DE10230652A1 - Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle - Google Patents

Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle Download PDF

Info

Publication number
DE10230652A1
DE10230652A1 DE10230652A DE10230652A DE10230652A1 DE 10230652 A1 DE10230652 A1 DE 10230652A1 DE 10230652 A DE10230652 A DE 10230652A DE 10230652 A DE10230652 A DE 10230652A DE 10230652 A1 DE10230652 A1 DE 10230652A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
light source
projection
illuminating
individual
light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Ceased
Application number
DE10230652A
Other languages
German (de)
English (en)
Inventor
Dieter Dipl.-Ing. Bader
Norbert Dr.-Ing. Reng
Johannes Wangler
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Carl Zeiss SMT GmbH filed Critical Carl Zeiss SMT GmbH
Priority to DE10230652A priority Critical patent/DE10230652A1/de
Priority to EP03762496A priority patent/EP1520210A2/de
Priority to JP2004518539A priority patent/JP2005532680A/ja
Priority to CN038161451A priority patent/CN1666153A/zh
Priority to AU2003246548A priority patent/AU2003246548A1/en
Priority to PCT/EP2003/006397 priority patent/WO2004006021A2/de
Publication of DE10230652A1 publication Critical patent/DE10230652A1/de
Priority to US11/017,375 priority patent/US20050226000A1/en
Ceased legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70141Illumination system adjustment, e.g. adjustments during exposure or alignment during assembly of illumination system
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70058Mask illumination systems
    • G03F7/70091Illumination settings, i.e. intensity distribution in the pupil plane or angular distribution in the field plane; On-axis or off-axis settings, e.g. annular, dipole or quadrupole settings; Partial coherence control, i.e. sigma or numerical aperture [NA]
    • G03F7/70116Off-axis setting using a programmable means, e.g. liquid crystal display [LCD], digital micromirror device [DMD] or pupil facets

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Eye Examination Apparatus (AREA)
DE10230652A 2002-07-08 2002-07-08 Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle Ceased DE10230652A1 (de)

Priority Applications (7)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10230652A DE10230652A1 (de) 2002-07-08 2002-07-08 Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle
EP03762496A EP1520210A2 (de) 2002-07-08 2003-06-18 Optische vorrichtung mit einer beleuchtungsquelle
JP2004518539A JP2005532680A (ja) 2002-07-08 2003-06-18 照明源を備える光学装置
CN038161451A CN1666153A (zh) 2002-07-08 2003-06-18 具有照明源的光学装置
AU2003246548A AU2003246548A1 (en) 2002-07-08 2003-06-18 Optical device comprising an light source
PCT/EP2003/006397 WO2004006021A2 (de) 2002-07-08 2003-06-18 Optische vorrichtung mit einer beleuchtungsquelle
US11/017,375 US20050226000A1 (en) 2002-07-08 2004-12-20 Optical apparatus for illuminating an object

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE10230652A DE10230652A1 (de) 2002-07-08 2002-07-08 Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE10230652A1 true DE10230652A1 (de) 2004-01-29

Family

ID=29796199

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE10230652A Ceased DE10230652A1 (de) 2002-07-08 2002-07-08 Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle

Country Status (7)

Country Link
US (1) US20050226000A1 (enExample)
EP (1) EP1520210A2 (enExample)
JP (1) JP2005532680A (enExample)
CN (1) CN1666153A (enExample)
AU (1) AU2003246548A1 (enExample)
DE (1) DE10230652A1 (enExample)
WO (1) WO2004006021A2 (enExample)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004031720A1 (de) * 2004-06-30 2006-01-26 Infineon Technologies Ag Abbildungseinrichtung und Verfahren zum Ermitteln einer optimierten Beleuchtungsverteilung in der Abbildungseinrichtung
DE102005031792A1 (de) * 2005-07-07 2007-01-11 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Entfernung von Kontamination von optischen Elementen, insbesondere von Oberflächen optischer Elemente sowie ein optisches System oder Teilsystem hierfür
DE102022203331A1 (de) 2022-04-04 2022-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für Mikrolithographie

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7245354B2 (en) * 2004-02-03 2007-07-17 Yuri Granik Source optimization for image fidelity and throughput
US7283209B2 (en) 2004-07-09 2007-10-16 Carl Zeiss Smt Ag Illumination system for microlithography
WO2006064363A1 (en) * 2004-12-14 2006-06-22 Radove Gmbh Process and apparatus for the production of collimated uv rays for photolithographic transfer
TW200625027A (en) * 2005-01-14 2006-07-16 Zeiss Carl Smt Ag Illumination system for a microlithographic projection exposure apparatus
JP2007027188A (ja) * 2005-07-12 2007-02-01 Nano System Solutions:Kk 露光用照明光源の形成方法、露光用照明光源装置、露光方法及び露光装置
DE102005053651A1 (de) * 2005-11-10 2007-05-16 Zeiss Carl Smt Ag Mikrolithographische Projektionsbelichtungsanlage sowie Verfahren zur Herstellung mikrostrukturierter Bauelemente
JP5361239B2 (ja) * 2008-04-09 2013-12-04 キヤノン株式会社 露光装置及びデバイス製造方法
US8330938B2 (en) * 2009-02-27 2012-12-11 Corning Incorporated Solid-state array for lithography illumination
US9046359B2 (en) 2012-05-23 2015-06-02 Jds Uniphase Corporation Range imaging devices and methods
KR20150028266A (ko) * 2012-06-01 2015-03-13 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 복수의 방사선 빔들의 특성들을 변경하는 조립체, 리소그래피 장치, 복수의 방사선 빔들의 특성들을 변경하는 방법 및 디바이스 제조 방법
DE102015212910A1 (de) * 2015-07-09 2017-01-12 Sac Sirius Advanced Cybernetics Gmbh Vorrichtung zur Beleuchtung von Gegenständen
CN105222997A (zh) * 2015-09-29 2016-01-06 合肥京东方显示光源有限公司 一种光源模拟装置、光源测试系统及测试方法
CN106814548A (zh) * 2015-11-30 2017-06-09 上海微电子装备有限公司 自由光瞳照明方法及照明系统
NL2017493B1 (en) * 2016-09-19 2018-03-27 Kulicke & Soffa Liteq B V Optical beam homogenizer based on a lens array
CN108803244B (zh) * 2017-04-27 2021-06-18 上海微电子装备(集团)股份有限公司 照明装置及照明方法和一种光刻机
DE102018201457A1 (de) * 2018-01-31 2019-08-01 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
JP7340167B2 (ja) * 2020-01-21 2023-09-07 株式会社ニコン 照明光学系、露光装置、およびデバイス製造方法

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3729252A (en) * 1970-06-05 1973-04-24 Eastman Kodak Co Optical spatial filtering with multiple light sources
HU175630B (hu) * 1976-12-15 1980-09-28 Mta Szamitastech Autom Kutato Lazernoe ustrojstvo dlja registracii dannykh i signalov
US5091744A (en) * 1984-02-13 1992-02-25 Canon Kabushiki Kaisha Illumination optical system
KR950004968B1 (ko) * 1991-10-15 1995-05-16 가부시키가이샤 도시바 투영노광 장치
US6038279A (en) * 1995-10-16 2000-03-14 Canon Kabushiki Kaisha X-ray generating device, and exposure apparatus and semiconductor device production method using the X-ray generating device
DE19540108C2 (de) * 1995-10-27 1998-08-06 Ldt Gmbh & Co Vorrichtung zur Darstellung eines ersten Bildes in einem durch eine durchsichtige Scheibe sichtbaren zweiten Bild
US6628370B1 (en) * 1996-11-25 2003-09-30 Mccullough Andrew W. Illumination system with spatially controllable partial coherence compensating for line width variances in a photolithographic system
US5840451A (en) * 1996-12-04 1998-11-24 Advanced Micro Devices, Inc. Individually controllable radiation sources for providing an image pattern in a photolithographic system
US6233039B1 (en) * 1997-06-05 2001-05-15 Texas Instruments Incorporated Optical illumination system and associated exposure apparatus
WO1999045558A1 (en) * 1998-03-05 1999-09-10 Fed Corporation Blue and ultraviolet photolithography with organic light emitting devices
US6215578B1 (en) * 1998-09-17 2001-04-10 Vanguard International Semiconductor Corporation Electronically switchable off-axis illumination blade for stepper illumination system
US6224216B1 (en) * 2000-02-18 2001-05-01 Infocus Corporation System and method employing LED light sources for a projection display
US6509955B2 (en) * 2000-05-25 2003-01-21 Ball Semiconductor, Inc. Lens system for maskless photolithography
US6658315B2 (en) * 2001-10-31 2003-12-02 Ball Semiconductor, Inc. Non-synchronous control of pulsed light
WO2003040830A2 (en) * 2001-11-07 2003-05-15 Applied Materials, Inc. Optical spot grid array printer

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102004031720A1 (de) * 2004-06-30 2006-01-26 Infineon Technologies Ag Abbildungseinrichtung und Verfahren zum Ermitteln einer optimierten Beleuchtungsverteilung in der Abbildungseinrichtung
DE102005031792A1 (de) * 2005-07-07 2007-01-11 Carl Zeiss Smt Ag Verfahren zur Entfernung von Kontamination von optischen Elementen, insbesondere von Oberflächen optischer Elemente sowie ein optisches System oder Teilsystem hierfür
DE102022203331A1 (de) 2022-04-04 2022-11-10 Carl Zeiss Smt Gmbh Beleuchtungssystem und Projektionsbelichtungsanlage für Mikrolithographie

Also Published As

Publication number Publication date
CN1666153A (zh) 2005-09-07
WO2004006021A2 (de) 2004-01-15
EP1520210A2 (de) 2005-04-06
JP2005532680A (ja) 2005-10-27
WO2004006021A3 (de) 2004-09-16
US20050226000A1 (en) 2005-10-13
AU2003246548A1 (en) 2004-01-23

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10230652A1 (de) Optische Vorrichtung mit einer Beleuchtungslichtquelle
EP0747772B1 (de) Beleuchtungseinrichtung für ein Projektions-Mikrolithographie-Gerät
EP2100190B1 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die mikrolithographie
DE10343333A1 (de) Beleuchtungssystem für eine Mikrolithographie-Projektionsbelichtungsanlage
DE60222786T2 (de) Zoomvorrichtung, insbesondere zoomvorrichtung für eine beleuchtungsvorrichtung einer mikrolithographie-projektionsvorrichtung
DE102008009600A1 (de) Facettenspiegel zum Einsatz in einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikro-Lithographie
DE10219514A1 (de) Beleuchtungssystem, insbesondere für die EUV-Lithographie
DE102015208171A1 (de) Bestrahlungsvorrichtung mit Strahlungseinheit
DE102011003928A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Projektionslithographie
DE102006036064A1 (de) Beleuchtungssystem für eine Projektionsbelichtungsanlage mit Wellenlängen ≦ 193 nm
DE102015122712A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Bildaufnahme
DE102006006797A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Strukturbelichtung
DE102010009022A1 (de) Beleuchtungssystem sowie Projektionsobjektiv einer Maskeninspektionsanlage
EP1894050A1 (de) Beleuchtungsvorrichtung, insbesondere für mikroskope
DE102012208016A1 (de) Beleuchtungsoptik für die Mikrolithographie
DE102012207866A1 (de) Baugruppe für eine Projektionsbelichtungsanlage für die EUV-Projektionslithografie
WO2020069885A1 (de) Laserbearbeitungssystem
DE10132988B4 (de) Projektionsbelichtungsanlage
DE102007055443B4 (de) Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie
EP3737999A1 (de) Pupillenfacettenspiegel, beleuchtungsoptik und optisches system für eine projektionsbelichtungsanlage
DE102012208064A1 (de) Beleuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
DE102012201235A1 (de) Verfahren zum Einstellen einer Beleuchtungsgeometrie für eine Be-leuchtungsoptik für die EUV-Projektionslithographie
DE102019126888A1 (de) Laservorrichtung zur Erzeugung von Laserstrahlung sowie 3D-Druck-Vorrichtung mit einer derartigen Laservorrichtung
WO2004099873A2 (de) Beleuchtungssystem für eine mikrolithographie-projektionsbelichtungsanlage
WO2017097601A1 (de) Beleuchtungssystem einer mikrolithographischen projektionsanlage und verfahren zum betreiben eines solchen systems

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
8131 Rejection