des Anzeigepanels in dem zweiten Anzeigebereich D verbessern kann.
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Die Dicke des Teils der mindestens einen organischen Materialschicht 210 des Basissubstrats 200, der sich in der Nähe der Antireflexionsrille 201 befindet, nimmt in der Richtung von dem ersten Anzeigebereich C zu dem zweiten Anzeigebereich D allmählich ab, so dass die Seitenwände der Antireflexionsrille 201 nicht senkrecht zu einer Ebene sind, in der sich das Basissubstrat 200 befindet, wodurch nachteilige Einflüsse auf die Treiberschaltungsschicht 300 und die lichtemittierende Pixelschicht 400 aufgrund der senkrechten Anordnung der Seitenwände der Antireflexionsrille 201 vermieden werden. Damit kann eine Anzeigequalität des Anzeigepanels sichergestellt werden.
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Im Folgenden werden die Struktur, das Prinzip und die Wirkung des Anzeigepanels der vorliegenden Offenbarung unter Bezugnahme auf die Zeichnungen weiter erläutert und beschrieben.
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Die vorliegende Offenbarung stellt ein Anzeigepanel bereit. Wie in 3 gezeigt, umfasst das Anzeigepanel ein Basissubstrat 200, eine Treiberschaltungsschicht 300 und eine lichtemittierende Pixelschicht 400, die nacheinander gestapelt sind. Die Treiberschaltungsschicht 300 kann mit mehreren Pixeltreiberschaltungen ausgebildet sind. Die lichtemittierende Pixelschicht 400 kann mit mehreren organischen Leuchtdioden als Subpixel ausgebildet sind. Jede der Pixeltreiberschaltungen ist dazu ausgebildet, ein entsprechendes Subpixel zu treiben.
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In der Treiberschaltungsschicht 300 kann jede der Pixeltreiberschaltungen einen Dünnfilmtransistor 301 und einen Speicherkondensator umfassen. Der Dünnfilmtransistor kann ein Dünnfilmtransistor vom Top-Gate-Typ, ein Dünnfilmtransistor vom Bottom-Gate-Typ oder ein Dünnfilmtransistor vom Doppel-Gate-Typ sein. Als Material der aktiven Schicht des Dünnfilmtransistors kann amorphes Siliziumhalbleitermaterial, Niedertemperatur-Polysiliziumhalbleitermaterial, Metalloxidhalbleitermaterial, organisches Halbleitermaterial oder andere Arten von Halbleitermaterialien verwenden werden. Der Dünnfilmtransistor kann ein Dünnfilmtransistor vom N-Typ oder ein Dünnfilmtransistor vom P-Typ sein. In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist der Dünnfilmtransistor 301 ein Niedertemperatur-Polysiliziumtransistor.
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Die Treiberschaltungsschicht 300 kann eine Halbleiterschicht 310, eine Gate-Isolierschicht 320, eine Gate-Schicht 330, eine dielektrische Zwischenschicht 340, eine Source-Drain-Metallschicht 350 und dergleichen umfassen, die zwischen dem Basissubstrat 200 und der lichtemittierenden Pixelschicht 400 gestapelt sind. Jeder der Dünnschichttransistoren 301 und jeder der Speicherkondensatoren können durch die Halbleiterschicht 310, die Gate-Isolierschicht 320, die Gate-Schicht 330, die dielektrische Zwischenschicht 340, die Source-Drain-Metallschicht 350 und dergleichen gebildet werden. Eine Positionsbeziehung der Filmschichten kann gemäß der Filmschichtstruktur des Dünnfilmtransistors 301 bestimmt werden. Beispielsweise kann in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Treiberschaltungsschicht 300 die Halbleiterschicht 310, die Gate-Isolierschicht 320, die Gate-Schicht 330, die dielektrische Zwischenschicht 340 und die Source-Drain-Metallschicht 350, die nacheindergestapelt sind.Der so gebildete Dünnschichttransistor 301 istein Dünnschichttransistor vom Top-Gate-Typ. Als weiteres Beispiel kann in einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Treiberschaltungsschicht die Gate-Schicht, die Gate-Isolierschicht, die Halbleiterschicht, die dielektrische Zwischenschicht und die Source-Drain-Metallschicht umfassen, die nacheinander gestapelt. Der so gebildet Dünnschichttransistor ist ein Dünnschichttransistor vom Bottom-Gate-Typ. Die Treiberschaltungsschicht kann auch eine Doppel-Gate-Schichtstruktur aufweisen, das heißt, die Gate-Schicht kann eine erste Gate-Schicht und eine zweite Gate-Schicht umfassen. Somit kann die Gate-Isolierschicht eine erste Gate-Isolierschicht zum Isolieren der Halbleiterschicht von der ersten Gate-Schicht und eine zweite Gate-Isolierschicht zum Isolieren der ersten Gate-Schicht von der zweiten Gate-Schicht umfassen. Beispielsweise kann in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Treiberschaltungsschicht die Halbleiterschicht, die erste Gate-Isolierschicht, die erste Gate-Schicht, die zweite Gate-Isolierschicht, die zweite Gate-Schicht, die dielektrische Zwischenschicht und die Source-Drain-Metallschicht umfassen, die nacheinander auf einer Seite des Basissubstrats gestapelt werden.
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In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, 26, kann im zweiten Anzeigebereich D kein Transistor vorgesehen sein, um den Einfluss der Pixeltreiberschaltung auf die Durchlässigkeit zu verringern. Die Pixeltreiberschaltungen der einzelnen im zweiten Anzeigebereich D angeordneten Subpixel können im ersten Anzeigebereich C angeordnet sein. In einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, 16, kann auch ein Transistor im zweiten Anzeigebereich D vorgesehen sein. Die Dichte der Pixeltreiberschaltungen im zweiten Anzeigebereich D kann die gleiche wie die im ersten Anzeigebereich C oder niedriger als die im ersten Anzeigebereich C sein.
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Optional kann die Treiberschaltungsschicht 300 ferner eine Passivierungsschicht umfassen, die auf der dem Basissubstrat 200 abgewandten Oberfläche der Source-Drain-Metallschicht 350 angeordnet sein kann, um die Source-Drain-Metallschicht 350 zu schützen.
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Optional kann dasAnzeigepanel auch eine Puffermaterialschicht zwischen dem Basissubstrat 200 und der Treiberschaltungsschicht 300 umfassen, wobei die Halbleiterschicht 310, die Gate-Schicht 330 und dergleichen auf einer dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite des Puffermaterialschicht angeordnet sind. Als Material der Puffermaterialschicht kann ein anorganisches isolierendes Material wie beispielsweise Siliziumoxid und Siliziumnitrid verwendet werden. Die Puffermaterialschicht kann eine Schicht der anorganischen Materialschicht oder eine mehrschichtige laminierte anorganische Materialschicht sein. Beispielsweise kann in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung, 3, die Puffermaterialschicht auf ihrerdem Basissubstrat200 zugewandten Seite eine zweite Barriereschicht 803 und auf einer dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite der zweiten Barriereschicht 803 eine Pufferschicht 804 aufweisen. Die zweite Barriereschicht 803 ist dazu ausgebildet, das Eindringen von Ionen und anderen Komponenten in dem Basissubstrat 200 in die Treiberschaltungsschicht 300 zu blockieren, so dass die Treiberschaltungsschicht 300 eine stabile Leistung aufrechterhalten kann. Die Pufferschicht 804 kann eine Verbindungskraft zwischen der Treiberschaltungsschicht 300 und dem Basissubstrat 200 verbessern und eine stabile Umgebung für die Treiberschaltungsschicht 300 bereitstellen.
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Wie in 3 gezeigt, kann auf einer dem Basissubstrat 200abgewandten Seite der Treiberschaltungsschicht 300 eine lichtemittierende Pixelschicht 400 angeordnet sein,die eine Pixelelektrodenschicht 410, eine Pixeldefinitionsschicht 420, eine Stützsäulenschicht 430, eine organische lichtemittierende Funktionsschicht 440 und eine gemeinsame Elektrodenschicht 450umfassen, die nacheinder gestapelt sind. Die Pixelelektrodenschicht 410 weist eine Mehrzahl von Pixelelektroden im Anzeigebereich B des Anzeigepanels auf. Die Pixeldefinitionsschicht 420 weist eine Mehrzahl von Pixelöffnungen im Anzeigebereich B auf, die durch den Anzeigebereich hindurchgehen und entsprechend der Mehrzahl von Pixelelektroden eineindeutig angeordnet sind. Jede der Pixelöffnungen legt zumindest einen Teilder entsprechenden Pixelelektrode frei. Die Stützsäulenschicht 430 umfasst mehrere Stützsäulen im Anzeigebereich B, die sich auf der dem Basissubstrat 200 abgewandten Oberfläche der Pixeldefinitionsschicht 420 befinden, um in einem Aufdampfprozess eine Feinmetallmaske (Fine Metal Mask, FMM) zu stützen. Die organische lichtemittierende Funktionsschicht 440 bedeckt zumindest die durch die Pixeldefinitionsschicht 420 freigelegten Pixelelektroden. Die organische lichtemittierende Funktionsschicht 440 kann eine organische elektrolumineszierende Materialschicht umfassen und kann eine oder mehrere von einer Lochinjektionsschicht, einer Lochtransportschicht, einer Elektronenbarriereschicht, einer Lochbarriereschicht, einer Elektronentransportschicht und einer Elektroneninjektionsschicht. Die einzelnen Filmschichten der organischen lichtemittierenden Funktionsschicht 440 können durch den Aufdampfprozess hergestellt werden. Eine feine Metallmaske oder eine offene Maske (Open Mask) kann während demAufdampfen verwendet werden, um Musters von jeder der Filmschichten zu definieren. Die gemeinsame Elektrodenschicht 450 kann in dem Anzeigebereich Bdurch die organische lichtemittierende Funktionsschicht 440 bedeckt wird. Auf diese Weise bilden die Pixelelektroden, die gemeinsame Elektrodenschicht 450 und die organische lichtemittierende Funktionsschicht 440 zwischen den Pixelelektroden und der gemeinsamen Elektrodenschicht 450 organische elektrolumineszierende lichtemittierende Dioden. Jede der organischen elektrolumineszierendelichtemittierenden Dioden kann als ein Subpixel des Anzeigepanels verwendet werden.
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In einigen Ausführungsformen kann die lichtemittierende Pixelschicht 400 ferner eine Lichtextraktionsschicht umfassen, die sich auf einer dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite der gemeinsamen Elektrodenschicht 450 befindet, um die Lichtaustrittseffizienz der organischen lichtemittierenden Diode zu verbessern.
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In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung sind im zweiten Anzeigebereich D sowohl die Pixelelektrode als auch die gemeinsame Elektrode transparente Elektroden, um die Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs D zu verbessern. Die Elektrode des zweiten Anzeigebereichs D kann in einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarungauch eine reflektierende Schicht aufweisen, um eine Leuchtdichte des Anzeigepanels im zweiten Anzeigebereich D sicherzustellen.
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Optional kann wie in 3 gezeigt, die Anzeigepanel ferner eine Planarisierungsschicht 805 aufweisen, die zwischen der Treiberschaltungsschicht 300 und der lichtemittierenden Pixelschicht 400 angeordnet ist und eine Planarisierungsoberfläche für die Pixelelektrode bereitstellen kann. Optional kann als Material der Planarisierungsschicht 805 ein organisches Material verwendet werden.
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Optional kann wie in 3 gezeigt, das Anzeigepanel ferner eine Dünnfilm-Verkapselungsschicht 500 aufweisen, die auf der dem Basissubstrat 200 abgewandten Oberfläche der lichtemittierenden Pixelschicht 400 angeordnet ist und eine anorganische Verkapselungsschicht und eine organische Verkapselungsschicht 520 umfassen kann, die abwechselnd gestapelt sind. Die anorganische Verkapselungsschicht kann Feuchtigkeit und Sauerstoff von außen wirksam blockieren, um die durch das Eindringen von Feuchtigkeit und Sauerstoff in die organische lichtemittierende Funktionsschicht 440 verursachte Materialverschlechterung zu vermeiden. Optional kann sich ein Rand der anorganischen Verkapselungsschicht in der Peripheriebereich A befinden. Die organische Verkapselungsschicht 520 ist zwischen zwei benachbarten anorganischen Verkapselungsschichten angeordnet, um eine Planarisierung zu realisieren und die Spannung zwischen den anorganischen Verkapselungsschichten zu reduzieren. Ein Rand der organischen Verkapselungsschicht 520 befindet sich zwischen dem Anzeigebereich B und dem Rand der anorganischen Verkapselungsschicht. Wie in 3 gezeigt, umfasst die Dünnfilm-Verkapselungsschicht 500 beispielhaft eine erste anorganische Verkapselungsschicht 510, eine organische Verkapselungsschicht 520 und eine zweite anorganische Verkapselungsschicht 530, die nacheinander auf der dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite der lichtemittierenden Pixelschicht 400 gestapelt sind.
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Optional kann wie in 3 gezeigt, das Anzeigepanel ferner eine Reflexionsreduktionsschicht 700 umfassen, die auf einer der lichtemittierenden Pixelschicht 400 abgewandten Seite der Dünnfilm-Verkapselungsschicht 500 angeordnet sein kann, um die Reflexion der Umgebungslicht am Anzeigepanel zu verringern, wodurch der Einfluss des Umgebungslichts auf den Anzeigeeffekt verringert wird. In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann die Reflexionsreduktionsschicht 700 eine Farbfilmschicht 701 und eine Schwarzmatrixschicht 702 umfassen, die gestapelt sind, wie in 27 gezeigt,wodurch beim Reduktion der Interferenz von Umgebungslicht eine Verringerung der Durchlässigkeit des Anzeigepanels vermieden werden kann. In einer weiterenAusführungsform der vorliegenden Offenbarung kann die Reflexionsreduktionsschicht 700 als Polarisator ausgebildet werden, beispielsweise ein gemusterter beschichteter Zirkularpolarisator.
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In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann die Reflexionsreduktionsschicht 700 den zweiten Anzeigebereich D nicht bedecken, um die Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs D zu verbessern. Mit anderen Worten kann die Reflexionsreduktionsschicht 700 nicht in dem zweiten Anzeigebereich D bereitgestellt werden. In weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung, 17, kann eine Reflexionsreduktionsschicht 700 auch im zweiten Anzeigebereich D bereitgestellt werden, um den Anzeigeeffekt des zweiten Anzeigebereichs D zu verbessern. Optional kann die Reflexionsreduktionsschicht 700 im zweiten Anzeigebereich D ausgehöhlt ausgebildet werden. Dann bedeckt die Reflexionsreduktionsschicht 700 nur einen Teil des zweiten Anzeigebereichs D und legt einen anderen Teil davon frei, so dass ein Gleichgewicht zwischen Verbesserung der Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs D und Verbesserung des Anzeigeeffekts des zweiten Anzeigebereichs D erreicht wird.
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Optional kann wie in 3 gezeigt, das Anzeigepanel ferner eine Berührungsfunktionsschicht 600 umfassen, die auf der dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite der Dünnfilm-Verpackungsschicht 500 angeordnet ist, um die Berührungsbedienung des Anzeigepanels zu realisieren. In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann die Berührungsfunktionsschicht 600 zwischen der Dünnfilm-Verkapselungsschicht 500 und der Reflexionsreduktionsschicht 700 angeordnet sein.
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Optional kann wie in 3 gezeigt, das Anzeigepanel ferner eine Rückfilmschicht 100 umfassen, die auf der der lichtemittierenden Pixelschicht 400 abgewandten Seite des Basissubstrats 200 angeordnet sein kann, um das Anzeigepanel zu stützen. Ferner kann die Rückfilmschicht 100 mit dem Basissubstrat 200 über eine Haftschicht 110 verbunden sein.
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Optional kann wie in 3 gezeigt, das Anzeigepanel ferner eine Abdeckplatte 801 umfassen, die auf der äußersten Seite der Lichtaustrittsseite des Anzeigepanels angeordnet sein kann, um das Anzeigepanel zu schützen. Als Material der Abdeckplatte 801 kann ein anorganisches lichtdurchlässiges Material wie etwa Glas verwendet werden. Die Abdeckplatte 801 kann auch ein lichtdurchlässiges organisches Material verwenden. Optional kann die Abdeckplatte 801 an einer anderen Filmschicht des Anzeigepanels über eine optische Klebeschicht 802 befestigt sein, zum Beispiel an der dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite der Reflexionsreduktionsschicht 700 des Anzeigepanels.
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1 und 2 zeigen jeweils eine Draufsicht auf ein Anzeigepanel. Wie in 1 und 2 gezeigt, kann das Anzeigepanel einen Anzeigebereich B und einen Peripheriebereich A um den Anzeigebereich B umfassen. Der Anzeigebereich B kann einen ersten Anzeigebereich C und mindestens einen zweiten Anzeigebereich D an einer Seite der ersten Anzeigebereich C umfassen. Sowohl im ersten Anzeigebereich C als auch im zweiten Anzeigebereich D kann die lichtemittierende Pixelschicht 400 mit Pixeln versehen sein, so dass sowohl der erste Anzeigebereich C als auch der zweite Anzeigebereich D eine normale Bildanzeige realisieren können.
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4 bis 17 zeigen jeweilseine schematische Schnittansicht einer Anzeigevorrichtung an einer Position nahe dem zweiten Anzeigebereich D, die das Anzeigepanel verwendet und mindestens eine lichtempfindliche Komponente 901 umfasst. Die mindestens eine lichtempfindliche Komponente 901 kann entsprechend der zweiten Anzeigefläche D eineindeutig angeordnet sein und eine lichtempfindliche Komponente 901 kann gerade dem entsprechenden zweiten Anzeigebereich D gegenüberliegen, um das von dem zweiten Anzeigebereich D transmittiere Licht zu empfangen. Wie in 4 bis 17 gezeigt, kann die lichtempfindliche Komponente 901 einen lichtempfindlichen Bereich zum Erfassen von Licht aufweisen, dessen orthographische Projektion auf dem Basissubstrat 200 in dem zweiten Anzeigebereich D angeordnet sein kann. Die lichtempfindliche Komponente 901 kann als ein oder mehrere Lichtsensoren ausgebildet werden, beispielsweise Kamera(s), optischer Fingerabdruckidentifikationschip(s) oder dergleichen. In einigen Ausführungsformen kann die lichtempfindliche Komponente 901 als Kamera ausgebildet werden, beispielsweise eine CCD-(Charge Coupled Device)-Kamera. Somit kann bei der Anzeigevorrichtung die Kamera unter dem Bildschirm realisiert werden, so dass das Bildschirm-zu-Körper-Verhältnis der Anzeigevorrichtung erhöht werden kann.
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Wie in 1 und 2 gezeigt, kann optional der zweite Anzeigebereich D in den ersten Anzeigebereich C eingebettet sein, das heißt, der erste Anzeigebereich C umgibt den zweiten Anzeigebereich D. Wenn mehrere zweite Anzeigebereiche D vorgesehen sind, können die zweiten Anzeigebereiche D verteilt oder benachbart angeordnet sein.
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Optional kann jeder der zweiten Anzeigebereiche D als Kreis, Quadrat, Raute, regelmäßiges Sechseck oder andere Form ausgebildet werden. In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann der zweite Anzeigebereich D als Kreis ausgebildet werden.
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Ein oder mehrere zweite Anzeigebereiche D können bereitgestellt werden, um der Anordnung der lichtempfindlichen Komponenten 901 zu entsprechen. In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird ein zweiter Anzeigebereich D bereitgestellt. Auf diese Weise kann die Anzeigevorrichtung mit einer unter dem Bildschirm befindlichen lichtempfindlichen Komponente 901 versehen sein, beispielsweise einer unter dem Bildschirm befindlichen Kamera oder einem unter dem Bildschirm befindlichen optischen Fingerabdruckidentifikationschip. In einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung können mehrere zweite Anzeigebereiche D bereitgestellt werden. Auf diese Weise kann die Anzeigevorrichtung mit mehreren lichtempfindlichen Komponenten 901 versehen sein, wobei beliebige zwei der lichtempfindlichen Komponenten 901 gleich oder verschieden sein können.
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Wiein 2 gezeigt, sind beispielhaft drei zweite Anzeigebereiche D vorgesehen, die benachbart angeordnet sind. Auf diese Weise kann die Anzeigevorrichtung mit unterschiedlichen lichtempfindlichen Komponenten 901 versehen sein, die den drei zweiten Anzeigebereichen D eineindeutig entsprechen, beispielsweise drei unterschiedliche lichtempfindliche Komponenten 901 mit einer Bildkamera, einer Tiefenkamera und einer Infrarotkamera.
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Optional sind die Antireflexionsrillen 201 so angeordnet, dass sie den zweiten Anzeigebereichen D eineindeutig entsprechen, und jeder der zweiten Anzeigebereiche D zumindest teilweise mit einer entsprechenden Antireflexionsrille 201 überlappt. Ferner befindet sich der zweite Anzeigebereich D innerhalb der entsprechenden Antireflexionsrille 201, das heißt, eine orthographische Projektion der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200 bedeckt den entsprechenden zweiten Anzeigebereich D, wodurch eine Änderung der Durchlässigkeit an unterschiedlichen Positionen in dem zweiten Anzeigebereich Daufgrund einer Dickenänderung der organischen Materialschicht 210 des Basissubstrats 200 vermieden werden kann. In weiteren Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung kann die Anzahl der Antireflexionsrillen 201 geringer sein als die Anzahl der zweiten Anzeigebereichen D, so dass eine der Antireflexionsrillen 201 zumindest teilweise mit mehreren zweiten Anzeigebereichen D überlappen kann.
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In der vorliegenden Offenbarung weist die Antireflexionsrille 201 zwei ringförmige Kanten auf, die gegenüberliegend angeordnet sind. Die Größe einer der Kanten ist größer als die Größe der anderen Kante. Die orthographische Projektion der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200 bezieht sich auf eine orthographische Projektion einer kleineren Kante der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200, das heißt, eine orthographische Projektion des Grunds der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200. Wenn die Antireflexionsrille 201 mindestens eine organische Materialschicht 210 durchdringt, kann ein kleineres offenes Ende der Antireflexionsrille 201 als Grund der Antireflexionsrille 201 ausgebildet werden und ein größeres offenes Ende der Antireflexionsrille 201 als Kerbe der Antireflexionsrille 201 ausgebildet werden. Wenn die Kerbe der Antireflexionsrille 201 auf der dem Basissubstrat 200 abgewandten Seite des Grunds angeordnet ist, öffnet sich die Antireflexionsrille 201 zur Lichtaustrittsseite desAnzeigepanels hin, das heißt eine erste Antireflexionsrille 201. Wenn die Kerbe der Antireflexionsrille 201 auf der dem Basissubstrat 200 zugewandten Seite des Grunds angeordnet ist, öffnet sich die Antireflexionsrille 201 zu der Rückseite des Anzeigepanels hin, d. h. eine zweite Antireflexionsrille 201.
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Optional befindet sich der zweite Anzeigebereich D vollständig innerhalb der Antireflexionsrille 201, das heißt, der zweite Anzeigebereich D befindet sich vollständig in der orthographischen Projektion der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200.
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Wie in 4 bis 17 gezeigt, beträgt optional ein Neigungswinkel mindestens einer organischen Materialschicht 210 10 Grad bis 60 Grad an einer Position nahe der Antireflexionsrille 201. Mit anderen Worten kann ein eingeschlossener Winkel zwischen einer Seitenwand der Antireflexionsrille 201 und der Ebene desAnzeigepanels im Bereich von 10 Grad bis 60 Grad liegen, wobei die Seitenwand der Antireflexionsrille 201 eine Oberfläche der organischen Materialschicht 210 ist, die den Grund und die Kerbe der Antireflexionsrille 201 verbindet. Auf diese Weise ist eine Neigung der Antireflexionsrille 201 relativ sanft, wodurch vermieden werden kann, dass jede der leitfähigen Strukturen in der Treiberschaltungsschicht 300 und der lichtemittierenden Pixelschicht 400 einen größeren Anstiegswinkel an der Seitenwand der Antireflexionsrille 201 aufweist, und somit vermieden wird, dass schlechte Drahtbrüche in der Treiberschaltungsschicht 300 und der lichtemittierende Pixelschicht 400 vorliegen. Optional liegt der Neigungswinkel der organischen Materialschicht 210 in einem Bereich von 23 Grad bis 33 Grad. Beispielsweise beträgt in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung der Neigungswinkel der organischen Materialschicht 210 28,23 Grad.
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Optional darf in der Richtung von dem ersten Anzeigebereich C zu dem zweiten Anzeigebereich Ddie Breite derorthographischen Projektion der jeweiligen Seitenwand von mindestens einer organischen Materialschicht 210 nahe der Antireflexionsrille 201 auf der Basissubstrat 200 nicht größer als 30 Mikrometer sein. Mit anderen Worten kann die Breite der orthographischen Projektion der jeweiligen Seitenwand der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200 nicht größer als 30 Mikrometer sein. An den Seitenwändern der Antireflexionsrille 201 ist es schwierig, die Gleichmäßigkeit der Halbleiterschicht 310 in der Treiberschaltungsschicht 300 sicherzustellen. Daher sind die Seitenwänder der Antireflexionsrille 201 nicht für Anordnung der Transistoren 301 der Treiberschaltungsschicht 300 geeignet. Durch Reduzieren der Breite der orthographischen Projektion der jeweiligen Seitenwand der Antireflexionsrille 201 auf dem Basissubstrat 200 ist es möglich, mehr ausreichenden Raum zum Anordnen von Transistoren bereitzustellen.
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Wie in 4 bis 17 gezeigt, kann optional in dem Basissubstrat 200 mindestens eine organische Materialschicht 210 eine erste organische Materialschicht 211 und eine zweite organische Materialschicht 213 umfassen, zwischen denen eine erste Barriereschicht 212 angeordnet werden kann. Die Treiberschaltungsschicht 300 ist auf einer der ersten organischen Materialschicht 211 abgewandten Seite der zweiten organischen Materialschicht 213 angeordnet.
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In einigen Ausführungsformen können die erste organische Materialschicht 211 und die zweite organische Materialschicht 213 aus Materialien hergestellt sein, die die mechanischen Leistungsanforderungen an das Basissubstrat 200 erfüllen können, beispielsweise einige gelbliche Polyimidmaterialien. Die erste Barriereschicht 212 kann die erste organische Materialschicht 211 abschirmen, um zu verhindern, dass Additive, Ionen und dergleichen in der ersten organischen Materialschicht 211 in die Treiberschaltungsschicht 300 eindringen. Die erste Barriereschicht 212 kann auch dazu ausgebildetwerden, die Spannung zwischen der ersten organischen Materialschicht 211 und der zweiten organischen Materialschicht 213auszugleichen. In dem durch die vorliegende Offenbarung bereitgestellten Anzeigepanel ist die organische Materialschicht 210 des Basissubstrats 200 mit der Antireflexionsrille 201 versehen, die eine Verdünnung der organischen Materialschicht 210 des Basissubstrats 200 ermöglicht. Daher wird die Durchlässigkeit des Anzeigepanels der vorliegenden Offenbarung in dem zweiten Anzeigebereich D verbessert. Außerdem kann die Verdünnungder organischen Materialschicht 210 in dem Basissubstrat 200 eine Apsorptionsgradsdifferenz desAnzeigepanels in dem zweiten Anzeigebereich D für unterschiedliche Wellenlängenbänder und das Gelblichtkoeffizient des Anzeigepanels in dem zweiten Anzeigebereich D reduziert. Auf diese Weise kann die Genauigkeit der Lichterfassung mit der lichtempfindlichen Komponente 901 verbessert werden, beispielsweise kann verhindert werden, dass das von der Kamera erfasste Bild insgesamt vergilbt. Außerdem kann die mechanischen Eigenschaften des Basissubstrats 200 nicht stark beeinträchtigt werden, da das Basissubstrat 200 nur mit der Antireflexionsrille 201 an oder in der Nähe des zweiten Anzeigebereichs D versehen sein und die Größe des zweiten Anzeigebereichs D oft relativ klein ist.
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In weiteren Ausführungsformen kann die erste organische Materialschicht 211 aus einem Material hergestellt sein, das die mechanischen Leistungsanforderungen an das Basissubstrat 200 erfüllen kann, beispielsweise einige gelbliche Polyimidmaterialien. Die erste Barriereschicht 212 kann die erste organische Materialschicht 211 abschirmen, um zu verhindern, dass Zusätze, Ionen und dergleichen in der ersten organischen Materialschicht211 in die Treiberschaltungsschicht 300 eindringen. Die zweite organische Materialschicht 213 kann ein Material mit hoher Durchlässigkeit verwenden, beispielsweise ein farbloses und transparentes Polyimidmaterial, so dass die Durchlässigkeit der zweiten organischen Materialschicht 213 größer ist als die der ersten organischen Materialschicht 211, wodurch die Durchlässigkeit des Anzeigepanels verbessert wird.
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Optional kann eine Dicke sowohl der ersten organischen Materialschicht 211 als auchder zweiten organischen Materialschicht 213 in einem Bereich von 3 Mikrometer bis 20 Mikrometer liegen. Vorzugsweise kann die Dicke sowohl der ersten organischen Materialschicht 211 als auch der zweiten organischen Materialschicht 213 in einem Bereich von 5 Mikrometer bis 15 Mikrometer liegen, um die Leistungsanforderungen an das Basissubstrat 200 des Anzeigepanels zu erfüllen.
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Optional kann die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 nicht geringer als die Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 sein. Ferner kann die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 um einen Faktor von 1 bis 4 größer als die Dicke derersten organischen Materialschicht 211 sein.
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Beispielsweise beträgt in einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 5 Mikrometer und die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 5 Mikrometer. Als weiteres Beispiel beträgt in einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 5 Mikrometer und die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 10 Mikrometer. Als weiteres Beispiel beträgt in einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung die Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 5 Mikrometer und die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 15 Mikrometer.
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In einigen Ausführungsformen, 4, kann die Antireflexionsrille 201 auf der der ersten organischen Materialschicht 211 abgewandten Seite der zweiten organischen Materialschicht 213 angeordnet sein. Mit anderen Worten, die zweite organische Materialschicht 213 kann teilweise verdünnt werden, um die Antireflexionsrille 201 zu bilden. Auf diese Weise kann die Dicke des organischen Materials des Basissubstrats 200 in dem zweiten Anzeigebereich D verringert werden, wodurch die Durchlässigkeit des Anzeigepanels in dem zweiten Anzeigebereich D verbessert werden kann.
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Optional kann eine Tiefe der Antireflexionsrille 201 0,5-lmal so groß wie die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 sein. Ferner kann die Tiefe der Antireflexionsrille 201 0,8-1mal so groß wie die Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213 sein. In der vorliegenden Offenbarung bezieht sich die Tiefe der Antireflexionsrille 201 auf ein Intervall zwischen der Ebene, wo die Kerbe der Antireflexionsrille 201 angeordnet ist, und der Ebene, wo der Grund der Antireflexionsrille 201 angeordnet ist.
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Wie in 5 gezeigt, kann beispielhaft die Antireflexionsrille 201 die zweite organische Materialschicht 213 durchdringen und einen Teil der ersten Barriereschicht 212 freilegen. Mit anderen Worten, die zweite organische Materialschicht 213 kann mit einem Durchgangsloch versehen sein, das die erste Barriereschicht 212 freilegt. Das Durchgangsloch kann als Antireflexionsrille 201 ausgebildet werden, die auf dem Basissubstrat 200 vorgesehen ist. Das heißt, die Tiefe der Antireflexionsrille 201 ist gleich der Dicke der zweiten organischen Materialschicht 213, wodurch die organische Materialschicht 210 des Basissubstrats 200 stark verdünnt wird und somit die Durchlässigkeit des Anzeigepanels in dem zweiten Anzeigebereich D verbessert wird.
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Optional kann in dieser Ausführungsform die Antireflexionsrille 201 die erste Antireflexionsrille sein. Das heißt, die Größe der Kerbe der Antireflexionsrille 201 ist größer als die Größe des Grunds der Antireflexionsrille 201, wodurch sichergestellt wird, dass die Materialien der Treiberschaltung und der lichtemittierenden Pixelschicht 400 aufeinander die Antireflexionsrille 201 bedecken können, und ein Bruch an der Antireflexionsrille 201 vermieden kann. Die Antireflexionsrille 201 ist auch für die Herstellung geeignet, beispielsweise mit Photolithographie oder Belichtungsentwicklung.
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Wenn die Antireflexionsrille 201 in der zweiten organischen Materialschicht 213 angeordnet ist, wie in 14 gezeigt, kann optional auf der der Treiberschaltungsschicht 300 abgewandten Seite der ersten organischen Materialschicht 211 auch eine Verdünnungsrille 203 angeordnet sein, deren orthographische Projektion auf dem Basissubstrat 200 den zweiten Anzeigebereich D bedeckt, um die Durchlässigkeit des Anzeigepanels in dem zweiten Anzeigebereich D weiter zu verringern. In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung ist der Neigungswinkel des ersten organischen Materialschicht 80 Grad bis 90 Grad an einer Position nahe der Verdünnungsrille.
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Optional kann die Verdünnungsrille durch die folgenden Verfahren gebildet werden: Wie in 18 und 19 gezeigt, kann zuerst ein Trägersubstrat 902 mit einer vorstehenden Schicht 903 entsprechend der Verdünnungsrille 203 bereitgestellt werden; und dann können das Basissubstrat und die einzelnen Filmschichten über dem Basissubstrat nacheinander gebildet werden, wie in 20 gezeigt. Dann kann das Trägersubstrat 902 zusammen mit der vorstehende Schicht 903 abgezogen werden, wie in 21 gezeigt. Das Abziehen der vorstehenden Schicht 903 ermöglicht, dass die Rückseite des Basissubstrats mit einer Verdünnungsrille 203 ausgebildet wird.Optional kann das Trägersubstrat 902 als Glassubstrat ausgebildet werden. Optional kann die vorstehende Schicht 903 aus einem anorganischen Material bestehen.
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Wie in 18 gezeigt, kann beispielhaft das Trägersubstrat 902 als Glassubstrat ausgebildet werden. Das Glassubstrat wird strukturiert, um die vorstehende Schicht 903 auf der Oberfläche des Glassubstrats zu bilden. Als weiteres Beispiel kann auf der Oberfläche des Trägersubstrats 902 eine Schicht aus lichtdurchlässigem Material gebildet werden, das ein anorganisches Material wie etwa Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid und Metalloxid verwendet, wie in 19 gezeigt. Dann wird die lichtdurchlässige Materialschicht strukturiert, um die vorstehende Schicht 903 zu bilden. Ferner weist die vorstehende Schicht 903 eine bestimmte Durchlässigkeit in einem ultravioletten Band auf, um mit Laser abgezogen zu werden.
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Als weiteres Beispiel kann die Oberfläche der vorstehenden Schicht auch mit einer Opferschicht versehen sein, beispielsweise einer Opferschicht aus einem anorganischen Material wie Siliziumnitrid oder Siliziumoxid. Wenn die vorstehende Schicht abgezogen wird, kann auch ein mechanisches Abziehverfahren zum Abziehen verwendet werden. In dieser Ausführungsform kann die vorstehende Schicht ein undurchsichtiges Material enthalten, beispielsweise kann sie als Metallfilmschicht ausgebildet werden.
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Optional kann die vorstehende Schicht 903 aus einem Material mit hoher Durchlässigkeit bestehen, dessen Durchlässigkeit größer als die der ersten organischen Materialschicht 211 ist. So kann die vorstehende Schicht 903 nicht abgezogen werden, so dass die vorstehende Schicht 903 in die erste organische Materialschicht 211 des Basissubstrats 200als dritte Füllmaterialschicht 808 eingebettet werden kann, die in die Verdünnungsrille 203 gefüllt wird, wie in 22 und 15 gezeigt. Mit anderen Worten kann das Anzeigepanel ferner die dritte Füllmaterialschicht 808 umfassen, die in die Verdünnungsrille 203 eingebettet ist.Die Durchlässigkeit der dritten Füllmaterialschicht 808 ist größer als die der ersten organischen Materialschicht 211. In einer Ausführungsformder vorliegenden Offenbarung besteht die dritte Füllmaterialschicht 808 aus einem farblosen und transparenten organischen Material, wie etwa einem farblosen und transparenten Polyimidmaterial.
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In weiteren Ausführungsformen, 6, ist die erste organische Materialschicht 211 auf ihrer der Treiberschaltungsschicht 300 zugewandten Seite mit einer Antireflexionsrille 201 versehen. Auf diese Weise kann beim Basissubstrat 200 eine Verdünnung der ersten organischen Materialschicht 211 im zweiten Anzeigebereich D erreicht werden, wodurch die Durchlässigkeit des Anzeigepanels im zweiten Anzeigebereich D verbessert wird.
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Optional kann in dieser Ausführungsform die Antireflexionsrille 201 die erste Antireflexionsrille sein, das heißt, die Größe der Kerbe ist größer als die Größe des Grunds, wodurch sichergestellt wird, dass die Materialien der Treiberschaltung Schicht und der lichtemittierenden Pixelschicht nacheinander die Antireflexionsrille 201 bedecken können, und somit ein Bruch an der Antireflexionsrille 201 vermieden wird. Die Antireflexionsrille 201 ist auch für die Herstellung geeignet, beispielsweise mit Photolithographie oder Belichtungsentwicklung.
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Optional können in einer Ausführungsform, 6 und 7, die erste Barriereschicht 212 und die zweite organische Materialschicht 213 nacheinander die Antireflexionsrille 201 auf der ersten organischen Materialschicht 211 bedecken. Wie in 8 gezeigt, kann in einer weiteren Ausführungsform die erste Barriereschicht 212 ein ausgehöhltes Loch 202 aufweisen, das die Antireflexionsrille 201 freilegt. Die Kante des ausgehöhlten Lochs 202 fällt mit der Kante der Kerbe der Antireflexionsrille 201 nahe der ersten Barriereschicht 212 zusammen. Auf diese Weise kann die erste organische Materialschicht 211 unter Verwendung der ersten Barriereschicht 212 als Maske strukturiert werden, um die erforderliche Antireflexionsrille 201 zu bilden.
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Optional kann die zweite organische Materialschicht 213 aus einem hochtransparenten organischen Material hergestellt sein, wie etwa farblosem und transparentem Polyimidmaterial, so dass die Durchlässigkeit der zweiten organischen Materialschicht 213 größer als die Durchlässigkeit des ersten organischen Materialschicht 211 ist, wodurch die Durchlässigkeit des zweiten Anzeigebereichs D weiter verbessert wird.
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Optional kann die Tiefe der Antireflexionsrille 201 das 0,5-1-fache der Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 betragen. Ferner kann die Tiefe der Antireflexionsrille 201 das 0,8-1-fache der Dickeder ersten organischen Materialschicht 211 betragen.
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Wie in 7 und 8 gezeigt, dringt die Antireflexionsrille 201 durch die erste organische Materialschicht 211. Mit anderen Worten ist die Tiefe der Antireflexionsrille 201 einmal so groß wie die Dicke der ersten organischen Materialschicht 211.
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In weiteren Ausführungsformen, 9 und 10, umfasst das Anzeigepanel ferner eine erste Füllmaterialschicht 806, die zwischen dem Basissubstrat 200 und der Treiberschaltungsschicht 300 und in der Antireflexionsrille 201 angeordnet ist. Die Füllmaterialschicht 806 hat eine größere Durchlässigkeit als die erste organische Materialschicht 211. Auf diese Weise kann die erste Füllmaterialschicht 806 die Oberfläche des Basissubstrats 200 auffüllen,so dass eine relativ flache Oberfläche für die Treiberschaltungsschicht 300 bereitgestellt wird.
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Optional ist die erste Füllmaterialschicht 806 aus einem organischen Material hergestellt, um die Flexibilität des Anzeigepanels und die Leistungsfähigkeit des Basissubstrats 200 zu verbessern. Ferner kann die erste Füllmaterialschicht 806 aus einem farblosen und transparenten Polyimid-Material hergestellt werden.
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Optional kann die erste Füllmaterialschicht 806 in der ersten Antireflexionsrille angeordnet sein.
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In weiteren Ausführungsformen, 11, ist die erste organische Materialschicht 211 mit einer Antireflexionsrille 201 auf ihrer der Treiberschaltungsschicht 300 angewandten Seite versehen. Mit anderen Worten ist die Antireflexionsrille 201 in der ersten organischen Materialschicht 211 angeordnet und befindet sich der Kerbe auf der der Treiberschaltungsschicht 300 abgewandten Oberfläche der ersten organischen Materialschicht. Auf diese Weise kann die erste organische Materialschicht 211 verdünnt werden, ohne die Ebenheit der Oberfläche des Basissubstrats 200 an der dem Basissubstrat 200 zugewandten Seite zu beeinträchtigen.
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Optional ist die Antireflexionsrille 201 die zweite Antireflexionsrille, das heißt, die Größe der Kerbe der Antireflexionsrille 201 ist größer als die Größe des Grunds, was die Herstellungder Antireflexrille 201 erleichtern kann.
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In einem Herstellungsverfahren, 23, kann ein Trägersubstrat 902 mit einer vorstehenden Schicht 903 entsprechend der Antireflexionsrille 201 zuerst bereitgestellt werden und dann können verschiedene Filmschichten wie etwa ein Basissubstrat und dergleichen nacheinder gebildet werden. Dann kann das Trägersubstrat 902 zusammen mit der vorstehende Schicht 903 abgezogen werden, wie in 24 gezeigt. Das Abziehen der vorstehenden Schicht 903 ermöglicht, dass die Rückseite des Basissubstrats 200 mit der Antireflexionsrille 201 ausgebildet wird.
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Optional kann das Trägersubstrat 902 als Glassubstrat ausgebildet werden. Optional kann die vorstehende Schicht 903 aus einem anorganischen Material bestehen.
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Beispielsweise kann das Glassubstrat strukturiert werden, um die vorstehende Schicht 903 auf der Oberfläche des Glassubstrats zu bilden. Als weiteres Beispiel kann auf der Oberfläche des Trägersubstrats 902 eine Schicht aus lichtdurchlässigem Material gebildet werden, das ein anorganisches Material wie etwa Siliziumoxid, Siliziumnitrid, Siliziumoxinitrid und Metalloxid verwendet. Dann wird die lichtdurchlässige Materialschicht strukturiert, um die vorstehende Schicht 903 zu bilden. Ferner weist die vorstehende Schicht 903 eine bestimmte Durchlässigkeit in einem ultravioletten Band auf, um mit Laser abgezogen zu werden. Als weiteres Beispiel kann die Oberfläche der vorstehenden Schicht 903 auch mit einer Opferschicht versehen sein, beispielsweise einer Opferschicht aus einem anorganischen Material wie Siliziumnitrid oder Siliziumoxid. Wenn die vorstehende Schicht abgezogen wird, kann auch ein mechanisches Abziehverfahren zum Abziehen verwendet werden. In dieser Ausführungsform kann die vorstehende Schicht ein undurchsichtiges Material enthalten, beispielsweise kann sie als Metallfilmschicht ausgebildet werden.
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In einer weiteren Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung kann die vorstehende Schicht 903 aus einem Material mit hoher Durchlässigkeit bestehen, dessen Durchlässigkeit größer als die der ersten organischen Materialschicht 211 ist. So kann die vorstehende Schicht 903 nicht abgezogen werden, so dass die vorstehende Schicht 903 in die erste organische Materialschicht 211 des Basissubstrats 200 als zweite Füllmaterialschicht 807 eingebettet werden kann, die in die Antireflexionsrille 201 gefüllt wird, wie in 25 und 13 gezeigt. Mit anderen Worten kann das Anzeigepanel ferner diezweite Füllmaterialschicht 807 umfassen, die in die Antireflexionsrille 201 eingebettet ist.Die Durchlässigkeit der zweiten Füllmaterialschicht 807 ist größer als die der ersten organischen Materialschicht 211.
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Optional kann die Tiefe der Antireflexionsrille 201 das 0,5-1-fache der Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 betragen. Ferner kann die Tiefe der Antireflexionsrille 201 das 0,8-1-fache der Dicke der ersten organischen Materialschicht 211 betragen.Wie in 12 gezeigt, dringt beispielweise die Antireflexionsrille 201 durch die erste organische Materialschicht 211. Mit anderen Worten ist die Tiefe der Antireflexionsrille 201 einmal so groß wie die Dicke der ersten organischen Materialschicht 211.
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Optional ist die Rückfilmschicht 100 auf der der Treiberschaltungsschicht 300 abgewandten Seite des Basissubstrats 200 angeordnet, wie in 4 bis 17 gezeigt. Die Rückfilmschicht 100 ist mit einer Öffnung 101 versehen, in deren orthographischen Projektion auf dem Basissubstrat 200 sich der zweite Anzeigebereich D befindet. Ferner kann die Rückfilmschicht 100 mit dem Basissubstrat 200 übereine Haftschicht 110 verbunden sein, die ebenfalls nicht den zweiten Anzeigebereich D bedeckt.
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In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung wird auch eine Anzeigevorrichtung bereitstellt, die das Anzeigepanel gemäß den vorstehenden Ausführungsformen des Anzeigepanels umfasst. Die Anzeigevorrichtung kann als Smartphone-Bildschirm, Smartwatch-Bildschirm oder andere Art von Anzeigegeräten ausgebildet werden. Da die Anzeigevorrichtung das Anzeigepanel gemäß den vorstehenden Ausführungsformen des Anzeigepanels aufweist, hat sie die gleichen vorteilhaften Wirkungen, die hier nicht wiederholt werden.
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In einer Ausführungsform der vorliegenden Offenbarung umfasst die Anzeigevorrichtung ein Anzeigepanel und mindestens eine lichtempfindliche Komponente 901, die sich auf der dem Basissubstrat 200 zugewandten Seite des Anzeigepanels befindet und gerade dem zweiten Anzeigebereich D gegenüberliegt, wie 4 bis 17 gezeigt.
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Weitere Ausführungsformen der vorliegenden Offenbarung werden Fachleuten aus der Betrachtung der Beschreibung und der Praxis der hier offenbarten Offenbarung ersichtlich. Diese Anmeldung soll alle Variationen, Verwendungen oder Anpassungen der Offenbarung abdecken, die den allgemeinen Grundsätzen davon folgen und solche Abweichungen von der vorliegenden Offenbarung umfassen, wie sie in die bekannte oder übliche Praxis auf dem Fachgebiet fallen. Es ist beabsichtigt, dass die Beschreibung und Ausführungsformen nur als beispielhaft angesehen werden, wobei ein wahrer Umfang und Geist der vorliegenden Offenbarung durch die folgenden Ansprüche angegeben wird.
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Bezugszeichenliste
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- 100
- Rückfilmschicht
- 110
- Haftschicht
- 101
- Öffnung
- 200
- Basissubstrat
- 210
- organische Materialschicht
- 211
- erste organische Materialschicht
- 212
- erste Barriereschicht
- 213
- zweite organische Materialschicht
- 201
- Antireflexrille
- 202
- ausgehöhltes Loch
- 203
- Verdünnungsrille
- 300
- Treiberschaltungsschicht
- 301
- Transistor
- 310
- Halbleiterschicht
- 320
- Gate-Isolierschicht
- 330
- Gate-Schicht
- 340
- dielektrische Zwischenschicht
- 350
- Source-Drain-Metallschicht
- 400
- lichtemittierende Pixelschicht
- 410
- Pixelelektrodenschicht
- 420
- Pixeldefinitionsschicht
- 430
- Stützsäulenschicht
- 440
- organische lichtemittierende Funktionsschicht
- 450
- gemeinsame Elektrodenschicht
- 500
- Dünnfilm-Verkaselungsschicht
- 510
- erste anorganische Verkaselungsschicht
- 520
- organische Verkaselungsschicht
- 530
- zweite anorganische Verkaselungsschicht
- 600
- Berührungsfunktionsschicht
- 700
- Reflexionsreduktionsschicht
- 801
- Abdeckplatte
- 802
- optische Klebeschicht
- 803
- zweite Barriereschicht
- 804
- Pufferschicht
- 805
- Planarisierungsschicht
- 806
- erste Füllmaterialschicht
- 807
- zweite Füllmaterialschicht
- 808
- dritte Füllmaterialschicht
- 901
- lichtempfindliche Komponente
- 902
- Trägersubstrat
- 903
- vorstehende Schicht
- A
- Peripheriebereich
- B
- Anzeigebereich
- C
- erster Anzeigebereich
- D
- zweiter Anzeigebereich