DE112019006627T5

DE112019006627T5 - Nachbehandlungssystem mit mehreren Dosiermodulen

Info

Publication number: DE112019006627T5
Application number: DE112019006627.7T
Authority: DE
Inventors: Changsheng Su; Liqiang Bian; Lei Jiang; Yi Xie
Original assignee: Cummins Emission Solutions Inc
Current assignee: Cummins Emission Solutions Inc
Priority date: 2019-01-11
Filing date: 2019-01-11
Publication date: 2021-11-18
Also published as: WO2020143012A1; US20220025804A1; CN113286646A; US11525380B2; CN113286646B

Abstract

Ein Nachbehandlungssystem (100) schließt eine Zersetzungskammer (108), eine Reduktionsmittelpumpe (120), ein erstes Dosiermodul (110), ein zweites Dosiermodul (112) und eine Steuerung (133) ein. Das erste Dosiermodul (110) ist mit der Zersetzungskammer (108) gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe (120) aufzunehmen. Das zweite Dosiermodul (112) ist mit der Zersetzungskammer (108) gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe (120) unabhängig von dem ersten Dosiermodul (110) aufzunehmen. Die Steuerung (133) ist kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul (110) und dem zweiten Dosiermodul (112) gekoppelt. Die Steuerung (133) ist konfiguriert, um eine erste Volumenstromraterate von Reduktionsmittel, die von dem ersten Dosiermodul (110) in die Zersetzungskammer (108) bereitgestellt wird, und eine zweite Volumenstromraterate von Reduktionsmittel, die von dem zweiten Dosiermodul (112) in die Zersetzungskammer (108) bereitgestellt wird, unabhängig zu steuern.

Description

TECHNISCHES GEBIET
Die vorliegende Anmeldung betrifft allgemein ein Nachbehandlungssystem mit mehreren Dosiermodulen.
HINTERGRUND
Bei Verbrennungsmotoren wie Dieselmotoren können Stickoxid-Verbindungen (NO_x-Verbindungen) im Motorabgas abgegeben werden. Um NO_x-Emissionen zu reduzieren, kann ein Reduktionsmittel durch ein Dosiersystem in das Abgas dosiert werden. Das Dosiersystem umfasst einen Injektor, durch den das Reduktionsmittel in das Abgas dosiert wird.
Um das Mischen von Reduktionsmittel, das unter Verwendung des Injektors in Abgas eingespritzt wird, zu erleichtern, schließen viele Dosiersteuersysteme einen anwendungsspezifischen separaten Mischer ein, der teurer und komplizierter ist als ein einfacher skalierbarer Mischer. Der Mischer kann speziell für ein bestimmtes Dosiersteuerungssystem ausgewählt werden und ist dafür ausgelegt, das Reduktionsmittel über strukturelle Strömungsänderungsmerkmale (z. B. Schaufeln usw.) aufzubrechen. Wenn das Abgas über diese strukturellen Strömungsänderungsmerkmale strömt, kann ein Wirbel auf das Abgas auftreffen, um das Mischen zu erleichtern. Wenn der Mischer das Reduktionsmittel nicht effektiv zersetzt, können sich Ablagerungen bilden oder unerwünschte Nebenprodukte können ausgestoßen werden, wodurch verursacht wird, dass solche Dosiersteuersysteme unerwünscht sind.
KURZDARSTELLUNG
Implementierungen beziehen sich hierin auf ein Nachbehandlungssystem, das zwei individuell steuerbare Dosiermodule einschließt, die mit einer Zersetzungskammer gekoppelt sind, so dass der Abbau von Reduktionsmittel ohne einen teuren und komplizierten Mischer erleichtert wird. Stattdessen sind die Dosiermodule in verschiedenen Winkeln ausgerichtet, um entweder eine Kollision des von den Dosiermodulen injizierten Reduktionsmittels oder eine Verwirbelung des Reduktionsmittels innerhalb der Zersetzungskammer zu bewirken. Auf diese Weise sind Ausführungsformen des hierin beschriebenen Nachbehandlungssystems in der Lage, Reduktionsmittel wie erwünscht ohne einen spezialisierten Mischer abzubauen, wodurch Kosteneinsparungen ermöglicht werden und die Anpassungsfähigkeit des Nachbehandlungssystems an verschiedene Anwendungen (z. B. Zersetzungskammern mit unterschiedlichen Durchmessern usw.) erhöht wird. Ferner können Ausführungsformen der hierin beschriebenen Nachbehandlungssysteme die Verwendung einfacherer und skalierbarer Mischer ermöglichen.
In einer Ausführungsform schließt ein Nachbehandlungssystem eine Zersetzungskammer, eine Reduktionsmittelpumpe, ein erstes Dosiermodul, ein zweites Dosiermodul und eine Steuerung ein. Das erste Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe aufzunehmen. Das zweite Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe unabhängig von dem ersten Dosiermodul aufzunehmen. Die Steuerung ist kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul und dem zweiten Dosiermodul gekoppelt. Die Steuerung ist konfiguriert, um eine erste Volumenstromrate von Reduktionsmittel, die von dem ersten Dosiermodul in die Zersetzungskammer bereitgestellt wird, und eine zweite Volumenstromrate von Reduktionsmittel, die von dem zweiten Dosiermodul in die Zersetzungskammer bereitgestellt wird, unabhängig zu steuern.
In einer anderen Ausführungsform schließt ein Nachbehandlungssystem eine Zersetzungskammer, ein erstes Dosiermodul, ein zweites Dosiermodul und eine Steuerung ein. Das erste Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel aufzunehmen. Das zweite Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel aufzunehmen. Die Steuerung ist kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul und dem zweiten Dosiermodul gekoppelt. Die Steuerung ist konfiguriert, um das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul selektiv zu aktivieren und zu deaktivieren. Das erste Dosiermodul ist konfiguriert, um bei Aktivierung Reduktionsmittel entlang einer ersten Bahn in die Zersetzungskammer bereitzustellen. Das zweite Dosiermodul ist konfiguriert, um bei Aktivierung Reduktionsmittel entlang einer zweiten Bahn in die Zersetzungskammer bereitzustellen. Das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt, so dass: (i) die erste Bahn und die zweite Bahn sich innerhalb der Zersetzungskammer schneiden oder (ii) die erste Bahn und die zweite Bahn versetzte Wirbel bilden, die sich nicht innerhalb der Zersetzungskammer schneiden.
In noch einer anderen Ausführungsform schließt ein Nachbehandlungssystem eine Zersetzungskammer, ein erstes Dosiermodul, ein zweites Dosiermodul und eine Steuerung ein. Das erste Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel aufzunehmen. Das zweite Dosiermodul ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel aufzunehmen. Die Steuerung ist kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul und dem zweiten Dosiermodul gekoppelt. Die Steuerung ist konfiguriert, um das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul selektiv zu aktivieren und zu deaktivieren. Das erste Dosiermodul ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, und ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt, so dass Reduktionsmittel, das von dem ersten Dosiermodul bereitgestellt wird, entlang einer ersten Bahn innerhalb der Zersetzungskammer bereitgestellt wird und entlang der ersten Bahn in Abgase innerhalb der Zersetzungskammer dispergiert wird. Das zweite Dosiermodul ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, und ist mit der Zersetzungskammer gekoppelt, so dass Reduktionsmittel, das von dem zweiten Dosiermodul bereitgestellt wird, entlang einer zweiten Bahn innerhalb der Zersetzungskammer bereitgestellt wird und entlang der zweiten Bahn in Abgase innerhalb der Zersetzungskammer dispergiert wird. Die zweite Bahn unterscheidet sich von der ersten Bahn.
Figurenliste
Die Details einer oder mehrerer Implementierungen werden in den begleitenden Zeichnungen und der nachstehenden Beschreibung dargelegt. Weitere Merkmale, Gesichtspunkte und Vorteile der Offenbarung werden anhand der Beschreibung, der Zeichnungen und der Ansprüche ersichtlich, in denen:

1 ist ein schematisches Blockdiagramm eines beispielhaften Nachbehandlungssystems für einen Verbrennungsmotor;
2 ist eine Querschnittsansicht eines Abschnitts des in 1 gezeigten beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene A-A;
3 ist eine Querschnittsansicht eines Abschnitts des in 1 gezeigten beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene A-A, mit einem beispielhaften Reduktionsmittelzufuhrsystem;
4 ist eine seitliche Querschnittsansicht des in 3 gezeigten Teils des beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene B-B;
5 ist eine Querschnittsansicht eines Abschnitts des in 1 gezeigten beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene A-A, mit einem anderen beispielhaften Reduktionsmittelzufuhrsystem;
6 ist eine seitliche Querschnittsansicht des Abschnitts des in 5 gezeigten beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene C-C;
7 ist eine Querschnittsansicht eines Abschnitts des in 1 gezeigten beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene A-A, mit einem weiteren beispielhaften Reduktionsmittelzufuhrsystem;
8 ist eine seitliche Querschnittsansicht des in 7 gezeigten Teils des beispielhaften Nachbehandlungssystems, aufgenommen entlang der Ebene D-D;
9 ist eine Ansicht mehrerer Graphen, die eine beispielhafte Steuerstrategie für ein erstes Dosiermodul und ein zweites Dosiermodul eines Reduktionsmittelzufuhrsystems veranschaulichen;
10 ist eine Ansicht mehrerer Graphen, die eine weitere beispielhafte Steuerstrategie für ein erstes Dosiermodul und ein zweites Dosiermodul eines Reduktionsmittelzufuhrsystems veranschaulichen;
11 ist eine Ansicht mehrerer Graphen, die eine weitere beispielhafte Steuerstrategie für ein erstes Dosiermodul und ein zweites Dosiermodul eines Reduktionsmittelzufuhrsystems veranschaulichen; und
12 ist eine Ansicht mehrerer Graphen, die eine weitere beispielhafte Steuerstrategie für ein erstes Dosiermodul und ein zweites Dosiermodul eines Reduktionsmittelzufuhrsystems veranschaulichen;

Es ist anzumerken, dass es sich bei manchen oder allen der Figuren um schematische Darstellungen zu Zwecken der Veranschaulichung handelt. Die Figuren werden zum Zweck der Veranschaulichung einer oder mehrerer Implementierungen mit dem expliziten Verständnis bereitgestellt, dass sie nicht verwendet werden, um den Schutzumfang oder die Bedeutung der Ansprüche zu beschränken.
AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
Es folgen detailliertere Beschreibungen verschiedener Konzepte und Implementierungen von Methoden, Geräten und Systemen zur Verwendung mehrerer Dosiermodule in einem Nachbehandlungssystem. Die verschiedenen, vorstehend vorgestellten und nachstehend ausführlich beschriebenen Konzepte können auf eine von zahlreichen Weisen implementiert werden, da die beschriebenen Konzepte nicht auf eine bestimmte Art und Weise der Implementierung beschränkt sind. Beispiele für spezielle Implementierungen und Anwendungen werden hauptsächlich zu Zwecken der Veranschaulichung bereitgestellt.
I. Übersicht
Verbrennungsmotoren (z.B. Dieselverbrennungsmotoren usw.) erzeugen Abgase, die häufig durch ein Dosiersteuerungssystem in einem Nachbehandlungssystem behandelt werden. Dosiersteuerungssysteme spritzen Reduktionsmittel unter Verwendung eines Injektors in Abgas in einer Abgasleitung ein.
II. Überblick über ein beispielhaftes Nachbehandlungssystem
1 stellt ein Nachbehandlungssystem 100 dar, das ein beispielhaftes Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 für ein Abgassystem 104 aufweist. Das Nachbehandlungssystem 100 schließt auch einen Partikelfilter (z. B. einen Dieselpartikelfilter (DPF)) 106 ein. Der Partikelfilter 106 ist dazu konfiguriert (z. B. strukturiert, in der Lage usw.), Feinstaub, wie etwa Ruß, aus dem in dem Abgassystem 104 strömenden Abgas zu entfernen. Der Partikelfilter 106 schließt einen Einlass und einen Auslass ein. Der Einlass des Partikelfilters 106 erhält Abgas aus einem Abgaskrümmer einer Brennkraftmaschine (z. B. Dieselbrennkraftmaschine, Bi-Fuel-Brennkraftmaschine, Dual-Fuel-Brennkraftmaschine, Hybrid-Brennkraftmaschine etc.). Der Auslass des Partikelfilters 106 stellt das Abgas nachgeschalteten Komponenten des Nachbehandlungssystems 100 bereit, nachdem Partikel im Wesentlichen aus dem Abgas gefiltert wurden und/oder die Partikel in Kohlendioxid umgewandelt wurden. Bei einigen Implementierungen kann der Partikelfilter 106 weggelassen werden.
Das Nachbehandlungssystem 100 schließt auch eine Zersetzungskammer 108 (z. B. Reaktor, Reaktorrohr, Zersetzungsreaktor usw.) ein. Die Zersetzungskammer 108 schließt einen Einlass ein, der in Fluidverbindung mit dem Partikelfilter 106 steht, um das NO_x-Emissionen enthaltende Abgas aufzunehmen. Die Zersetzungskammer 108 ist dazu konfiguriert, ein Reduktionsmittel in Ammoniak umzuwandeln. Das Reduktionsmittel kann beispielsweise Harnstoff, Dieselabgasfluid (Diesel Exhaust Fluid, DEF), eine Harnstoffwasserlösung (Urea Water Solution, UWS), eine wässrige Harnstofflösung (z. B. AUS32 usw.) und andere ähnliche Fluide sein.
Die Zersetzungskammer 108 schließt das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 ein. Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 schließt ein erstes Dosiermodul 110 (z. B. Dosierer usw.) und ein zweites Dosiermodul 112 ein. Jedes des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 ist unabhängig mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel unabhängig in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren (z. B. einzuspritzen, anzutreiben, auszustoßen usw.).
Im Gegensatz zu anderen Nachbehandlungssystemen, die nur einen einzigen Dosierer einschließen, sind das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 unabhängig mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt und konfiguriert, um Reduktionsmittel unabhängig entlang Zielbahnen (z. B. Strömungswegen usw.) innerhalb der Zersetzungskammer in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren. Nach der Dosierung in die Zersetzungskammer 108 wird das Reduktionsmittel im Abgassystem 104 durch Verdampfung, Thermolyse und Hydrolyse zu gasförmigem Ammoniak umgesetzt.
Das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 dosieren Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 entlang Zielbahnen, so dass ein Gleichförmigkeitsindex (Uniformity Index, UI) des Reduktionsmittels im Abgas erhöht wird und/oder so dass die Bildung von Reduktionsmittelablagerungen innerhalb der Zersetzungskammer 108 minimiert wird. Erhöhungen des UI des Reduktionsmittels im Abgas erleichtern eine Erhöhungen der Bildung von gasförmigem Ammoniak und entsprechende Verringerungen der Bildung von Reduktionsmittelablagerungen innerhalb des Abgassystems 104 und der Emission unerwünschter Nebenprodukte aus dem Abgassystem 104. Durch Reduzieren der Bildung von Reduktionsmittelablagerungen innerhalb der Zersetzungskammer 108 kann die Zersetzungskammer 108 für einen längeren Zeitraum als andere Systeme, die Ablagerungen nicht eindämmen, weiterhin wie erwünscht arbeiten.
Das Nachbehandlungssystem 100 ist in der Lage, aufgrund der Zielbahnen des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 eine Ziel-UI des Reduktionsmittels im Abgas ohne einen relativ teuren und/oder komplexen Mischer zu erhalten. Auf diese Weise bewirken das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112, dass das Nachbehandlungssystem 100 wünschenswerter ist als andere Systeme, die relativ teure und/oder komplexe Mischer erfordern, um eine Ziel-UI des Reduktionsmittels im Abgas zu erhalten. Zusätzlich kann das Nachbehandlungssystem 100 einem Verbrennungsmotor einen niedrigeren Gegendruck bereitstellen als ein System mit einem relativ teuren und/oder komplexen Mischer, wodurch eine Erhöhung der Kraftstoffeffizienz des Verbrennungsmotors im Vergleich zu dem System mit einem relativ teuren und/oder komplexen Mischer ermöglicht wird. Durch unterschiedliches Positionieren des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 auf der Zersetzungskammer 108, wie unterschiedlich in den 2-8 gezeigt, können die Bahnen des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 so geändert werden, dass ein Ziel-UI des Reduktionsmittels im Abgas erhalten werden kann. In einigen Ausführungsformen sind das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 basierend auf einem Durchmesser der Zersetzungskammer 108 positioniert. Wenn zum Beispiel der Durchmesser der Zersetzungskammer 108 relativ klein ist (z. B. 3 Zoll, 5 Zoll, 6 Zoll, 10 Zoll usw.), können das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 Bahnen aufweisen, die sich schneiden, um eine Kollision von Reduktionsmittel, das von dem ersten Dosiermodul 110 eingespritzt wird, und Reduktionsmittel, das von dem zweiten Dosiermodul 112 eingespritzt wird, zu verursachen. In einem anderen Beispiel, in dem der Durchmesser der Zersetzungskammer 108 relativ groß ist (z. B. 22 Zoll, 20 Zoll, 18 Zoll, 15 Zoll usw.), können das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 Bahnen aufweisen, die sich nicht schneiden, um zu bewirken, dass das von dem ersten Dosiermodul 110 injizierte Reduktionsmittel und das im zweiten Dosiermodul 112 injizierte Reduktionsmittel innerhalb der Zersetzungskammer 108 separat verwirbeln. Das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 ermöglichen eine rationelle Anpassung des Nachbehandlungssystems 100 an eine Zielanwendung, da das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 individuell steuerbar sind. Insbesondere kann die Volumenstromrate des Reduktionsmittels, das von dem ersten Dosiermodul 110 in die Zersetzungskammer 108 bereitgestellt wird, unabhängig von der Volumenstromrate des Reduktionsmittels, das von dem zweiten Dosiermodul 112 in die Zersetzungskammer 108 bereitgestellt wird, gesteuert werden. Auf diese Weise kann das Nachbehandlungssystem 100 auf eine Zielanwendung zugeschnitten werden, indem einfach die Steuerung des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 geändert wird, anstatt einen Mischer zu installieren, der spezifisch für eine spezifische Anwendung ausgelegt ist, wodurch bewirkt wird, dass das Nachbehandlungssystem 100 wünschenswerter ist als andere Systeme, welche die Installation anwendungsspezifischer Mischer erfordern.
Obwohl das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 hierin als zwei Dosiermodule einschließend beschrieben ist, versteht es sich, dass das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 in ähnlicher Weise drei, vier, fünf, sechs oder mehr Dosiermodule einschließen kann. Die Positionierung des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 relativ zur Zersetzungskammer 108 ist nur veranschaulichend, und es versteht sich, dass das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 in verschiedenen anderen Konfigurationen mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt sein können.
Das erste Dosiermodul 110 kann einen ersten Isolator 114 einschließen, der zwischen einem Abschnitt des ersten Dosiermoduls 110 und dem Abschnitt der Zersetzungskammer 108 angeordnet ist, an den das erste Dosiermodul 110 gekoppelt ist. Der erste Isolator 114 ist konfiguriert, um mindestens einen Teil des ersten Dosiermoduls 110 vor Wärme und/oder Vibrationen aus der Zersetzungskammer 108 zu isolieren.
Das zweite Dosiermodul 112 kann einen zweiten Isolator 116 einschließen, der zwischen einem Abschnitt des zweiten Dosiermoduls 112 und dem Abschnitt der Zersetzungskammer 108 angeordnet ist, an den das zweite Dosiermodul 112 gekoppelt ist. Der zweite Isolator 116 ist konfiguriert, um mindestens einen Teil des zweiten Dosiermoduls 112 vor Wärme und/oder Vibrationen aus der Zersetzungskammer 108 zu isolieren.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 schließt eine Reduktionsmittelquelle 118 ein. Die Reduktionsmittelquelle 118 kann mehrere Reduktionsmittelquellen 118 einschließen. Die Reduktionsmittelquelle 118 kann beispielsweise ein Dieselabgasfluidtank sein, der Harnstoff enthält. Die Reduktionsmittelquelle 118 ist mit einer Reduktionsmittelpumpe 120 (z. B. Reduktionsmittelversorgungseinheit, Zentrifugalpumpe, Verdrängerpumpe usw.) über eine Reduktionsmittelsaugleitung 122 (z. B. Leitung, Rohr usw.) fluidisch gekoppelt (z. B. fluidisch konfiguriert, um mit dieser zu kommunizieren usw.). Die Reduktionsmittelpumpe 120 wird verwendet, um Reduktionsmittel aus der Reduktionsmittelquelle 118 zu ziehen und das Reduktionsmittel aus der Reduktionsmittelquelle 118 unter Druck zu setzen. In einigen Ausführungsformen wird die Reduktionsmittelpumpe 120 druckgesteuert (z. B. gesteuert, um einen Solldruck usw. zu erhalten). In einigen Ausführungsformen ist die Reduktionsmittelpumpe 120 mit einem Fahrgestell eines Fahrzeugs (z.B. eines Wasserfahrzeugs, Bootes, Cargo-Schiffes, Lastkahns, Containerschiffs, Landfahrzeugs, Nutzfahrzeugs, LKWs, usw.), an das ein Nachbehandlungssystem 100 angeschlossen ist, gekoppelt.
Die Reduktionsmittelpumpe 120 kann einen Filter 124 einschließen. Der Filter 124 (z.B. Belastung, usw.) filtert das Reduktionsmittel, bevor das Reduktionsmittel den internen Komponenten (z.B. Kolben, Schaufeln usw.) der Reduktionsmittelpumpe 120 bereitgestellt wird. Beispielsweise kann das Filter 124 die Übertragung von Feststoffen (z.B. verfestigtem Reduktionsmittel, Verunreinigungen usw.) auf die internen Komponenten der Reduktionsmittelpumpe 120 hemmen oder verhindern. Auf diese Weise kann der Filter 124 einen längeren, wünschenswerten Betrieb der Reduktionsmittelpumpe 120 ermöglichen.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 schließt auch eine Reduktionsmittelzufuhrleitung 126 ein, die fluidisch mit der Reduktionsmittelpumpe 120, dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 gekoppelt ist. Die Reduktionsmittelzufuhrleitung 126 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe 120 dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 bereitzustellen.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 schließt auch eine Reduktionsmittelrückführleitung 128 ein, die fluidisch mit der Reduktionsmittelquelle 118, dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 gekoppelt ist. Die Reduktionsmittelrückführleitung 128 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel (z.B. Rückfluss usw.) von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Reduktionsmittelquelle 118 (z.B. zur Wiederverwendung usw.) zurückzuführen.
In einer beispielhaften Ausführungsform schließt das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 nur eine einzige Reduktionsmittelpumpe 120 ein und schließt keine mehreren Pumpen ein, wobei jede der mehreren Pumpen nur einem des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 zugeordnet ist. Stattdessen stellt die Reduktionsmittelpumpe 120 sowohl dem ersten Dosiermodul 110 als auch dem zweiten Dosiermodul 112 Reduktionsmittel bereit (über zwei separate Anschlüsse an der Reduktionsmittelzufuhrleitung 126) und ist konfiguriert, um Reduktionsmittel sowohl von dem ersten Dosiermodul 110 als auch dem zweiten Dosiermodul 112 aufzunehmen (über zwei separate Anschlüsse an der Reduktionsmittelrücklaufleitung 128).
Das Nachbehandlungssystem 100 schließt auch einen Mischer 132 ein, welcher der Zersetzungskammer 108 nachgelagert des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 angeordnet ist. Der Mischer 132 kann ein einfacher und leicht skalierbarer Mischer sein (z.B. ein Flügelplattenmischer usw.). Der Mischer 132 ist konfiguriert, um das von dem Partikelfilter 106 empfangene Abgas und das von dem ersten Dosiermodul 110 und von dem zweiten Dosiermodul 112 empfangene Reduktionsmittel so zu mischen, dass das Reduktionsmittel im Abgas dispergiert wird (z.B. eine im Wesentlichen homogene Mischung des Reduktionsmittels und des Abgases bildet, usw.).
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 schließt auch eine Steuerung 133 ein. Die Steuerung 133 ist elektrisch oder kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul 110, dem zweiten Dosiermodul 112 und der Reduktionsmittelpumpe 120 gekoppelt. Die Steuerung 133 ist konfiguriert, um das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 zu steuern, um das Reduktionsmittel gemäß einem Dosierplan in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Die Steuerung 133 kann auch konfiguriert sein, um die Reduktionsmittelpumpe 120 zu steuern. Die Steuerung 133 kann einen Mikroprozessor, eine anwendungsspezifische integrierte Schaltung (ASIC), ein feldprogrammierbares Gate-Array (FPGA) usw. oder Kombinationen davon, einschließen. Die Steuerung 133 kann einen Speicher einschließen, der unter anderem eine elektronische, optische, magnetische oder eine andere Speicher- oder Sendevorrichtung einschließen kann, die dazu fähig ist, einem Prozessor, einer ASIC, einem FPGA usw. Programmanweisungen bereitzustellen. Der Speicher kann einen Speicherchip, einen elektrisch löschbaren programmierbaren Nur-Lese-Speicher (Electrically Erasable Programmable Read-Only Memory (EEPROM)), einen löschbaren programmierbaren Nur-Lese-Speicher (Erasable Programmable Read Only Memory (EPROM)), einen Flash-Speicher oder einen anderen geeigneten Speicher enthalten, aus dem die Steuerung Anweisungen lesen kann. Die Anweisungen können einen Code aus einer beliebigen geeigneten Programmiersprache einschließen.
Das Nachbehandlungssystem 100 schließt auch einen Katalysator 134 für selektive katalytische Reduktion (SCR) ein. Der SCR-Katalysator 134 ist konfiguriert, um das Abgas, die NO_x-Emissionen, Ammoniak und/oder Reduktionsmittel aus der Zersetzungskammer 108 aufzunehmen. Der SCR-Katalysator 134 ist dazu konfiguriert, zu der Reduzierung von NO_x-Emissionen beizutragen, indem ein NO_x-Reduktionsprozess zwischen dem Ammoniak und dem NO_x des Abgases in zweiatomigen Stickstoff, Wasser und/oder Kohlendioxid beschleunigt wird. Der SCR-Katalysator 134 schließt einen Einlass in Fluidverbindung mit der Zersetzungskammer 108, aus dem Abgas und Reduktionsmittel aufgenommen werden, und einen Auslass in Fluidverbindung mit einem Auslass des Abgassystems 104 ein (z.B. befindet sich der SCR-Katalysator 134 unmittelbar einem Schalldämpfers usw. vorgelagert).
Das Abgassystem 104 kann ferner einen Oxidationskatalysator (z. B. einen Dieseloxidationskatalysator (DOC)) in Fluidverbindung mit dem Abgassystem 104 (z. B. dem SCR-Katalysator 134 nachgelagert oder dem Partikelfilter 106 vorgelagert) einschließen, um Kohlenwasserstoffe und Kohlenmonoxid im Abgas zu oxidieren.
In einigen Implementierungen kann der Partikelfilter 106 der Zersetzungskammer 108 nachgelagert positioniert sein (z.B. der Zersetzungskammer 108 nachgelagert und dem SCR-Katalysator 134 vorgelagert, der Zersetzungskammer 108 und dem SCR-Katalysator 134 nachgelagert, usw.). Beispielsweise können der Partikelfilter 106 und der SCR-Katalysator 134 in einer einzigen Einheit kombiniert sein.
In einigen Ausführungsformen schließt das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 eine Luftquelle 136 (z.B. Lufteinlass, Luftkasten, Luftfilter usw.) und eine Luftpumpe 138 (z.B. Lüfter usw.) ein. Die Luftpumpe 138 ist konfiguriert, um Luft aus der Luftquelle 136 zu ziehen und die Luft dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 bereitzustellen. In solchen Ausführungsformen sind das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 konfiguriert, um Reduktionsmittel aus der Reduktionsmittelquelle 118 mit Luft aus der Luftquelle 136 zu mischen und ein Luft-Reduktionsmittel-Gemisch in die Zersetzungskammer 108 bereitzustellen.
In einigen Ausführungsformen schließen die Nachbehandlungssysteme 100 einen Sensor 140 ein, der elektrisch oder kommunikativ mit der Steuerung 133 gekoppelt ist. In solchen Ausführungsformen ist der Sensor 140 an das Abgassystem 104 gekoppelt, um einen Zustand des durch das Abgassystem 104 strömenden Abgases zu erkennen. Bei einigen Implementierungen kann der Sensor 140 einen Abschnitt aufweisen, der innerhalb des Abgassystems 104 angeordnet ist; zum Beispiel kann sich eine Spitze des Sensors 140 in einen Abschnitt des Abgassystems 104 erstrecken. Bei anderen Implementierungen kann der Sensor 140 Abgas durch eine andere Leitung empfangen, wie etwa durch ein oder mehrere Probenrohre, die sich aus dem Abgassystem 104 erstrecken. Während der Sensor 140 so dargestellt ist, dass er dem SCR-Katalysator 134 nachgelagert ist, versteht es sich, dass der Sensor 140 an anderen Positionen des Abgassystems 104, einschließlich dem Partikelfilter 106 vorgelagert, im Partikelfilter 106, zwischen dem Partikelfilter 106 und der Zersetzungskammer 108, innerhalb der Zersetzungskammer 108, zwischen der Zersetzungskammer 108 und dem SCR-Katalysator 134, im SCR-Katalysator 134 oder dem SCR-Katalysator 134 nachgelagert, angeordnet sein kann. Zusätzlich können zwei oder mehr Sensoren 140 dazu genutzt werden, einen Zustand des Abgases zu erkennen, wie etwa zwei, drei, vier, fünf oder sechs Sensoren 140, wobei sich jeder Sensor 140 an einer der vorher erwähnten Positionen des Abgassystems 104 befindet.
2 veranschaulicht einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene A-A von 1. Das erste Dosiermodul 110 umfasst einen ersten Eingang 200 (z.B. Eingangsanschluss, Eingangsverbindung usw.) und einen ersten Ausgang 202 (z.B. Ausgangsanschluss, Ausgangsverbindung usw.). Der erste Eingang 200 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt und der erste Ausgang 202 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 2 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das erste Dosiermodul 110 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann (z.B., wenn das Nachbehandlungssystem 100 die Luftpumpe 138 einschließt, usw.). Das erste Dosiermodul 110 schließt auch einen ersten Injektor 204 ein. Der erste Injektor 204 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel von dem ersten Eingang 200 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der erste Injektor 204 ist auf einer ersten Injektormittelachse 206 zentriert. Die Zersetzungskammer 108 ist auf einer Mittelachse 208 der Zersetzungskammer zentriert und durch eine Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer zweigeteilt. In einigen Ausführungsformen teilt die erste Injektormittelachse 206 den ersten Injektor 204 und/oder das erste Dosiermodul 110 symmetrisch. In einigen Ausführungsformen teilt die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer die Zersetzungskammer 108 symmetrisch. In verschiedenen Ausführungsformen befindet sich der erste Injektor 204 auf einer Seite (z. B. linke Seite, rechte Seite usw.) der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer und der zweite Injektor 206 befindet sich auf der anderen Seite (z. B. rechte Seite, linke Seite usw.) der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer.
Die erste Injektormittelachse 206 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer an der Mittelachse 208 der Zersetzungskammer, so dass die erste Injektormittelachse 206 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch einen ersten Injektorachsenwinkel α₁ getrennt ist. Der erste Injektor 204 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem ersten Sprühkegel 212 mit einem ersten Injektorsprühwinkel σ₁ zu sprühen (z. B. Alpha-Winkel, Sprühkegelwinkel, Kegelwinkel, usw.). Der erste Sprühkegel 212 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem ersten Injektor 204 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem ersten Injektor 204 dosiert wird, auftreten.
Das zweite Dosiermodul 112 schließt einen zweiten Eingang 214 (z. B. Eingangsverbinder, Eingangsanschluss, usw.) und einen zweiten Ausgang 216 (z. B. Ausgangsverbinder, Ausgangsanschluss, usw.) ein. Der zweite Eingang 214 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt, und der zweite Ausgang 216 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 2 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das zweite Dosiermodul 112 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann (z. B. wenn das Nachbehandlungssystem 100 die Luftpumpe 138 einschließt, usw.). Das zweite Dosiermodul 112 schließt auch einen zweiten Injektor 218 ein. Der zweite Injektor 218 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel von dem zweiten Eingang 214 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der zweite Injektor 218 ist auf einer zweiten Injektormittelachse 220 zentriert. In einigen Ausführungsformen teilt die Mittelachse 220 des zweiten Injektors den zweiten Injektor 218 und/oder das zweite Dosiermodul 112 symmetrisch. Die zweite Injektormittelachse 220 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer an der Mittelachse 208 der Zersetzungskammer, so dass die zweite Injektormittelachse 220 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch einen zweiten Injektorachsenwinkel α₂ getrennt ist. Der zweite Injektor 218 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem zweiten Sprühkegel 222 mit einem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂ zu sprühen. Der zweite Sprühkegel 222 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem zweiten Injektor 218 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem zweiten Injektor 218 dosiert wird, auftreten.
Jeder des ersten Injektorachsenwinkels α₁, des ersten Injektorsprühwinkels σ₁, des zweiten Injektorachsenwinkels α₂ und des zweiten Injektorsprühwinkels σ₂ kann durch unterschiedliches Koppeln des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 mit der Zersetzungskammer 108 und durch unterschiedliches Auswählen des ersten Injektors 204 und des zweiten Injektors 218 unabhängig ausgewählt werden, so dass das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102 auf eine Zielanwendung zugeschnitten ist. In einigen Ausführungsformen ist der erste Injektorachsenwinkel α₁ gleich 360° minus dem zweiten Injektorachsenwinkel α₂ (α₁ = 360° - α₂), und der erste Injektorsprühwinkel σ₁ entspricht dem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ ungefähr (z. B. innerhalb von 5 % usw.) dem zweiten Injektorachsenwinkel α₂. In diesen Ausführungsformen ist der erste Injektor 204 mit dem zweiten Injektor 218 entlang einer Achse ausgerichtet, die im Wesentlichen parallel zur Mittelachse der Zersetzungskammer 208 ist, so dass ein Abstand (z. B. ein Zoll, drei Zoll, zehn Zoll usw.) zwischen dem ersten Injektor 204 und dem zweiten Injektor 218 besteht.
In einigen Ausführungsformen liegt der erste Injektorachsenwinkel α₁ zwischen einschließlich 0° und 90° (z. B. einschließlich 0°, einschließlich 90° usw.) und der zweite Injektorachsenwinkel α₂ liegt zwischen einschließlich 270° und 360°. In anderen Ausführungsformen liegt der erste Injektorachsenwinkel α₁ zwischen einschließlich 0° und 90°, und der zweite Injektorachsenwinkel α₂ liegt zwischeneinschließlich 0° und 90°.
In verschiedenen Ausführungsformen ist der erste Injektorachsenwinkel α₁, der erste Injektorsprühwinkel σ₁, der zweite Injektorachsenwinkel α₂ und der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ jeweils so ausgewählt, dass sich der erste Sprühkegel 212 und der zweite Sprühkegel 222 überlappen. Auf diese Weise kann Reduktionsmittel, das aus dem ersten Injektor 204 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird, mit Reduktionsmittel, das aus dem zweiten Injektor 218 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird, in Kontakt kommen (z. B. Schnittstellen bilden mit, zusammenstoßen, kollidieren usw.). Dieser Kontakt kann dazu führen, dass das Reduktionsmittel aufbricht (z. B. sich in kleinere Tröpfchen auftrennt usw.), wodurch eine erhöhte Dispersion des Reduktionsmittels im Abgas erleichtert wird.
III. Erstes Beispiel des Reduktionsmittelzufuhrsystems
3 veranschaulicht ein beispielhaftes Reduktionsmittelzufuhrsystem 300, das in dem Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist und über einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene A-A von 1 gezeigt ist. Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 300 ist in einer Ausführungsform das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102. Dementsprechend gilt die vorstehende Beschreibung des Reduktionsmittelzufuhrsystems 102 für das Reduktionsmittelzufuhrsystem 300.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 300 schließt ein erstes Dosiermodul 302 ein. Die vorstehende Beschreibung des ersten Dosiermoduls 110 gilt für das erste Dosiermodul 302. Das erste Dosiermodul 302 schließt einen ersten Eingang 304 und einen ersten Ausgang 306 ein. Der erste Eingang 304 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt, und der erste Ausgang 306 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 3 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das erste Dosiermodul 302 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann. Das erste Dosiermodul 302 schließt auch einen ersten Injektor 308 ein. Der erste Injektor 308 ist so konfiguriert, dass er das Reduktionsmittel vom ersten Eingang 304 aufnimmt und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 dosiert.
Der erste Injektor 308 ist auf einer ersten Injektormittelachse 310 zentriert (z. B. geteilt durch, usw.). Die erste Injektormittelachse 310 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer an der Mittelachse 208 der Zersetzungskammer, so dass die erste Injektormittelachse 310 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch einen ersten Injektorachsenwinkel α₁ getrennt ist. Der erste Injektor 308 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem ersten Sprühkegel 312 mit einem ersten Injektorsprühwinkel σ₁ zu sprühen. Der erste Sprühkegel 312 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem ersten Injektor 308 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem ersten Injektor 308 dosiert wird, auftreten.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 300 schließt ein zweites Dosiermodul 314 ein. Die vorstehende Beschreibung des zweiten Dosiermoduls 112 gilt für das zweite Dosiermodul 314. Das zweite Dosiermodul 314 schließt einen zweiten Eingang 316 und einen zweiten Ausgang 318 ein. Der zweite Eingang 316 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt, und der zweite Ausgang 318 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 3 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das zweite Dosiermodul 314 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann. Das zweite Dosiermodul 314 schließt auch einen zweiten Injektor 320 ein. Der zweite Injektor 320 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel von dem zweiten Eingang 316 anzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der zweite Injektor 320 ist auf einer zweiten Injektormittelachse 322 zentriert. In einigen Ausführungsformen teilt die zweite Injektormittelachse 322 den zweiten Injektor 320 und/oder das zweite Dosiermodul 314 symmetrisch. Die zweite Injektormittelachse 322 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer an der Mittelachse 208 Zersetzungskammer, so dass die zweite Injektormittelachse 322 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch einen zweiten Injektorachsenwinkel α₂ getrennt ist. Der zweite Injektor 320 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem zweiten Sprühkegel 324 mit einem Sprühwinkel σ₂ des zweiten Injektors zu sprühen. Der zweite Sprühkegel 324 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem zweiten Injektor 320 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem zweiten Injektor 320 dosiert wird, auftreten.
In 3 ist der erste Injektorachsenwinkel α₁ gleich 360° minus dem zweiten Injektorachsenwinkel α₂ und der erste Injektorsprühwinkel σ₁ entspricht dem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ 35°, der zweite Injektorachsenwinkel α₂ entspricht 325°, der erste Injektorsprühwinkel σ₁ entspricht 40° und der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ entspricht 40°. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ zwischen einschließlich 5° und 90°. In anderen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ zwischen einschließlich 0° und 45°. In noch anderen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ zwischen einschließlich 45° und 90°. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorachsenwinkel α₂ zwischen einschließlich 270° und 355°. In anderen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorachsenwinkel α₂ zwischen einschließlich 315° und 360°. In noch anderen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorachsenwinkel α₂ zwischen einschließlich 270° und 315°. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorsprühwinkel σ₁ zwischen einschließlich 10° und 30°. In anderen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorsprühwinkel σ₁ zwischen einschließlich 5° und 45°. In noch anderen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorsprühwinkel σ₁ zwischen einschließlich 25° und 40°. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ zwischen einschließlich 10° und 30°. In anderen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ zwischen einschließlich 5° und 45°. In noch anderen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ zwischen einschließlich 25° und 40°.
Wie in 3 dargestellt, werden große Reduktionsmitteltröpfchen 326 von dem ersten Injektor 308 entlang der ersten Injektormittelachse 310 zur Zersetzungskammer 108 dosiert und große Reduktionsmitteltröpfchen 328 von dem zweiten Injektor 320 entlang der zweiten Injektormittelachse 322 zur Zersetzungskammer 108 dosiert. Wenn die großen Reduktionsmitteltröpfchen 326 mit den großen Reduktionsmitteltröpfchen 328 in Kontakt kommen, werden kleine Reduktionsmitteltröpfchen 330 aus den großen Reduktionsmitteltröpfchen 326 und den großen Reduktionsmitteltröpfchen 328 aufgrund des Kontakts zwischen ihnen gebildet. Wie auch in 3 gezeigt, kann dieser Kontakt bewirken, dass einige der kleinen Reduktionsmitteltröpfchen 330 aus dem ersten Sprühkegel 312 und dem zweiten Sprühkegel 324 herausgeschleudert werden.
3 veranschaulicht auch eine erste Bahn 332 und eine zweite Bahn 334. Die erste Bahn 332 unterscheidet sich von der zweiten Bahn 334. Die erste Bahn 332 veranschaulicht den Strom des Reduktionsmittels, das aus dem ersten Injektor 308 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird. In ähnlicher Weise veranschaulicht die zweite Bahn 334 den Strom des Reduktionsmittels, das aus dem zweiten Injektor 320 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird. Das erste Dosiermodul 302 und das zweite Dosiermodul 314 sind jeweils mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt, so dass sich die erste Bahn 332 und die zweite Bahn 334 nahe der Mittelachse 208 der Zersetzungskammer schneiden. Diese Kollision erleichtert eine zusätzliche Zersetzung (z. B. Vermischen, usw.) des Reduktionsmittels im Abgas, wodurch der UI des Reduktionsmittels im Abgas erhöht wird.
4 veranschaulicht das Reduktionsmittelzufuhrsystem 300 über einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene B-B von 3. In 4 erfolgt der Strom des Abgases von einem Zersetzungskammereinlass 400 zu einem Zersetzungskammerauslass 402. Der Zersetzungskammereinlass 400 ist von dem Zersetzungskammerauslass 402 durch eine Zersetzungskammerlänge L getrennt. Abgesehen davon, dass es mit der Zersetzungskammer 108 unter dem ersten Injektorachsenwinkel α₁ gekoppelt ist, ist das erste Dosiermodul 302 auch mit der Zersetzungskammer 108 so gekoppelt, dass die erste Injektormittelachse 310 in einem ersten Injektorabstand d₁ von dem Zersetzungskammereinlass 400 angeordnet ist. Der erste Injektorabstand d₁ entspricht einem Bruchteil der Zersetzungskammerlänge L. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorabstand d₁ ungefähr 1/6 der Zersetzungskammerlänge L.
Obwohl in 4 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das zweite Dosiermodul 314 in ähnlicher Weise mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt ist, so dass der zweite Injektor 320 in einem zweiten Injektorabstand d₂ von dem Zersetzungskammereinlass 400 angeordnet ist. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorabstand d₁ dem zweiten Injektorabstand d₂. In anderen Ausführungsformen unterscheidet sich jedoch der erste Injektorabstand d₁ von dem zweiten Injektorabstand d₂ (ist z. B. Größer als, kleiner als, usw.).
IV. Zweites Beispiel des Reduktionsmittelzufuhrsystems
5 veranschaulicht ein beispielhaftes Reduktionsmittelzufuhrsystem 500, das in dem Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist und über einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene A-A von 1 gezeigt ist. In einer Ausführungsform ist das Reduktionsmittelzufuhrsystem 500 das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102. Dementsprechend gilt die vorstehende Beschreibung des Reduktionsmittelzufuhrsystems 102 für das Reduktionsmittelzufuhrsystem 500.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 500 schließt ein erstes Dosiermodul 502 ein. Die vorstehende Beschreibung des ersten Dosiermoduls 110 gilt für das erste Dosiermodul 702. Das erste Dosiermodul 502 schließt einen ersten Eingang 504 und einen ersten Ausgang 506 ein. Der erste Eingang 504 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt, und der erste Ausgang 506 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 5 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das erste Dosiermodul 502 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann. Das erste Dosiermodul 502 schließt auch einen ersten Injektor 508 ein. Der erste Injektor 508 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel von dem ersten Eingang 504 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der erste Injektor 508 ist auf einer ersten Injektormittelachse 510 zentriert (z. B. geteilt durch, usw.). Die erste Injektormittelachse 510 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer oberhalb der Mittelachse 208 der Zersetzungskammer, so dass die erste Injektormittelachse 510 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch einen ersten Injektorachsenwinkel α₁ getrennt ist. Der erste Injektor 508 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem ersten Sprühkegel 512 mit einem ersten Injektorsprühwinkel σ₁ zu sprühen. Der erste Sprühkegel 512 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem ersten Injektor 508 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem ersten Injektor 508 dosiert wird, auftreten.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 500 schließt ein zweites Dosiermodul 514 ein. Die vorstehende Beschreibung des zweiten Dosiermoduls 112 gilt für das zweite Dosiermodul 514. Das zweite Dosiermodul 514 schließt einen zweiten Eingang 516 und einen zweiten Ausgang 518 ein. Der zweite Eingang 516 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt, und der zweite Ausgang 518 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 5 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das zweite Dosiermodul 514 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann. Das zweite Dosiermodul 514 schließt auch einen zweiten Injektor 520 ein. Der zweite Injektor 520 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel von dem zweiten Eingang 516 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der zweite Injektor 520 ist auf einer zweiten Injektormittelachse 522 zentriert. In einigen Ausführungsformen teilt die zweite Injektormittelachse 522 den zweiten Injektor 520 und/oder das zweite Dosiermodul 514 symmetrisch. Die zweite Injektormittelachse 522 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer an der Mittelachse 208 der Zersetzungskammer, so dass die zweite Injektormittelachse 522 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch einen zweiten Injektorachsenwinkel α₂ getrennt ist. Der zweite Injektor 520 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem zweiten Sprühkegel 524 mit einem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂ zu sprühen. Der zweite Sprühkegel 524 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem zweiten Injektor 520 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem zweiten Injektor 520 dosiert wird, auftreten.
In 5 ist der erste Injektorachsenwinkel α₁ größer als 360° minus dem zweiten Injektorachsenwinkel α₂ (α₁ > 360° - α₂), und der erste Injektorsprühwinkel σ₁ entspricht dem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ 65°, der zweite Injektorachsenwinkel α₂ entspricht 305°. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorsprühwinkel σ₁ 45° und der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ entspricht 45°.
Wie in 5 dargestellt, werden große Reduktionsmitteltröpfchen 526 von dem ersten Injektor 508 entlang der ersten Injektormittelachse 510 zur Zersetzungskammer 108 dosiert und große Reduktionsmitteltröpfchen 528 von dem zweiten Injektor 520 entlang der zweiten Injektormittelachse 522 zur Zersetzungskammer 108 dosiert. Die großen Reduktionsmitteltröpfchen 526 und die großen Reduktionsmitteltröpfchen 528 berühren sich nicht (z. B. unterhalb des ersten Injektors 508 und des zweiten Injektors 520, usw.). Stattdessen zerfallen die großen Reduktionsmitteltröpfchen 526 und die großen Reduktionsmitteltröpfchen 528 dem ersten Injektors 508 und des zweiten Injektors 520 nachgelagert unabhängig in kleine Reduktionsmitteltröpfchen 530, wie in 6 gezeigt.
5 veranschaulicht auch eine erste Bahn 532 und eine zweite Bahn 534. Die erste Bahn 532 unterscheidet sich von der zweiten Bahn 534. Die erste Bahn 532 veranschaulicht den Strom des Reduktionsmittels, das aus dem ersten Injektor 508 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird. In ähnlicher Weise veranschaulicht die zweite Bahn 534 den Strom des Reduktionsmittels, das aus dem zweiten Injektor 520 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird. Die erste Bahn 532 schneidet die zweite Bahn 534. An dieser Schnittstelle kann Reduktionsmittel, das von dem ersten Injektor 508 bereitgestellt wird, mit Reduktionsmittel, das von dem zweiten Injektor 520 bereitgestellt wird, kollidieren, wodurch große Reduktionsmitteltröpfchen im Abgas in kleinere Reduktionsmitteltröpfchen zerlegt werden.
Das erste Dosiermodul 502 und das zweite Dosiermodul 514 sind jeweils so mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt, dass die erste Bahn 532 und die zweite Bahn 534 jeweils einen spiralförmigen (z. B. Korkenzieher, Spirale usw.) Wirbel (z. B. Drehung, Rotation, usw.) innerhalb der Zersetzungskammer 108 in entgegengesetzten Richtungen bilden. Dieser Wirbel erleichtert eine zusätzliche Zersetzung des Reduktionsmittels im Abgas, wodurch der UI des Reduktionsmittels im Abgas erhöht wird.
6 veranschaulicht das Reduktionsmittelzufuhrsystem 500 über einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene C-C von 5. In 6 erfolgt der Strom des Abgases von dem Zersetzungskammereinlass 400 zum Zersetzungskammerauslass 402. Neben der Kopplung mit der Zersetzungskammer 108 in dem ersten Injektorachsenwinkel α₁ ist das erste Dosiermodul 502 auch mit der Zersetzungskammer 108 so gekoppelt, dass die erste Injektormittelachse 510 in einem ersten Injektorabstand d₁ von dem Zersetzungskammereinlass 400 angeordnet ist. Der erste Injektorabstand d₁ entspricht einem Bruchteil der Zersetzungskammerlänge L. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorabstand d₁ ungefähr 1/10 der Zersetzungskammerlänge L.
Neben der Kopplung mit der Zersetzungskammer 108 in dem zweiten Injektorachsenwinkel α₂ ist das zweite Dosiermodul 514 auch mit der Zersetzungskammer 108 so gekoppelt, dass die zweite Injektormittelachse 522 in einem zweiten Injektorabstand d₂ von dem Zersetzungskammereinlass 400 angeordnet ist. Der zweite Injektorabstand d₂ entspricht einem Bruchteil der Zersetzungskammerlänge L. In einigen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorabstand d₂ ungefähr 2/5 der Zersetzungskammerlänge L.
Die erste Bahn 532 und die zweite Bahn 534 sind auch in 6 gezeigt. Aufgrund der Differenz zwischen dem ersten Injektorabstand d₁ und dem zweiten Injektorabstand d₂ ist der Wirbel, der durch die erste Bahn 532 erzeugt wird, von dem Wirbel, der durch die zweite Bahn 534 erzeugt wird, versetzt, wodurch eine erhöhte Mischung zwischen dem Reduktionsmittel und dem Abgas erleichtert wird. In 6 verhindern der erste Injektorabstand d₁ und der zweite Injektorabstand d₂ eine Interferenz zwischen der ersten Bahn 532 und der zweiten Bahn 534.
V. Drittes Beispiel des Reduktionsmittelzufuhrsystems
7 veranschaulicht ein beispielhaftes Reduktionsmittelzufuhrsystem 700, das in dem Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist und über einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene A-A von 1 gezeigt ist. Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 700 ist in einer Ausführungsform das Reduktionsmittelzufuhrsystem 102. Dementsprechend gilt die vorstehende Beschreibung des Reduktionsmittelzufuhrsystems 102 für das Reduktionsmittelzufuhrsystem 700.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 700 schließt ein erstes Dosiermodul 702 ein. Die vorstehende Beschreibung des ersten Dosiermoduls 110 gilt für das erste Dosiermodul 702. Das erste Dosiermodul 702 schließt einen ersten Eingang 704 und einen ersten Ausgang 706 ein. Der erste Eingang 704 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt und der erste Ausgang 706 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 7 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das erste Dosiermodul 702 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann. Das erste Dosiermodul 702 schließt auch einen ersten Injektor 708 ein. Der erste Injektor 708 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel von dem ersten Eingang 704 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der erste Injektor 708 ist auf einer ersten Injektormittelachse 710 zentriert (z. B. geteilt durch, usw.). In einigen Ausführungsformen teilt die erste Injektormittelachse 710 den ersten Injektor 708 und/oder das erste Dosiermodul 702 symmetrisch. Die erste Injektormittelachse 710 schneidet die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer innerhalb der Zersetzungskammer 108 nicht. Die erste Injektormittelachse 710 schneidet jedoch eine erste Bezugsachse 711, die parallel zur Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer verläuft. Die erste Injektormittelachse 710 ist von der ersten Bezugsachse 711 durch einen ersten Injektorachsenwinkel α₁ getrennt. Es versteht sich, dass aufgrund der Parallelität der ersten Bezugsachse 711 und der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer auch die erste Injektormittelachse 710 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch den ersten Injektorachsenwinkel α₁ getrennt ist (z. B. an einem Schnittpunkt der ersten Injektormittelachse 710 und der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer außerhalb der Zersetzungskammer 108). Der erste Injektor 708 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem ersten Sprühkegel 712 mit einem ersten Injektorsprühwinkel σ₁ zu sprühen. Der erste Sprühkegel 712 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem ersten Injektor 708 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem ersten Injektor 708 dosiert wird, auftreten.
Das Reduktionsmittelzufuhrsystem 700 schließt ein zweites Dosiermodul 714 ein. Die vorstehende Beschreibung des zweiten Dosiermoduls 112 gilt für das zweite Dosiermodul 714. Das zweite Dosiermodul 714 schließt einen zweiten Eingang 716 und einen zweiten Ausgang 718 ein. Der zweite Eingang 716 ist mit der Reduktionsmittelzuführleitung 126 gekoppelt, und der zweite Ausgang 718 ist mit der Reduktionsmittelrückführleitung 128 gekoppelt. Obwohl in 7 nicht gezeigt, versteht es sich, dass das zweite Dosiermodul 714 auch einen Einlass zum Aufnehmen von Luft von der Luftpumpe 138 einschließen kann. Das zweite Dosiermodul 714 schließt auch einen zweiten Injektor 720 ein. Der zweite Injektor 720 ist dazu konfiguriert, das Reduktionsmittel vom zweiten Eingang 716 aufzunehmen und das Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer 108 zu dosieren.
Der zweite Injektor 720 ist auf einer zweiten Injektormittelachse 722 zentriert. In einigen Ausführungsformen teilt die zweite Injektormittelachse 722 den zweiten Injektor 720 und/oder das zweite Dosiermodul 714 symmetrisch. Die zweite Injektormittelachse 722 schneidet nicht die Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer innerhalb der Zersetzungskammer 108. Die zweite Injektormittelachse 722 schneidet jedoch eine zweite Bezugsachse 723, die parallel zur Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer verläuft. Die zweite Injektormittelachse 722 ist von der zweiten Bezugsachse 723 durch einen zweiten Injektorachsenwinkel α₂ getrennt. Es versteht sich, dass aufgrund der Parallelität der zweiten Bezugsachse 723 und der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer auch die zweite Injektormittelachse 722 von der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer durch den zweiten Injektorachsenwinkel α₂ getrennt ist (z. B. an einem Schnittpunkt der zweiten Injektormittelachse 722 und der Vertikalachse 210 der Zersetzungskammer außerhalb der Zersetzungskammer 108). Der zweite Injektor 720 ist konfiguriert, um Reduktionsmittel in einem zweiten Sprühkegel 724 mit einem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂ zu sprühen. Der zweite Sprühkegel 724 ist ein Bereich, in dem Reduktionsmittel, das von dem zweiten Injektor 720 dosiert wird, konzentriert würde, ohne dass die Auswirkungen des Abgasstroms und der Schwerkraft auf das Reduktionsmittel, wenn es von dem zweiten Injektor 720 dosiert wird, auftreten.
In 7 ist der erste Injektorachsenwinkel α₁ kleiner als der zweite Injektorachsenwinkel α₂ und der erste Injektorsprühwinkel σ₁ entspricht ungefähr dem zweiten Injektorsprühwinkel σ₂. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorachsenwinkel α₁ 5° und der zweite Injektorachsenwinkel α₂ entspricht 8°. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorsprühwinkel σ₁ 30° und der zweite Injektorsprühwinkel σ₂ entspricht 30°.
Wie in 7 dargestellt, werden große Reduktionsmitteltröpfchen 726 von dem ersten Injektor 708 entlang der ersten Injektormittelachse 710 zur Zersetzungskammer 108 dosiert und große Reduktionsmitteltröpfchen 728 von dem zweiten Injektor 720 entlang der zweiten Injektormittelachse 722 zur Zersetzungskammer 108 dosiert. Die großen Reduktionsmitteltröpfchen 726 und die großen Reduktionsmitteltröpfchen 728 berühren sich nicht (z. B. unterhalb des ersten Injektors 708 und des zweiten Injektors 720, usw.). Stattdessen zerfallen die großen Reduktionsmitteltröpfchen 726 und die großen Reduktionsmitteltröpfchen 728 dem ersten Injektors 708 und des zweiten Injektors 720 nachgelagert unabhängig in kleine Reduktionsmitteltröpfchen 730, wie in 8 gezeigt.
7 veranschaulicht auch eine erste Bahn 732 und eine zweite Bahn 734. Die erste Bahn 732 unterscheidet sich von der zweiten Bahn 734. Die erste Bahn 732 veranschaulicht den Strom des Reduktionsmittels, das aus dem ersten Injektor 708 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird. In ähnlicher Weise veranschaulicht die zweite Bahn 734 den Strom des Reduktionsmittels, das aus dem zweiten Injektor 720 in die Zersetzungskammer 108 dosiert wird. Die erste Bahn 732 schneidet die zweite Bahn 734 nicht. Anstatt Reduktionsmittel durch Kollision aufzubrechen, brechen die erste Bahn 732 und die zweite Bahn 734 unabhängig Reduktionsmittel durch Verwirbeln innerhalb des Abgases auf.
Das erste Dosiermodul 702 und das zweite Dosiermodul 714 sind jeweils mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt, so dass die erste Bahn 532 und die zweite Bahn 534 jeweils innerhalb der Zersetzungskammer 108 in entgegengesetzten Richtungen verwirbeln (z. B. drehen, rotieren, usw.). Dieser Wirbel erleichtert eine zusätzliche Zersetzung des Reduktionsmittels im Abgas, wodurch der UI des Reduktionsmittels im Abgas erhöht wird.
8 veranschaulicht das Reduktionsmittelzufuhrsystem 700 über einen Querschnitt der Zersetzungskammer 108 entlang der Ebene D-D von 7. In 8 erfolgt die Strömung des Abgases von dem Zersetzungskammereinlass 400 zum Zersetzungskammerauslass 402. Neben der Kopplung mit der Zersetzungskammer 108 in dem ersten Injektorachsenwinkel α₁ ist das erste Dosiermodul 702 auch so mit der Zersetzungskammer 108 gekoppelt, dass die erste Injektormittelachse 710 in einem ersten Injektorabstand d₁ von dem Zersetzungskammereinlass 400 angeordnet ist. Der erste Injektorabstand d₁ entspricht einem Bruchteil der Zersetzungskammerlänge L. In einigen Ausführungsformen entspricht der erste Injektorabstand d₁ ungefähr 1/20 der Zersetzungskammerlänge L. Neben der Kopplung mit der Zersetzungskammer 108 in dem zweiten Injektorachsenwinkel α₂ ist das zweite Dosiermodul 714 auch mit der Zersetzungskammer 108 so gekoppelt, dass die zweite Injektormittelachse 722 in einem zweiten Injektorabstand d₂ von dem Zersetzungskammereinlass 400 angeordnet ist. Der zweite Injektorabstand d₂ entspricht einem Bruchteil der Zersetzungskammerlänge L. In einigen Ausführungsformen entspricht der zweite Injektorabstand d₂ ungefähr 2/5 der Zersetzungskammerlänge L.
Die erste Bahn 732 und die zweite Bahn 734 sind auch in 8 gezeigt. Aufgrund der Differenz zwischen dem ersten Injektorabstand d₁ und dem zweiten Injektorabstand d₂ ist der Wirbel, der durch die erste Bahn 732 erzeugt wird, von dem Wirbel, der durch die zweite Bahn 734 erzeugt wird, versetzt, wodurch eine erhöhte Mischung zwischen dem Reduktionsmittel und dem Abgas erleichtert wird. In 8 verhindern der erste Injektorabstand d₁ und der zweite Injektorabstand d₂ im Wesentlichen eine Interferenz (z. B. Kontakt, usw.) zwischen dem Reduktionsmittel und/oder dem Abgas, das entlang der ersten Bahn getrieben wird.
VI. Beispielhafte Steuerstrategien eines beispielhaften Reduktionsmittelzufuhrsystems
9 veranschaulicht eine beispielhafte Steuerstrategie 900, die im Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist. Die Steuerstrategie 900 ist eine Steuerungsweise des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112 unter Verwendung der Steuerung 133, um Reduktionsmittel gezielt in das Abgas innerhalb der Zersetzungskammer 108 zu dosieren. Insbesondere steuert die Steuerstrategie 900 eine Spannung V_F, die dem ersten Dosiermodul 110 zugeführt wird, um zu bewirken, dass eine Volumenstromrate von Reduktionsmittel R_F aus dem ersten Dosiermodul 110 dosiert wird, und eine Spannung Vs, die dem zweiten Dosiermodul 112 zugeführt wird, um zu bewirken, dass eine Volumenstromrate von Reduktionsmittel R_S aus dem zweiten Dosiermodul 112 dosiert wird.
Durch Bereitstellen der Spannung V_F an das erste Dosiermodul 110 wird das erste Dosiermodul 110 aktiviert (z. B. eingeschaltet, betriebsfähig, usw.) und bleibt aktiviert, solange dem ersten Dosiermodul 110 die Spannung V_F bereitgestellt wird. Das erste Dosiermodul 110 wird deaktiviert (z. B. ausgeschaltet, nicht betriebsfähig, usw.), wenn das erste Dosiermodul 110 die Spannung V_F nicht erhält. In ähnlicher Weise wird durch Bereitstellen der Spannung Vs an das zweite Dosiermodul 112 das zweite Dosiermodul 112 aktiviert (z. B. eingeschaltet, betriebsfähig, usw.) und bleibt aktiviert, solange dem zweiten Dosiermodul 112 die Spannung Vs bereitgestellt wird. Das zweite Dosiermodul 112 wird deaktiviert (z. B. ausgeschaltet, nicht betriebsfähig, usw.), wenn das zweite Dosiermodul 112 die Spannung Vs nicht erhält.
Die Steuerstrategie 900 bezieht sich auf eine Gesamtvolumenstromrate von Reduktionsmittel R_T, die dem Nachbehandlungssystem 100 bereitgestellt wird. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht die Gesamtvolumenstromrate des Reduktionsmittels R_T ungefähr einer Zielvolumenstromrate des Reduktionsmittels, die mit der wünschenswerten Leistung des Nachbehandlungssystems 100 verbunden ist. Die Gesamtvolumenstromrate des Reduktionsmittels R_T entspricht der Summe der Volumenstromrate des Reduktionsmittels R_F und der Volumenstromrate des Reduktionsmittels R_S.
In einigen Ausführungsformen werden die Volumenstromrate des Reduktionsmittels R_F und die Volumenstromrate des Reduktionsmittels Rs durch die Steuerung 133 basierend auf einem Durchmesser der Zersetzungskammer 108 ausgewählt. Zum Beispiel stehen in einigen Ausführungsformen die Volumenstromrate des Reduktionsmittels R_F und die Volumenstromrate des Reduktionsmittels Rs linear in Beziehung, so dass für die Zersetzungskammern 108 mit größeren Durchmessern die Steuerung 133 eine größere Volumenstromrate des Reduktionsmittels R_F und eine größere Volumenstromrate des Reduktionsmittels R_S auswählt.
Die Steuerstrategie 900 schließt zum Zeitpunkt t₀ das Bereitstellen einer Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 ein. In verschiedenen Ausführungsformen ist V_F0 0 Volt, so dass das erste Dosiermodul 110 deaktiviert ist. t₀ kann einem statischen (z. B. aus, usw.) Zustand eines Verbrennungsmotors mit dem Nachbehandlungssystem 100 entsprechen. Die Steuerstrategie 900 schließt auch ein, dass zum Zeitpunkt t₁ das Bereitstellen der Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 beendet wird und stattdessen eine Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird. Wenn die Spannung V_F1 dem ersten Dosiermodul 110 bereitgestellt wird, kann das erste Dosiermodul 110 aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, wenn das erste Dosiermodul 110 vor dem Zeitpunkt t₁ deaktiviert wurde, usw.). In einigen Ausführungsformen beträgt die Spannung V_F1 6 Volt, 10 Volt oder 12 Volt. Die Steuerstrategie 900 schließt auch ein, dass zum Zeitpunkt t₂ das Bereitstellen der Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 beendet wird und stattdessen die Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird. Wenn die Spannung V_F0 dem ersten Dosiermodul 110 bereitgestellt wird, kann das erste Dosiermodul 110 deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Auf diese Weise bildet die Steuerstrategie 900 eine Spannungsstufe von dem Zeitpunkt t₁ zum Zeitpunkt t₂ und von der Spannung V_F0 zur Spannung V_F1. Die Steuerstrategie 900 schließt das Bilden einer weiteren Spannungsstufe zum Zeitpunkt t₃ ein. Die zweite Spannungsstufe kann mit der ersten Spannungsstufe identisch sein. Die Steuerstrategie 900 kann eine Zielanzahl der Spannungsstufen einschließen, so dass die Steuerstrategie 900 auf eine Zielanwendung zugeschnitten ist. In ähnlicher Weise können der Zeitpunkt to, der Zeitpunkt t₁, der Zeitpunkt t₂, der Zeitpunkt t₃, die Spannung V_F0 und die Spannung V_F1 alle so ausgewählt werden, dass die Steuerstrategie 900 auf eine Zielanwendung zugeschnitten ist.
Die Steuerstrategie 900 schließt auch ein, dass zum Zeitpunkt t₀ dem zweiten Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 eine Spannung V_S0 bereitgestellt wird. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht die Spannung V_S0 der Spannung V_F0. In verschiedenen Ausführungsformen entspricht die Spannung V_S0 0 Volt, so dass das zweite Dosiermodul 112 deaktiviert ist. Die Steuerstrategie 900 schließt auch ein, dass zum Zeitpunkt t₁ das Bereitstellen der Spannung V_S0 für das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 beendet wird und stattdessen eine Spannung Vsi für das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird. Wenn die Spannung Vsi dem zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellt wird, kann das zweite Dosiermodul 112 aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, wenn das zweite Dosiermodul 112 vor dem Zeitpunkt t₁ deaktiviert wurde, usw.). In verschiedenen Ausführungsformen ist Vsi gleich V_F1. Die Steuerstrategie 900 schließt auch ein, dass zum Zeitpunkt t₂ das Bereitstellen der Spannung Vsi an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 beendet wird und stattdessen die Spannung Vso an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird. Wenn die Spannung V_S0 dem zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellt wird, kann das zweite Dosiermodul 112 deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.). Auf diese Weise bildet die Steuerstrategie 900 eine Spannungsstufe von dem Zeitpunkt t₁ zum Zeitpunkt t₂ und von der Spannung Vso zur Spannung Vsi. Die Steuerstrategie 900 schließt das Bilden einer weiteren Spannungsstufe zum Zeitpunkt t₃ ein. Die zweite Spannungsstufe kann mit der ersten Spannungsstufe identisch sein. Die Steuerstrategie 900 kann eine Zielanzahl der Spannungsstufen einschließen, so dass die Steuerstrategie 900 auf eine Zielanwendung zugeschnitten ist. In ähnlicher Weise können der Zeitpunkt t₀, der Zeitpunkt t₁, der Zeitpunkt t₂, der Zeitpunkt t₃, die Spannung Vso und die Spannung V_S1 alle so ausgewählt werden, dass die Steuerstrategie 900 auf eine Zielanwendung zugeschnitten ist.
Aufgrund der Spannungen, die von der Steuerung 133 an das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 bereitgestellt werden, und daher die verschiedenen Aktivierungen und Deaktivierungen des ersten Dosiermoduls 110 und des zweiten Dosiermoduls 112, variiert die Gesamtvolumenstromrate R_T des Reduktionsmittels, die dem Nachbehandlungssystem 100 zugeführt wird, vom Zeitpunkt t₀ bis zum Zeitpunkt t₃ und darüber hinaus (z. B. mit jeder Spannungsstufe, usw.). Insbesondere wird zum Zeitpunkt to dem Nachbehandlungssystem 100 eine Gesamtvolumenstromrate R_T0 bereitgestellt. Die Gesamtvolumenstromrate R_T0 entspricht der Summe einer Volumenstromrate R_F0 von Reduktionsmittel, die dem Nachbehandlungssystem 100 durch das erste Dosiermodul 110 zum Zeitpunkt t₀ bereitgestellt wird, und einer Volumenstromrate R_S0 von Reduktionsmittel, die dem Nachbehandlungssystem 100 durch das zweite Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₀ bereitgestellt wird. In verschiedenen Ausführungsformen ist die Gesamtvolumenstromrate R_T0 0 (d. h. weder durch das erste Dosiermodul 110 noch durch das zweite Dosiermodul 112 wird dem Nachbehandlungssystem 100 Reduktionsmittel bereitgestellt, usw.). Zum Zeitpunkt t₁ wird dem Nachbehandlungssystem 100 eine Gesamtvolumenstromrate R_T1 bereitgestellt. Die Gesamtvolumenstromrate R_T1 entspricht der Summe einer Volumenstromrate R_F1 von Reduktionsmittel, die dem Nachbehandlungssystem 100 durch das erste Dosiermodul 110 zum Zeitpunkt t₁ bereitgestellt wird, und einer Volumenstromrate R_S1 von Reduktionsmittel, die dem Nachbehandlungssystem 100 durch das zweite Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₁ bereitgestellt wird. In Ausführungsformen, in denen die Spannung V_F1 der Spannung Vsi entspricht, kann die Volumenstromrate R_F1 der Volumenstromrate R_S1 entsprechen. Zum Zeitpunkt t₂ wird die Gesamtvolumenstromrate R_T0 bis zum Zeitpunkt t₃ bereitgestellt, wodurch eine Volumenstromratenstufe gebildet wird, die den Spannungsstufen sowohl in der Spannung V_F als auch in der Spannung Vs entspricht.
10 veranschaulicht eine beispielhafte Steuerstrategie 1000, die im Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist. Die Steuerstrategie 1000 ist ähnlich der zuvor beschriebenen Steuerstrategie 900, mit der Ausnahme, dass die Spannung dem zweiten Dosiermodul 112 unterschiedlich bereitgestellt wird, so dass das zweite Dosiermodul 112 unterschiedlich zum ersten Dosiermodul 110 aktiviert und deaktiviert wird. Gemäß der Steuerstrategie 1000 ist die von der Steuerung 133 dem zweiten Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₀ bereitgestellte Spannung die Spannung V_S0 und bleibt bis zum Zeitpunkt t₂ die Spannung Vso. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 112 von dem Zeitpunkt t₀ bis zum Zeitpunkt t₂ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1000 schließt ferner ein, dass zum t₂ die Bereitstellung der Spannung Vso an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung Vsi an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird, während gleichzeitig das Bereitstellen der Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann zum Zeitpunkt t₂ das erste Dosiermodul 110 deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.) und das zweite Dosiermodul 112 kann gleichzeitig aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1000 schließt ferner ein, dass zum Zeitpunkt t₃ die Bereitstellung der Spannung Vsi an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung Vso an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird, während gleichzeitig die Bereitstellung der Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann zum Zeitpunkt t₃ das erste Dosiermodul 110 aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.) und das zweite Dosiermodul 112 kann gleichzeitig deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.).
Die Steuerstrategie 1000 bildet alternierende (z. B. gestaffelte, etc.) Spannungsstufen. Während beispielsweise einem von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 eine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt wird, (z. B. aktiviert wird, usw.), wird dem anderen von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 keine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt (wird z. B. deaktiviert, usw.).
Da die Spannungen von der Steuerung 133 abwechselnd dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 zugeführt werden (z. B., das erste Dosiermodul 110 aktiviert und das zweite Dosiermodul 112 deaktiviert wird, das erste Dosiermodul 110 deaktiviert und das zweite Dosiermodul 112 aktiviert wird usw.), bleibt der Gesamtvolumenstromrate des Reduktionsmittels R_T im Wesentlichen konstant zwischen dem Zeitpunkt t₃ und dem Zeitpunkt t₄, dem Zeitpunkt, an dem der letzte Spannungsstufe entweder dem ersten Dosiermodul 110 oder dem zweiten Dosiermodul 112 zugeführt wird. Insbesondere entspricht, abhängig von der Zeit, die Gesamtvolumenstromrate des Reduktionsmittels R_T1 der Volumenstromrate R_F1 oder der Volumenstromrate R_S1. Anstatt diskrete Volumenstromratenstufen aufzuweisen, wie sie bei der Verwendung der Steuerstrategie 900 auftreten, weist die Steuerstrategie 1000 eine einzige Volumenstromratenstufe auf, wodurch bewirkt wird, dass Reduktionsmittel konstant zwischen dem Zeitpunkt t₁ und dem Zeitpunkt t₄ dem Nachbehandlungssystem 100 bereitgestellt wird.
11 veranschaulicht eine beispielhafte Steuerstrategie 1100, die im Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist. Die Steuerstrategie 1100 ist ähnlich der zuvor beschriebenen Steuerstrategie 900, mit der Ausnahme, dass die Spannung dem zweiten Dosiermodul 112 unterschiedlich bereitgestellt wird, so dass das zweite Dosiermodul 112 anders aktiviert und deaktiviert wird als das erste Dosiermodul 110. Gemäß der Steuerstrategie 1100 ist die von dem Steuerung 133 dem zweiten Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₀ bereitgestellte Spannung die Spannung V_S0 und bleibt bis zum Zeitpunkt t₅, der nach dem Zeitpunkt t₁ und vor dem Zeitpunkt t₂ auftritt, die Spannung V_S0. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 112 von dem Zeitpunkt t₀ bis zum Zeitpunkt t₅ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt, usw.). Zum Zeitpunkt t₅ schließt die Steuerstrategie 1100 das Beenden des Bereitstellens der Spannung Vso für das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 und stattdessen das Bereitstellen der Spannung Vsi für das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 ein. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₅ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1100 schließt ferner zum Zeitpunkt t₆ das Beenden des Bereitstellens der Spannung Vsi an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 und stattdessen das Bereitstellen der Spannung Vso an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 ein. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₆ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1100 schließt ferner zum Zeitpunkt t₇ das Beenden des Bereitstellens der Spannung V_S0 an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 und stattdessen das Bereitstellen der Spannung Vsi an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 ein. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 112 von dem Zeitpunkt t₆ bis zum Zeitpunkt t₇ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.). Gemäß der Steuerstrategie 1100 wird die Spannung von der Steuerung 133 zwischen dem Zeitpunkt t₁ und dem Zeitpunkt t₅ (z. B. wird zwischen dem Zeitpunkt t₁ und dem Zeitpunkt t₅ nur das erste Dosiermodul 110 aktiviert, usw.), nur dem ersten Dosiermodul 110, zwischen dem Zeitpunkt t₅ und dem Zeitpunkt t₂ (z. B. werden sowohl das erste Dosiermodul 110 als auch das zweite Dosiermodul zwischen dem Zeitpunkt t₅ und dem Zeitpunkt t₂ aktiviert, usw.) sowohl dem ersten Dosiermodul 110 als auch dem zweiten Dosiermodul 112 und zwischen dem Zeitpunkt t₂ und dem Zeitpunkt t₆ nur dem zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellt (z. B. wird zwischen dem Zeitpunkt t₂ und dem Zeitpunkt t₆ nur das zweite Dosiermodul 112 aktiviert, usw.).
Die Steuerstrategie 1100 bildet alternierende (z. B. gestaffelte, usw.) Spannungsstufen, wobei jede Spannungsstufe eine Unterstufe enthält, die einer größeren Spannung entspricht als jede der Spannungsstufen. Während beispielsweise einem von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 eine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt wird (z. B. aktiviert wird, usw.), wird dem anderen von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 keine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt (wird z. B. deaktiviert, usw.), wodurch eine Spannungsstufe gebildet wird. Wenn jedoch sowohl dem ersten Dosiermodul 110 als auch dem zweiten Dosiermodul 112 eine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt wird (z. B. aktiviert wird, usw.), kann ein Spannungsunterstufe gebildet werden.
Wie die Spannungsstufen und Unterstufen schließt auch die Gesamtvolumenstromrate des Reduktionsmittels R_T Stufen und Unterstufen ein. Von dem Zeitpunkt t₁ bis zum Zeitpunkt t₅ wird die Volumenstromrate R_F1 bereitgestellt, da dem ersten Dosiermodul 110 die Spannung V_F1 und dem zweiten Dosiermodul 112 die Spannung V_S0 bereitgestellt wird. Von dem Zeitpunkt t₅ bis zum Zeitpunkt t₂ wird die Volumenstromrate R_T1 bereitgestellt, da dem ersten Dosiermodul 110 die Spannung V_F1 und dem zweiten Dosiermodul 112 die Spannung Vsi bereitgestellt wird. Von dem Zeitpunkt t₂ bis zum Zeitpunkt t₆ wird die Volumenstromrate R_S1 bereitgestellt, da dem ersten Dosiermodul 110 die Spannung V_F0 und dem zweiten Dosiermodul 112 die Spannung Vsi bereitgestellt wird. Von dem Zeitpunkt t₆ bis zum Zeitpunkt t₇ wird die Volumenstromrate R_T0 bereitgestellt, da dem ersten Dosiermodul 110 die Spannung V_F0 und dem zweiten Dosiermodul 112 die Spannung V_S0 bereitgestellt wird.
12 veranschaulicht eine beispielhafte Steuerstrategie 1200, die im Nachbehandlungssystem 100 implementiert ist. Die Steuerstrategie 1200 ist ähnlich der zuvor beschriebenen Steuerstrategie 900, mit der Ausnahme, dass die Spannung dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 unterschiedlich bereitgestellt wird, so dass das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 unterschiedlich aktiviert und deaktiviert werden.
Bezüglich des ersten Dosiermoduls 110 und gemäß der Steuerstrategie 1200 ist die von der Steuerung 133 dem ersten Dosiermodul 110 zum Zeitpunkt t₀ bereitgestellte Spannung die Spannung V_F0 und bleibt bis zum Zeitpunkt t₁ die Spannung V_F0. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₀ bis zum Zeitpunkt t₁ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₁ die Bereitstellung der Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₂ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₁ bis zum Zeitpunkt t₂ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₂ die Bereitstellung der Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₃ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₂ bis zum Zeitpunkt t₃ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₃ die Bereitstellung der Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₈ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₃ bis zum Zeitpunkt t₈ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₈ die Bereitstellung der Spannung V_F1 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₉ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₁ bis zum Zeitpunkt t₂ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₉ die Bereitstellung der Spannung V_F0 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F2 an das erste Dosiermodul 110 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₁₀ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₉ bis zum Zeitpunkt t₁₀ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.). Die Spannung V_F2 unterscheidet sich von der Spannung V_F1 (z. B. kleiner, größer usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₁₀ die Bereitstellung der Spannung V_F2 durch die Steuerung 133 an das erste Dosiermodul 110 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_F0 durch die Steuerung 133 an das erste Dosiermodul 112 bis zum Zeitpunkt t₁₁ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das erste Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₁₀ bis zum Zeitpunkt t₁₁ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_F0 0 Volt beträgt, usw.).
Bezüglich des zweiten Dosiermoduls 112 und gemäß der Steuerstrategie 1200 ist die von der Steuerung 133 dem zweiten Dosiermodul 112 zum Zeitpunkt t₀ bereitgestellte Spannung die Spannung Vso und bleibt bis zum Zeitpunkt t₁ die Spannung Vso. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₀ bis zum Zeitpunkt t₁ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₁ die Bereitstellung der Spannung V_S0 durch die Steuerung 133 an das zweite Dosiermodul 112 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_S2 durch die Steuerung 133 an das zweite Dosiermodul 112 bis zum Zeitpunkt t₂ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₁ bis zum Zeitpunkt t₂ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung Vso 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₂ die Bereitstellung der Spannung V_S2 an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung Vso an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₃ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₂ bis zum Zeitpunkt t₃ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₃ die Bereitstellung der Spannung Vso durch die Steuerung 133 an das zweite Dosiermodul 112 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_S2 durch die Steuerung 133 an das zweite Dosiermodul 112 bis zum Zeitpunkt t₈ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₃ bis zum Zeitpunkt t₈ aktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₈ die Bereitstellung der Spannung V_S2 an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung Vso an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₉ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₈ bis zum Zeitpunkt t₉ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₉ die Bereitstellung der Spannung Vso durch die Steuerung 133 an das zweite Dosiermodul 112 eingestellt wird und stattdessen die Spannung Vsi durch die Steuerung 133 an das zweite Dosiermodul 112 bis zum Zeitpunkt t₁₀ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₉ bis zum Zeitpunkt t₁₀ aktiviert werden (z. B., wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt usw.). Die Spannung V_S2 unterscheidet sich von der Spannung Vsi (z. B. kleiner, größer, usw.). Die Steuerstrategie 1200 schließt ein, dass zum Zeitpunkt t₁₀ die Bereitstellung der Spannung Vsi an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 eingestellt wird und stattdessen die Spannung V_S0 an das zweite Dosiermodul 112 durch die Steuerung 133 bis zum Zeitpunkt t₁₁ bereitgestellt wird. Zum Beispiel kann das zweite Dosiermodul 110 von dem Zeitpunkt t₁₀ bis zum Zeitpunkt t₁₁ deaktiviert werden (z. B. wenn die Spannung V_S0 0 Volt beträgt usw.).
Die Steuerstrategie 1200 bildet alternierende (z. B. gestaffelte, etc.) Spannungsstufen, wobei einige Spannungsstufen größer sind als andere Spannungsstufen. Während beispielsweise eines von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 eine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt wird, wird dem anderen von dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 auch eine Spannung von der Steuerung 133 bereitgestellt, wodurch eine Spannungsstufe gebildet wird.
Die Summe der Spannung, die dem ersten Dosiermodul 110 zwischen dem Zeitpunkt t₁₁ und dem Zeitpunkt t₁₂ bereitgestellt wird, und der Spannung, die dem zweiten Dosiermodul 112 zwischen dem Zeitpunkt t₁₁ und dem Zeitpunkt t₁₂ bereitgestellt wird, unterscheidet sich von der Summe der Spannung, die dem ersten Dosiermodul 110 zwischen dem Zeitpunkt t₉ und dem Zeitpunkt t₁₀ bereitgestellt wird, und der Spannung, die dem zweiten Dosiermodul 112 zwischen dem Zeitpunkt t₉ und dem Zeitpunkt t₁₀ bereitgestellt wird (z. B. größer, kleiner, usw.). Auf diese Weise kann die Steuerstrategie 1200 das erste Dosiermodul 110 und das zweite Dosiermodul 112 verwenden, um eine Mengenteilung und Planung durchzuführen zwischen dem ersten Dosiermodul 110 und dem zweiten Dosiermodul 112 (das erste Dosiermodul 110 stellt z. B. für die meisten Spannungsstufen mehr Reduktionsmittel bereit, während das zweite Dosiermodul 112 für die meisten Spannungsstufen weniger Reduktionsmittel bereitstellt, in einigen Spannungsstufen wird mehr Reduktionsmittel bereitgestellt als in anderen Spannungsstufen usw.).
Wie die Spannungsstufen schließt auch die Gesamtvolumenstromrate des Reduktionsmittels R_T Stufen ein. Von dem Zeitpunkt t₁ bis zum Zeitpunkt t₂ ist die von dem ersten Dosiermodul 110 und von dem zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellte Gesamtvolumenstromrate R_T1 kleiner als die von dem ersten Dosiermodul 110 und von dem zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellte Gesamtvolumenstromrate RT2 von dem Zeitpunkt t₁₁ bis zum Zeitpunkt t₁₂. Die Volumenstromrate R_F2 des Reduktionsmittels, die durch das erste Dosiermodul 110 bereitgestellt wird, wenn die Spannung, die an das erste Dosiermodul 110 bereitgestellt wird, die Spannung V_F2 ist, unterscheidet sich (z. B. kleiner, größer, usw.) von der Volumenstromrate R_F1 des Reduktionsmittels, die durch das erste Dosiermodul 110 bereitgestellt wird, wenn die Spannung, die an das erste Dosiermodul 110 bereitgestellt wird, die Spannung V_F1 ist. In ähnlicher Weise unterscheidet sich die Volumenstromrate R_S2 des Reduktionsmittels, die vom zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellt wird, wenn die an das zweite Dosiermodul 112 angelegte Spannung die Spannung V_S2 ist, von der Volumenstromrate R_S1 des Reduktionsmittels, die vom zweiten Dosiermodul 112 bereitgestellt wird, wenn die an das zweite Dosiermodul 112 angelegte Spannung die Spannung Vsi ist (z. B. kleiner, größer, usw.).
VII. Aufbau beispielhafter Ausführungsformen
Obwohl dieses Dokument viele spezifische Implementierungsdetails enthält, sollten diese nicht als Einschränkungen des Umfangs dessen aufgefasst werden, was beansprucht sein kann, sondern vielmehr als Beschreibungen von Merkmalen, die für bestimmte Implementierungen spezifisch sind. Bestimmte, in dieser Patentschrift im Kontext separater Implementierungen beschriebene Merkmale können auch in Kombination in einer einzigen Implementierung umgesetzt werden. Im Gegensatz dazu können verschiedene, im Kontext einer einzigen Implementierung beschriebene Merkmale auch in mehreren Implementierungen separat oder in einer beliebigen, geeigneten Unterkombination umgesetzt werden. Zudem können, obwohl Merkmale möglicherweise so beschrieben sind, dass sie in bestimmten Kombinationen wirken und auch anfänglich als solche beansprucht sind, ein oder mehrere Merkmale aus einer beanspruchten Kombination in manchen Fällen aus der Kombination ausgesondert werden, und die beanspruchte Kombination kann auf eine Unterkombination oder Variation einer Unterkombination gerichtet sein.
Die hierin verwendeten Begriffe „im Wesentlichen“, „im Allgemeinen, „etwa“ und ähnliche Begriffe sollen eine weitläufige Bedeutung haben, die mit der üblichen und akzeptierten Verwendung durch Fachleute auf dem Gebiet übereinstimmt, in das der Gegenstand dieser Offenbarung fällt. Es ist für den Fachmann, der diese Offenbarung liest, offensichtlich, dass diese Begriffe eine Beschreibung bestimmter beschriebener und beanspruchter Merkmale zulassen sollen, ohne den Schutzumfang dieser Merkmale auf die bereitgestellten, genauen numerischen Bereiche einzuschränken. Demgemäß sollen diese Begriffe so ausgelegt werden, dass sie angeben, dass unwesentliche oder unbedeutende Modifikationen oder Abänderungen an dem beschriebenen und beanspruchten Gegenstand als innerhalb des Schutzumfangs der Erfindung, wie in den beigefügten Ansprüchen aufgeführt, liegend betrachtet werden.
Die Begriffe „gekoppelt“ und dergleichen, wie hierin verwendet, bedeuten das direkte oder indirekte Verbinden zweier Komponenten miteinander. Dieses Verbinden kann stationär (z. B. permanent) oder beweglich (z. B. abnehmbar oder lösbar) geschehen. Ein solches Verbinden kann erreicht werden, indem die zwei Komponenten oder die zwei Komponenten und alle zusätzlichen Zwischenkomponenten einstückig als ein einheitlicher Körper miteinander ausgebildet werden, wobei die beiden Komponenten oder die beiden Komponenten und etwaige zusätzliche Zwischenkomponenten aneinander befestigt sind.
Die Ausdrücke „fluidisch gekoppelt mit“ und dergleichen, wie sie hierin verwendet werden, bedeuten, dass die zwei Komponenten oder Objekte einen Weg aufweisen, der zwischen den zwei Komponenten oder Objekten gebildet ist, in denen ein Fluid, wie etwa Luft, flüssiges Reduktionsmittel, gasförmiges Reduktionsmittel, wässriges Reduktionsmittel, gasförmiges Ammoniak usw. entweder mit oder ohne dazwischenliegende Komponenten oder Gegenstände strömen kann. Beispiele für Fluidkopplungen oder Konfigurationen zum Ermöglichen einer Fluidverbindung können Rohre, Kanäle oder jegliche anderen geeigneten Komponenten zum Ermöglichen des Strömens eines Fluids von einer Komponente zur anderen einschließen.
Es ist wichtig, zu beachten, dass Konstruktion und Anordnung des in den vielfältigen beispielhaften Implementierungen gezeigten Systems lediglich veranschaulichender und nicht einschränkender Art sind. Es wird gewünscht, dass sämtliche Änderungen und Modifikationen, die innerhalb des Geistes und/oder Schutzumfangs der beschriebenen Implementierungen fallen, geschützt sind. Es versteht sich, dass einige Merkmale nicht zwingend sind, und dass Implementierungen, denen die verschiedenen Merkmale fehlen, als innerhalb des Schutzumfangs der Anmeldung liegend betrachtet werden können, wobei der Schutzumfang durch die folgenden Ansprüche definiert wird. Wenn die Formulierung „ein Abschnitt“ verwendet wird, kann das Element einen Teil/Abschnitt und/oder das gesamte Element umfassen, sofern nicht spezifisch anders angegeben.
Auch wird der Begriff „oder“ in seinem einschließenden Sinn (und nicht in seinem ausschließlichen Sinn) verwendet, so dass, wenn er beispielsweise verwendet wird, um eine Liste von Elementen zu verbinden, der Begriff „oder“ ein, einige oder alle Elemente in der Liste bedeutet. Verbindende Sprache wie der Begriff „mindestens einer von X, Y, und Z,“ sofern nicht speziell anders angegeben, versteht sich auch im Kontext, um im Allgemeinen auszudrücken, dass ein Gegenstand, Begriff, usw. entweder X, Y, Z, X und Y, X und Z, Y und Z oder X, Y, und Z (d.h. eine beliebige Kombination von X, Y und Z) sein kann. Daher beabsichtigt diese verbindende Sprache im Allgemeinen nicht, zu interpretieren, dass bestimmte Ausführungsformen mindestens eines der X, mindestens eines der Y und mindestens eines der Z erfordern, sofern nicht anderweitig angegeben.

Claims

Nachbehandlungssystem, umfassend: eine Zersetzungskammer; eine Reduktionsmittelpumpe; ein erstes Dosiermodul, das mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert ist, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe aufzunehmen; ein zweites Dosiermodul, das mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert ist, um Reduktionsmittel von der Reduktionsmittelpumpe unabhängig von dem ersten Dosiermodul aufzunehmen; und eine Steuerung, die kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul und dem zweiten Dosiermodul gekoppelt ist, wobei die Steuerung konfiguriert ist, um eine erste Volumenstromrate von Reduktionsmittel, die von dem ersten Dosiermodul in die Zersetzungskammer bereitgestellt wird, und eine zweite Volumenstromrate von Reduktionsmittel, die von dem zweiten Dosiermodul in die Zersetzungskammer bereitgestellt wird, unabhängig zu steuern.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 1, wobei die erste Volumenstromrate von Reduktionsmittel und die zweite Volumenstromrate von Reduktionsmittel durch die Steuerung basierend auf einem Durchmesser der Zersetzungskammer ausgewählt werden.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 1, wobei: das erste Dosiermodul mit der Zersetzungskammer gekoppelt ist, so dass Reduktionsmittel, das von dem ersten Dosiermodul bereitgestellt wird, entlang einer ersten Bahn innerhalb der Zersetzungskammer bereitgestellt wird und entlang der ersten Bahn in Abgase innerhalb der Zersetzungskammer dispergiert wird; das zweite Dosiermodul mit der Zersetzungskammer gekoppelt ist, so dass Reduktionsmittel, das von dem zweiten Dosiermodul bereitgestellt wird, entlang einer zweiten Bahn innerhalb der Zersetzungskammer bereitgestellt wird und entlang der zweiten Bahn in Abgase innerhalb der Zersetzungskammer dispergiert wird; und sich die zweite Bahn von der ersten Bahn unterscheidet.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 3, wobei: die erste Bahn einen spiralförmigen Wirbel in einer ersten Richtung umfasst; und die zweite Bahn einen spiralförmigen Wirbel in einer zweiten Richtung umfasst, die der ersten Richtung entgegengesetzt ist.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 3, wobei das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul so mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind, dass sich die erste Bahn und die zweite Bahn schneiden.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 3, wobei das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul so mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind, dass sich die erste Bahn und die zweite Bahn nicht schneiden.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 1, wobei: die Zersetzungskammer auf einer Mittelachse der Zersetzungskammer zentriert ist und durch eine Vertikalachse der Zersetzungskammer, die orthogonal zur Mittelachse der Zersetzungskammer ist, halbiert wird; und das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul an gegenüberliegenden Seiten der Vertikalachse der Zersetzungskammer mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 7, wobei: das erste Dosiermodul einen ersten Injektor umfasst, der konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, wobei der erste Injektor auf einer ersten Injektormittelachse zentriert ist, die winkelmäßig von der Vertikalachse der Zersetzungskammer durch einen ersten Injektorachsenwinkel in einer ersten Richtung getrennt ist; und das zweite Dosiermodul einen zweiten Injektor umfasst, der konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, wobei der zweite Injektor auf einer zweiten Injektormittelachse zentriert ist, die winkelmäßig von der Vertikalachse der Zersetzungskammer durch einen zweiten Injektorachsenwinkel in der ersten Richtung getrennt ist; der zweite Injektorachsenwinkel sich von dem ersten Injektorachsenwinkel unterscheidet.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 8, wobei der zweite Injektorachsenwinkel ungefähr 360 Grad minus dem ersten Injektorachsenwinkel entspricht.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 8, wobei der erste Injektorachsenwinkel zwischen 0 Grad und 90 Grad einschließlich liegt und der zweite Injektorachsenwinkel zwischen einschließlich 270 Grad und 360 Grad liegt.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 8, wobei der erste Injektorachsenwinkel zwischen 0 Grad und 90 Grad einschließlich liegt und der zweite Injektorachsenwinkel zwischen einschließlich 0 Grad und 90 Grad liegt.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 7, wobei: die Zersetzungskammer einen Zersetzungskammereinlass umfasst; das erste Dosiermodul von dem Zersetzungskammereinlass durch einen ersten Abstand entlang der Mittelachse der Zersetzungskammer getrennt ist; das zweite Dosiermodul von dem Zersetzungskammereinlass durch einen zweiten Abstand entlang der Mittelachse der Zersetzungskammer getrennt ist; und der erste Abstand etwa dem zweiten Abstand entspricht.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 7, wobei: die Zersetzungskammer einen Zersetzungskammereinlass umfasst; das erste Dosiermodul von dem Zersetzungskammereinlass durch einen ersten Abstand entlang der Mittelachse der Zersetzungskammer getrennt ist; das zweite Dosiermodul von dem Zersetzungskammereinlass durch einen zweiten Abstand entlang der Mittelachse der Zersetzungskammer getrennt ist; und der erste Abstand sich von dem zweiten Abstand unterscheidet.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 1, wobei die Steuerung ferner konfiguriert ist zum: Aktivieren des ersten Dosiermoduls zu einem ersten Zeitpunkt; Deaktivieren des ersten Dosiermoduls zu einem zweiten Zeitpunkt; Deaktivieren des zweiten Dosiermoduls zum ersten Zeitpunkt; und Aktivieren des zweiten Dosiermoduls zum zweiten Zeitpunkt.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 14, wobei: das erste Dosiermodul konfiguriert ist, um die erste Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; das zweite Dosiermodul konfiguriert ist, um die zweite Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; und die erste Volumenstromrate der zweiten Volumenstromrate entspricht.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 14, wobei: das erste Dosiermodul konfiguriert ist, um die erste Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; das zweite Dosiermodul konfiguriert ist, um die zweite Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; und sich die erste Volumenstromrate von der zweiten Volumenstromrate unterscheidet.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 1, wobei die Steuerung ferner konfiguriert ist zum: Aktivieren des ersten Dosiermoduls zu einem ersten Zeitpunkt; Deaktivieren des ersten Dosiermoduls zu einem zweiten Zeitpunkt; Aktivieren des zweiten Dosiermoduls zum ersten Zeitpunkt; und Deaktivieren des zweiten Dosiermoduls zum zweiten Zeitpunkt.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 17, wobei: das erste Dosiermodul konfiguriert ist, um die erste Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; das zweite Dosiermodul konfiguriert ist, um die zweite Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; und die erste Volumenstromrate der zweiten Volumenstromrate entspricht.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 17, wobei: das erste Dosiermodul konfiguriert ist, um die erste Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; das zweite Dosiermodul konfiguriert ist, um die zweite Volumenstromrate bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; und sich die erste Volumenstromrate von der zweiten Volumenstromrate unterscheidet.
Nachbehandlungssystem, umfassend: eine Zersetzungskammer; ein erstes Dosiermodul, das mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert ist, um Reduktionsmittel aufzunehmen; ein zweites Dosiermodul, das mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert ist, um Reduktionsmittel aufzunehmen; und eine Steuerung, die kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul und dem zweiten Dosiermodul gekoppelt ist, wobei die Steuerung konfiguriert ist, um das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul selektiv zu aktivieren und zu deaktivieren; wobei das erste Dosiermodul konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer entlang einer ersten Bahn bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; wobei das zweite Dosiermodul konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer entlang einer zweiten Bahn bereitzustellen, wenn es aktiviert ist; und wobei das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind, so dass: (i) die erste Bahn und die zweite Bahn sich innerhalb der Zersetzungskammer schneiden oder (ii) die erste Bahn und die zweite Bahn versetzte Wirbel bilden, die sich nicht innerhalb der Zersetzungskammer schneiden.
Nachbehandlungssystem, umfassend: eine Zersetzungskammer; ein erstes Dosiermodul, das mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert ist, um Reduktionsmittel aufzunehmen; ein zweites Dosiermodul, das mit der Zersetzungskammer gekoppelt und konfiguriert ist, um Reduktionsmittel aufzunehmen; und eine Steuerung, die kommunikativ mit dem ersten Dosiermodul und dem zweiten Dosiermodul gekoppelt ist, wobei die Steuerung konfiguriert ist, um das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul selektiv zu aktivieren und zu deaktivieren; wobei das erste Dosiermodul konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, und mit der Zersetzungskammer gekoppelt ist, so dass Reduktionsmittel, das von dem ersten Dosiermodul bereitgestellt wird, entlang einer ersten Bahn innerhalb der Zersetzungskammer bereitgestellt wird und entlang der ersten Bahn in Abgase innerhalb der Zersetzungskammer dispergiert wird; wobei das zweite Dosiermodul konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, und mit der Zersetzungskammer gekoppelt ist, so dass Reduktionsmittel, das von dem zweiten Dosiermodul bereitgestellt wird, entlang einer zweiten Bahn innerhalb der Zersetzungskammer bereitgestellt wird und entlang der zweiten Bahn in Abgase innerhalb der Zersetzungskammer dispergiert wird; und wobei sich die zweite Bahn von der ersten Bahn unterscheidet.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 21, wobei: die erste Bahn einen spiralförmigen Wirbel in einer ersten Richtung umfasst; und die zweite Bahn einen spiralförmigen Wirbel in einer zweiten Richtung umfasst, die der ersten Richtung entgegengesetzt ist.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 21, wobei das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul so mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind, dass sich die erste Bahn und die zweite Bahn schneiden.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 23, wobei das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul so mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind, dass sich die erste Bahn und die zweite Bahn nicht schneiden.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 21, wobei: die Zersetzungskammer auf einer Mittelachse der Zersetzungskammer zentriert ist und durch eine Vertikalachse der Zersetzungskammer, die orthogonal zur Mittelachse der Zersetzungskammer ist, halbiert wird; und das erste Dosiermodul und das zweite Dosiermodul an gegenüberliegenden Seiten der Vertikalachse der Zersetzungskammer mit der Zersetzungskammer gekoppelt sind.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 25, wobei: das erste Dosiermodul einen ersten Injektor umfasst, der konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, wobei der erste Injektor auf einer ersten Injektormittelachse zentriert ist, die winkelmäßig von der Vertikalachse der Zersetzungskammer durch einen ersten Injektorachsenwinkel in einer ersten Richtung getrennt ist; und das zweite Dosiermodul einen zweiten Injektor umfasst, der konfiguriert ist, um Reduktionsmittel in die Zersetzungskammer bereitzustellen, wobei der zweite Injektor auf einer zweiten Injektormittelachse zentriert ist, die winkelmäßig von der Vertikalachse der Zersetzungskammer durch einen zweiten Injektorachsenwinkel in der ersten Richtung getrennt ist; der zweite Injektorachsenwinkel sich von dem ersten Injektorachsenwinkel unterscheidet.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 26, wobei der zweite Injektorachsenwinkel ungefähr 360 Grad minus dem ersten Injektorachsenwinkel entspricht.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 26, wobei der erste Injektorachsenwinkel zwischen einschließlich 0 Grad und 90 Grad liegt und der zweite Injektorachsenwinkel zwischen einschließlich 270 Grad und 360 Grad liegt.
Nachbehandlungssystem nach Anspruch 26, wobei der erste Injektorachsenwinkel zwischen einschließlich 0 Grad und 90 Grad liegt und der zweite Injektorachsenwinkel zwischen einschließlich 0 Grad und 90 Grad liegt.