DE1098668B - Ionen-Vakuumpumpe mit zerstaeubender Kathode - Google Patents

Description

Die Erfindung betrifft eine Ionen-Vakuumpumpe, bei der unter Anwendung eines die Elektronenbahnen verlängernden Magnetfeldes eine Glimmentladung zwischen einer Kathode und einer Anode zwecks Zerstäubens der ersteren und zwecks Auffangens der zerstäubten Kathodenpartikeln auf Auffangflächen erzeugt wird. Vakuumpumpen der vorstehend erörterten Art sind bekannt und zeichnen sich dadurch aus, daß sie ein außerordentlich hohes, von Fremdgasen freies Vakuum liefern.

Ein Vorschlag der Schutzrechtsinhaberin sieht vor, daß die Anode flächenmäßig und gegebenenfalls auch raummäßig so unterteilt ist, daß in einer Ebene senkrecht zum Magnetfeld eine Vielzahl gleichzeitig auftretender Entladungsbahnen gebildet wird; die Kathodenanordnung besteht dabei aus parallelen, in Richtung des Magnetfeldes hintereinanderliegenden Teilen, wobei zwischen je zwei Teilen der Kathode eine Anode liegt, die vorzugsweise zellenförmig mit in Richtung des Magnetfeldes liegenden Zellen ausgebildet sein kann.

Gemäß der Erfindung sind in der Längsrichtung des Pumpgehäuses sich erstreckende Tragstangenpaare vorgesehen und die Anodengruppen und die Kathodengruppen je an einem Tragstangenpaar zu einem Stapel zusammengefaßt und elektrisch gruppenweise miteinander verbunden angeordnet.

Eine erfindungsgemäße Pumpe mit je zu einem Stapel vereinigten Anoden und Kathodengruppen ist von einfachem konstruktivem Aufbau, so daß das Reinigen und der Ersatz von Kathoden bzw. Anoden der Elektrodenanordnungen erleichtert ist.

Zweckmäßigerweise sind die Anodengruppen und die Kathodengruppen auf den Tragstangen leicht verschiebbar und leicht abmontierbar angeordnet, wobei Distanzierstücke, die auf die Tragstangen aufgeschoben sind, zum Distanzieren der plattenförmig ausgebildeten Kathoden dienen können.

Es können in an sich bekannter Weise Kühlmittel vorgesehen sein, welche eine Überhitzung des Vakuumgefäßes verhindern.

Ein besonders günstiger Durchtritt der Gase und damit eine günstige Pumpgeschwindigkeit ergibt sich, wenn die plattenförmigen Kathoden mit Löchern versehen sind, welche mit den Wandungsecken der Anodenzellen fluchten.

Das Pumpgehäuse kann ein becherförmiges Gehäuse sein, welches mittels eines abdichtenden Flanschringes an einen Flanschring angesetzt werden kann, der mit der Pumpleitung in Verbindung steht und an dem die Elektrodenanordnung befestigt ist. Durch Abnehmen des becherförmigen Pumpgehäuses ist bei dieser Konstruktionsweise die Elektrodenanordnung direkt frei zugänglich.

Ionen-Vakuumpumpe mit zerstäubender Kathode

Anmelder;

Varian Associates,

PaIo Alto, Galif. (V. St. A.)

Vertreter: Dr. phil. G. B. Hagen, Patentanwalt,
München-Solln, Franz-Hals-Str. 21

Beanspruchte Priorität:
V. St. v. Amerika vom 16. Juni 1958

Renn Zaphiropoulos, Los Altos, Calif. (V. St. Α.),
ist als Erfinder genannt worden

Die Erzeugung des Magnetfeldes kann entweder mittels einer Solenoidspule oder mittels C-förmiger Permanentmagneten erfolgen, welche außen an dem becherförmigen Pumpgehäuse angesetzt sind. Das Magnetfeld wird zweckmäßigerweise bei der letztgenannten Konstruktion dadurch geschlossen, daß eine scheibenförmige Polscheibe am Boden des becherförmigen Pumpgehäuses außen vorgesehen ist und im Inneren des Pumpgehäuses eine als Polstück wirkende Scheibe vorgesehen ist, welche von den Tragstangen der Elektrodenanordnung durchsetzt wird.

Ausführungsbeispiele der Erfindung sind in den Figuren dargestellt. Von den Figuren zeigt

Fig. 1 einen Längsschnitt einer erfindungsgemäßen Vakuumpumpe,

Fig. 2 einen Querschnitt längs der mit 2-2 bezeichneten Schnittlinie der Fig. 1,

Fig. 3 eine auseinandergezogene perspektivische Darstellung der in Fig. 1 mit 3-3 bezeichneten Anordnung,

Fig. 4 eine vergrößerte Draufsicht auf einen Teil der in Fig. 1 mit der Linie 4-4 bezeichneten Teile,

Fig. 5 einen Längsschnitt durch eine weitere Ausführungsform der Erfindung,

Fig. 6 eine perspektivische Darstellung der in Fig. S wiedergegebenen Ausführungsform.

Bei der Ausführungsform gemäß Fig. 1 bis 3 ist eine Mehrzahl plattenförmiger Kathoden, welche dreieckige Ansatzstücke aufweisen, auf zwei Halterungsstangen 2 angeordnet, wobei sich die Kathoden in der Querrichtung erstrecken und hintereinander angeordnet sind. Die plattenförmigen Kathoden 1 können aus reaktions-

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fähigem Material, beispielsweise aus Titan oder Chrom, bestehen. Andere geeignete Materialien sind Molybdän, Wolfram, Tantal, Niob, Eisen, Zirkon, Nickel, Barium, Aluminium, Thorium, Magnesium, Kalzium, Strontium sowie Elemente der Übergangsgruppen der IV., V. und VI. Gruppe des Periodischen Systems; auch seltene Erden sind geeignet.

Die Halterungsstangen 2 bestehen aus einem Material, welches hinreichend widerstandsfähig ist und hohe Temperaturen verträgt, wie beispielsweise nichtrostender Stahl. Die plattenförmigen Kathoden 1 sind verschiebbar auf den beiden Tragstangen 2 angeordnet, indem die Stangen 2 durch Öffnungen an den seitlichen Ecken der plattenförmigen Kathoden hindurchgesteckt werden. Die Kathoden 1 sind im Abstand voneinander auf den Halterungsstangen 2 angeordnet, wobei Distanzierstücke 3, beispielsweise aus nichtrostendem Stahl bestehend, Anwendung finden.

Die DistanzierstückeS haben öffnungen 4, so daß Gas, welches sich im Inneren der Distanzierstücke befindet, leicht abgepumpt werden kann. Die Tragstangen 2 sind an ihren Enden unter Anwendung von Muttern 6 an zwei Kreuzen 5 befestigt. Die kreuzförmigen Arme 5 bestehen aus einem Material, welches hohe Festigkeit besitzt und hohe Temperaturen verträgt, beispielsweise aus nichtrostendem Stahl.

Eine Mehrzahl zellenförmig aufgebauter Anoden 7, die beispielsweise aus Titanblech von ungefähr 0,4 mm Stärke bestehen und durch Punktschweißung zusammengebaut sind, wird mittels Halterungslappen 8 beiderseits an Halterungsstangen befestigt. Die Lappen können beispielsweise aus Titanblech bestehen und an den zellenförmigen Anodenaufbau 7 angeschweißt sein; weiterhin sind die Lappen 8 an rohrförmige Distanzierstücke 9 angeschweißt, die ebenfalls aus nichtrostendem Stahl bestehen können.

Die Tragstangen 11 sind in die hohlen Distanzierstücke 9 eingeschoben. Die zur Halterung der Anoden vorgesehenen Tragstangen 11 sind um 90° versetzt zu den die Kathoden tragenden Stangen 2 angeordnet und ebenfalls in der Längsrichtung in bezug auf den Stapel der Anoden und Kathoden gerichtet. Auch die Anoden-Distanzderstücke 9 haben geeignete Öffnungen 12, um das Abpumpen von Gas aus dem Zwischenraum zwischen den Stangen 11 und den Distanzierrohren 9 zu erleichtern.

Die Enden der die Anoden tragenden Stangen 11 sind mit Gewinde versehen, welches dem Innengewinde entspricht, das in Hochspannungsisolatoren 13 vorgesehen ist; diese Isolatoren haben die Form eines Kegelstumpfes und sind an dem oberen bzw. unteren Kreuzarm 5 unter Anwendung von Schrauben 14 befestigt. Hohle zylindrische Schirme 15, welche die Isolatoren abschirmen, sind zwischen den Isolatoren 13 und den Distanzierstücken9 am Ende der Tragstangenil vorgesehen. Die Abschirmungen 15 verlaufen koaxial und in geringem Abstand von den Isolatoren 13; sie verhindern, daß zerstäubtes Kathodenmaterial sich auf den Hochspannungsisolatoren 13 niederschlägt, was ein Kurzschließen der Isolatoren zur Folge haben würde.

An dem Abschirmorgan 15 ist eine Hochspannungszuführung 16 vorgesehen, dieselbe kann beispielsweise angelötet sein, wobei die Zuführung 16 an ihrem anderen Ende an den Innenleiter einer isolierten Durchführung 19 angeschlossen ist.

Der Stapel der ineinandergreifenden Anoden 7 und Kathoden 1 wird zwischen dem oberen und unteren Kreuz 5 getragen und befindet sich in einem rohrförmigen Vakuumgefäß 21, welches aus nichtrostendem Stahl bestehen kann. Die Halterung in dem Vakuumgefäß 21 erfolgt durch zwei Auflagen 22, welche am oberen Ende an der Innenwandung des Vakuumgefäßes angeschweißt sind. Zwei Blechschrauben 23 dienen zur Befestigung des oberen Kreuzes 5 an den Auflagen 22.

Die Hochspannungsdurchf ührungsanor dnung 19 weist einen Innenleiter 17 auf, der aus nichtrostendem Stahl bestehen kann und radial eine Öffnung in der Wandung

ίο des Vakuumgefäßes 21 durchsetzt. Ein becherförmiges Verbindungsstück 24 ist am äußeren Ende des Innenleiters 17 hart angelötet. Ein hohlzylindrischer Isolator 25, der beispielsweise aus Keramik bestehen kann, ist koaxial zu dem Innenleiter 17 angeordnet und an dem einen Ende des becherförmigen Verbindungsteiles 24 angelötet. Der Isolator 25 besitzt an seiner Außenseite einen Absatz und ist dort mit einem Ring 26 verbunden. Ein Schutzschirm 20 ist quer zum Innenleiter 17 angeordnet und verhindert, daß zerstäubtes Kathodenmaterial sich auf dem Isolator 25 niederschlägt. Der Ring 26 ist mit einem zylindrischen Übergangsstück 27, welches beispielsweise aus nichtrostendem Stahl besteht, dicht verlötet. Das Übergangsstück27 ist an der Seitenwandung des Vakuumgefäßes 21 verschweißt, wobei das Verschweißen zweckmäßigerweise in Helium-Schutzgas erfolgt.

Ein elektrisches Solenoid 28 umgibt koaxial das rohrförmige Vakuumgefäß 21 und dient dem Zweck, ein magnetisches Feld axial in dem Stapel der zellenförmig aufgebauten Anoden 7 und der plattenförmigen Kathoden 1 zu erzeugen. Eine Kühlleitung 29 ist in Form einer Wendel vorgesehen und berührt die Innenwandung des Solenoides 28 der Länge nach. Die Kühlleitung 29 bildet in radialer Richtung eine Wendel größeren Durchmessers und wird beiderseits von den koaxialen Hälften des Solenoides eingeschlossen. Eine Kühlflüssigkeit wird durch die Kühlleitung 29 geleitet. Ein hohlzylindrisches Magnetjoch 31, das aus Eisen bestehen kann, umgibt das Solenoid 28 und ist an einem Ende mittels einer Polscheibe 32 aus Eisen abgeschlossen. Das andere Ende des Joches 31 ist mit einer Ringscheibe 33 abgeschlossen, welche als Polschuh wirkt und eine öffnung in der Mitte aufweist, durch die das rohrförmige Vakuumgefäß 21 eingeschoben werden kann.

Ein Ringflansch 34, der beispielsweise aus nicht' rostendem Stahl bestehen kann, ist an dem offenen Ende des rohrförmigen Vakuumgefäßes 21 im Wege der S chutzgasschweißung befestigt. Der Flansch 34 entspricht einem ähnlichen Flansch 35, der am Ende eines Pumprohres 36 befestigt ist, welches zu dem zu evakuierenden Gegenstand führt. Die Flansche 34 und 35 besitzen aufeinanderpassende Ringnuten, zwischen welche ein aus Metall bestehender Dichtungsring, beispielsweise aus Kupfer bestehend, vakuumdicht eingepreßt wird. Die Flansche 34 und 35 werden durch Schraubbolzen 37 zusammengepreßt.

Im Betrieb wird das Vakuumgefäß 21 mit einer nicht dargestellten mechanischen Vakuumpumpe bis auf einen Druck von ungefähr 10"⁴mmHg ausgepumpt. Ein positives Potential in bezug auf das Potential der Kathodenplatten 1 — dasselbe kann etwa 3 kV betragen — wird den Anoden 7 über den Mittelleiter 17 des Hochspannungsisolators 19 zugeführt. Die Kathoden sind elektrisch mit dem Vakuumgefäß 21 verbunden, welch letzteres sich zweckmäßigerweise auf Erdpotential befindet. Das Solenoid 28 wird durch einen elektrischen Strom erregt, der ein Magnetfeld von ungefähr 1000 Gauß in der Längsrichtung des Anoden-Kathoden-Stapels erzeugt.

Beim Zuführen der Hochspannung wirkt eine Glimmentladung zwischen den ineinandergreifenden Anoden- und Kathodenteilen. Positive Ionen werden durch die Glimmentladung erzeugt und durch das elektrische Feld beschleunigt, so daß sich ein Bombardement der Kathoden 1 und ein Zerstäuben des reaktionsfähigen Materials der Kathoden ergibt. Die zerstäubten Partikeln der Kathoden diffundieren im Inneren des Vakuumgefäßes 21 und kondensieren sich auf den Oberflächen der zellenförmig aufgebauten Anoden 7. Gasmoleküle, welche mit dem zerstäubten Kathodenmaterial in Berührung kommen, werden absorbiert und verlieren dadurch ihren gasförmigen Zustand, so daß der Druck in dem Vakuumgefäß 21 und den damit zusammenhängenden Apparaten verringert wird.

Nachdem die Pumpe eine gewisse Zeit in Betrieb war, hat eine beträchtliche Anhäufung von zerstäubtem Kathodenmaterial auf den zellenförmigen Anoden stattgefunden; ein beträchtlicher Teil der Kathodenplatten ist daher im Wege des Ionenbombardements abgetragen worden. Die auf diese Weise ausgearbeiteten Kathodenplatten 1 können leicht ersetzt werden in Anbetracht der gewählten Konstruktionsweise, indem der Stapel der ineinandergreifenden Kathoden und Anoden entfernt wird und die Kathodenplatten 1 durch neue Platten ersetzt werden. Gleichzeitig können die zellenförmig aufgebauten Anoden ersetzt werden, falls dies erforderlich ist, oder sie können chemisch oder durch ein Sandstrahlgebläse von dem abgesetzten Kathodenmaterial befreit werden. Der Elektrodenaufbau wird dann wiederum zusammengesetzt und in das Vakuumgefäß 21 eingebracht.

Es hat sich gezeigt, daß die Pumpgeschwindigkeit einer in vorstehender Weise aufgebauten Pumpe wesentlich größer ist als die Pumpgeschwindigkeit einer Pumpe, welche nur eine zellenförmig aufgebaute Anode 7 zwischen zwei benachbarten plattenförmigen Kathoden 1 aufweist. Es hat sich gezeigt, daß die Pumpgeschwindigkeit einer derartigen Pumpe ungefähr proportional der Gesamtquerschnittsfläche der zellenförmigen Anoden 7 ist.

Der Stapel der Anoden 7 und der plattenförmigen Kathoden 1 sieht einen derartigen Abstand von den Seitenwandungen des Vakuumgefäßes 21 vor, daß der Zutritt der Gase zu den Elektroden leicht ist und ebenso sich ein geringer Strömungswiderstand um die Elektrodenanordnung herum ergibt, wodurch die Pumpgeschwindigkeit erhöht wird.

Die Pumpgeschwindigkeit kann ferner dadurch vergrößert werden, daß, wie Fig. 4 zeigt, in den plattenförmigen Kathoden 1 Löcher 38 vorgesehen sind, wobei diese Löcher 38 zweckmäßigerweise ausgerichtet zu den sich überkreuzenden und die Anodenzellen bildenden Lamellen der Anode7 liegen. Wenn die Kathoden 1 in dieser Weise mit Öffnungen versehen sind, ist die Durchlässigkeit der Kathodenanordnung für die diffundierenden Gase beim Eintreten in den Elektrodenstapel verringert und dadurch ergibt sich die erhöhte Pumpgeschwindigkeit. Die Menge des zum Zerstäuben gelangenden Kathodenmaterials ist bei einer mit Löehern versehenen Kathode 1 im wesentlichen die gleiche, die eine nicht mit Löchern versehene Kathode hat, da die zellenförmige Anode 7 einen Fokussierungseffekt auf die bombardierenden Ionen ausübt; praktisch das gesamte Ionenbombardement trifft auf die plattenförmigen Kathoden 1 in Achsrichtung der einzelnen Zellen der Anode 7.

In den Fig. 5 und 6 ist eine weitere Ausführungsform der Erfindung gezeigt. Bei dieser Ausführungsform wird der Stapel der abwechselnd angeordneten Anoden 7 und plattenförmigen Kathoden nicht von der Innenwandung des Vakuumgefäßes 21 getragen, sondern von der Flanschanordnung. Ferner ist ein Permanentmagnet vorgesehen, welcher im Innern des Vakuumgefäßes einen Polschuh besitzt und welcher das magnetische Feld auf den aus den Anoden 7 und den plattenförmigen Kathoden 1 bestehenden Stapel richtet.

Die plattenförmigen Kathoden 1 sind unter Anwendung von Distanzierstücken 3 hintereinanderliegend und sich quer zu den Tragstangen 2 erstreckend angeordnet. Von den Tragstangen 2 wird ebenfalls die sich in der Querrichtung erstreckende und als Polschuh wirkende Ringscheibe 41 getragen. Die Scheibe 41 kann beispielsweise aus Eisen bestehen. Die Enden der Stangen 2 besitzen Gewinde und sind in die Innengewinde des Ringflansches 42 eingeschraubt, welch letztere aus nichtrostendem Stahl bestehen kann und an dem Ende des Pumprohres 43 befestigt ist. Die plattenförmigen Kathoden 1 werden auf den Stangen 2 durch Muttern 44 gehalten, die auf die unteren Enden der Stangen aufgeschraubt sind.

Die die Anoden tragenden Stangen 11 sind unter 90° versetzt zu den die Kathoden tragenden Stangen 2 angeordnet und tragen die sich in Querrichtung erstrekkenden zellenförmig aufgebauten Anoden 7 unter Anwendung von Distanzierstücken 9 und Ansatzlappen 8. Die Tragstangen 11 sind in Isolatoren 13 befestigt, welche mittels Schrauben 14 an der als Polstück wirkenden Ringscheibe 41 angeschraubt sind. Die zellenförmigen Anoden 7 sind an den Tragstangen 11 mittels Muttern 45 befestigt, welche auf die freien Enden der Tragstangen 11 aufgeschraubt sind.

Die positive Anodenspannung wird der Anodenanordnung 7 über die Durchführung 19 und die Zuführung 16 zugeleitet. Der Durchführungsisolator 19 ist an dem Ringflansch 42 vorgesehen und erstreckt sich durch eine geeignet angeordnete Öffnung desselben.

Der Polschuh 41 besitzt mehrere öffnungen, durch welche in leichter Weise die Gasströmung in den Elektrodenstapel eintreten kann. Der Polschuh 41 ist bis zu einem geringen Abstand an die Seitenwandungen des Vakuumgefäßes 21 herangeführt. Es kann beispielsweise eine eine mittlere Öffnung besitzende Sechseckplatte 46 vorgesehen sein, die aus Eisen bestehen kann und die das rohrförmige Vakuumgefäß 21 in der Nähe der als Polschuh wirkenden Scheibe 41 trägt, so daß auf diese Weise sich eine Fortsetzung der Platte 41 ergibt. Die geraden Kanten der Sechseckplatte 46 tragen eine Mehrzahl C-förmiger Permanentmagneten 47, die beispielsweise aus Alnico V bestehen können. Die Permanentmagneten 47 sind an ihren Enden an die Sechseckplatten 46 und 48, welche die Polschuhe der Permanentmagneten bilden, angeschraubt. Die Platte 48 besteht aus magnetisch permeablem Material, beispielsweise aus Eisen.

Der Flansch 34, welcher sich an dem oberen Ende des rohrförmigen Vakuumgefäßes befindet, paßt mit dem Flansch42 zusammen; es wird ein aus weichem Metall bestehender Dichtungsring, beispielsweise aus Kupfer bestehender Dichtungsring, zwischen den beiden Flanschen eingepreßt, so daß ein vakuumdichter Abschluß erfolgt. Die Flansche 42 und 34 werden durch eine Mehrzahl gleichmäßig am Umfang angeorneter Schraubbolzen 37 zusammengehalten.

Im wesentlichen entspricht die Ausführungsform der Pumpenanordnung gemäß Fig. 5 und 6 derjenigen, welche in Fig. 1 bis 4 dargestellt wurde, insbesondere im Hinblick auf die Betriebsweise. Die Pumpenanordnung ist indessen einfacher, da der Elektrodenstapel direkt an dem Flansch 42 befestigt ist. Fernerhin ent-

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fällt die Notwendigkeit der Stromzuführung zu dem Solenoid28, und es kommt auch die Anwendung eines Kühlmittels in Fortfall. Das magnetische Feld wird durch eine Mehrzahl Permanentmagneten 47 geliefert. Die Anordnung des Polschuhes 41 im Innern des Vakuumgefäßes 21 gestattet die Ausbildung eines besser homogenen Magnetfeldes im Innern des Vakuumgefäßes.

Es kann eine größere Anzahl Anodenanordnungen und plattenförmiger Kathoden als in Fig. 5 und 6 dargestellt ist, Anwendung finden, indem das Vakuumgefäß 21 hinreichend groß ausgebildet ist und weitere C-förmige Magneten mit zusätzlichen inneren und äußeren Polschuhen 41 und 46 angeordnet werden.

Claims (11)

PATENTANSPRÜCHE:

1. Ionen-Vakuumpumpe, bei der unter Anwendung eines die Elektronenbahnen verlängernden Magnetfeldes eine Glimmentladung zwischen einer Kathode und einer Anode zwecks Zerstäubens der ersteren und Auffangens der zerstäubten Kathodenpartikeln auf Auffangflächen erzeugt wird und die Anode flächenmäßig und/oder raummäßig so unterteilt ist, daß in einer Ebene senkrecht zum Magnetfeld eine Vielzahl gleichzeitig auftretender Entladungsbahnen gebildet wird, wobei die Kathode aus parallelen, in Richtung des Magnetfeldes hinteremanderliegenden Teilen besteht und zwischen je zwei Teilen eine Anode vorgesehen ist, die vorzugsweise zellenförmig mit in Richtung des Magnetfeldes liegenden Zellen ausgebildet ist, dadurchigekelnnzeichnet, daß in der Längsrichtung des Pumpengehäuses sich erstreckende Tragstangenpaare (2) vorgesehen sind und die Anodengruppen und die Kathodengruppen je an einem Tragstangenpaar zu einem Stapel zusammengefaßt und elektrisch miteinander verbunden angeordnet sind.

2. Vakuumpumpenach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Anoden- bzw. die Kathodengruppen auf den Tragstangen leicht verschiebbar und abmontierbar vorgesehen sind.

3. Vakuumpumpe nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß Distanzierstücke zwischen aufeinanderfolgenden Kathoden vorgesehen sind und die Distanzierstücke auf die Tragstangen aufgeschoben sind.

4. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß an sich bekannte Kühlmittel vorgesehen sind, welche eine Überhitzung des Vakuumgefäßes verhindern.

5. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die plattenförmigen Kathoden mit Löchern versehen sind, welche mit den Wandungsecken der Anodenzellen fluchten.

6. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß das Vakuumgefäß ein an einem Ende abgeschlossener Hohlzylinder und am offenen Ende des Hohlzylinders eine Traganordnung vorgesehen ist, welche den Stapel der Anoden und Kathoden trägt.

7. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß die Mittel zum Tragen der Elektrodenanordnung aus einem an der Innenwandung des Vakuumgefäßes vorgesehenen Kreuz bestehen.

8. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß ein Flansch an dem rohrförmigen Vakuumgefäß vorgesehen ist, mit welchem Anschluß an die Pumpleitung erfolgt, und die Elektrodenanordnung an dem an der Pumpleitung liegenden Flansch befestigt ist.

9. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß eine als Polschuh wirkende Scheibe quer verlaufend an dem Stapel der Anoden und Kathoden angeordnet ist und diese Scheibe mit Mitteln zur Erzeugung eines magnetischen Feldes, welches die Elektrodenanordnung durchsetzt, zusammenwirkt.

10. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß im Außenraum des Vakuumgefäßes ein elektrisches Solenoid koaxial zu der Richtung des Stapels der Anoden und Kathoden vorgesehen ist.

11. Vakuumpumpe nach Anspruch 1 oder einem der folgenden, dadurch gekennzeichnet, daß zur Erzeugung des magnetischen Feldes C-förmige Permanentmagneten vorgesehen sind.

In Betracht gezogene Druckschriften:

Deutsche Auslegeschrift A 23048 Ia/27 d (bekanntgemacht am 21. 6. 1956).

Hierzu 1 Blatt Zeichnungen

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