DE10232860A1 - Verfahren sowie Vorrichtung zur Reinigung von Aussenflächen an Lithographieobjektiven mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen - Google Patents

Verfahren sowie Vorrichtung zur Reinigung von Aussenflächen an Lithographieobjektiven mikrolithographischer Projektionsbelichtungsanlagen Download PDF

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Dieter Schmerek
Frank Marianek
Ralf Scharnweber
Oliver Dr. Wolf
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    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
    • G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
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