DE1021489B - Spitzentransistor aus einem Halbleiterkristall wie Germanium oder Silizium mit vier oder mehr Spitzenelektroden - Google Patents

Spitzentransistor aus einem Halbleiterkristall wie Germanium oder Silizium mit vier oder mehr Spitzenelektroden

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DE1021489B
DE1021489B DEI9553A DEI0009553A DE1021489B DE 1021489 B DE1021489 B DE 1021489B DE I9553 A DEI9553 A DE I9553A DE I0009553 A DEI0009553 A DE I0009553A DE 1021489 B DE1021489 B DE 1021489B
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Description

  • Spitzentransistor aus einem Halbleiterkristall wie Germanium oder Silizium mit vier oder mehr Spitzenelektroden Der bekannte Spitzentransistor besteht aus einem Störstellenhalbleiter, d. h. aus einem Halbleiterlcristall, wie Germanium oder Silizium, mit sehr geringer Verunreinigung durch andere Elemente, z. B. Arsen oder Gallium, dessen elektrische Leitfähigkeit mit Hilfe einer auf den Kristall gesetzten Metallspitze verändert werden kann.
  • Je nach Art und Anzahl der im Überschuß vorhandenen Störatome, d. h. der reguläre Plätze des Kristallgitters einnehmenden Fremdatome, bildet sich ein elektronenleitender Halbleiter (n-Typ), wenn die Anzahl der negativen Ladungsträger (Elektronen) die positiven Ladungsträger (Löcher) überwiegt. Umgekehrt ist ein .defektelektron.enleitender Halbleiter. (p-Typ) vorhanden, wenn die positiven Ladungsträger (Löcher) die negativen (Elektronen) überwiegen. Silizium und Germanium sind Elemente der IV. Gruppe des Periodischen Systems. Es zeigt sich, daß Einlagerungen in kleinen Konzentrationen von dreiwertigen Fremdatomen (Akzeptoren), wie Bor, Gallium oder Indium, in den vierwertigen Halbleitern, im allgemeinen Löcherleitung, Zusätze von fünfwertigen Fremdatomen (Donatoren), wie Phosphor, Antimon, oder Arsen, dagegen im allgemeinen Elektronenleitungen erzeugen.
  • Der bekannte Spitzentransistor enthält auf der Halbleiteroberfläche zwei feine Metallspitzen in sehr geringem Abstand voneinander. Davon wird die eine, der sogenannte Emitter, in Flußrichtung des Kristalls vorgespannt, d. h. bei einem n-Typ-Halbleiter positiv vorgespannt, während die zweite Spitze, der Kollektor, in Sperrichtung des Kristalls betrieben wird. An der Basis des Kristalls befindet sich ein Großflächenkontakt, die Basiselektrode.
  • Der Kontakt zwischen der Metallunterlage und dem Halbleiter, d. h. der Basiskontakt, ist rein ohmisch und hat keine Sperrschicht. Der Übergangswiderstand der Basis ist also unabhängig von der Richtung und Stärke des Stromflusses. Die Emitter-und die Kollektorelektrode haben mit dem Halbleiter eine gleichrichtende oder asymmetrische Impedanz, d. h., ihre Impedanz ist für verschiedene Stromrichtungen verschieden.
  • Das für die meisten Spitzentransistoren verwendete Halbleitermaterial ist Germanium vom n-Typ. Sein Emitter hat eine positive Vorspannung. Aus diesem Einitter fließt ein Strom in das n-Germanium. Ein kleiner Bruchteil dieses Stromes besteht aus Elektronen, die, von der sperrfreien Basiselektrode herkommend, quer durch den Germaniumkristall in den Emitter hineinfließen. Der Hauptteil des Emitterstroines besteht dagegen aus Defektelektronen (Löcher), auf die der benachbarte Kollektor mit seiner negativen Vorspannung eine größere Anziehungskraft ausübt. Der Hauptteil dieses Löcherstromes fließt infolge des geringen Abstandes des Kollektors zum Emitter, vom Emitter zum Kollektor und nur in geringer Menge zur Basis. Diese Verteilung des Löcherstromes über den Kollektor und über die Basis ist noch dadurch bedingt, daß das Potential des Kollektors viel niedriger ist als das Potential der Basis.
  • Der Austritt von Elektronen aus der negativen Kollektorspitze ist durch die Randschicht erschwert. Wenn nun die Defektelektronen infolge des Feldes zwischen Einitter und Kollektor in die Nähe des Kollektors geraten, so vermehren sie nicht nur den Stromfluß nach dem Kollektor hin, viel bedeutender ist, daß sie in Kollektornähe eine Verringerung der Sperrwirkung durch die Randschicht verursachen. Die Defektelektronen erleichtern den Austritt der Elektronen aus dem Kollektor. Dieser Elektronenstrom fließt infolge der Potentialverteilung im Halbleiter zum größten Teil zur Basis und nur zu einem geringen Teil zur Emitterelektrode. Die vom Emitter aus injizierten Defektelektronen sind bestimmend für die Verstärkerwirkung des Transistors. Mit einer kleinen Leistung im Emitterkreis kann somit der über die Kollektorrandschicht führende Strompfad der Batterie im Kollektorkreis gesteuert werden. Eine bestimmte Änderung im Emitterkreis löst eine entsprechende gleich große oder größere im Kollektorkreis aus. Diese Anordnung kann also als Verstärker verwendet werden. Man nennt das Verhältnis der Kallektorstromänderun.g zur Emitterstromänderung für eine feste Kollektorspannung die Stromverstärkung x. Beim Spitzentransistor kann der a-Wert größer als Eins sein.
  • Zur Verbesserung der Stromvervielfachung eines Spitzentransistors ist nun bereits vorgeschlagen worden, dem Halbleiterkristall eine weitere wirksame Spitzenelektrode aufzusetzen, die eine zusätzliche Raumladung von Elektronen als Ladungsträger erzeugt. Der Einsatz dieser zweiten Emitterelektrode nach dem älteren Vorschlag bringt in bezug auf die Transistoreigenschaften bestimmte wesentliche Vorteile, insbesondere einen vergrößerten Stromvervielfachungsfaktor. Der Transistor nach dem älteren Vorschlag ist jedoch bestimmten Einschränkungen unterworfen. Eine davon besteht darin, daß der Abstand zwischen dem zweiten Emitter, d. h. dein Hilfsemitter. und dein Kollektor gleich oder größer sein muß als die Diffusionslänge für die durchschnittliche Lebensdauer der Elektronen in dem Halbleitermaterial. Um diesen erforderlichen Abstand zu verkleinern, ist es daher erwünscht, Transistoren vom Typ des älteren Vorschlages aus Germanium mit kurzer Lebensdauer der Elektronen zu bauen.
  • Eine weitere Schwierigkeit bei dem Transistor nach dem genannten älteren Vorschlag ist eine unerwünschte Verminderung des Rückwiderstandes (Widerstand gegen den Stromfluß, von der Basis zum Kollektor) unter bestimmten Arbeitsbedingungen. Diese Abnahme des Rückwiderstandes ergibt sich besonders dann, wenn versucht wird, den Abstand zwischen dem Hilfsemitter und dem Kollektor unter die Diffusionsläne zu verkleinern. Es ist aber gerade bei Transistoren,' die in Schaltkreisen verwendet werden sollen, sehr wünschenswert, den Rückwiderstand während des Transistorbetriebes hochzuhalten.
  • Die der Erfindung zugrunde liegende Aufgabe besteht nun darin. einen verbesserten Transistor mit einem großen Stromvervielfachungsfaktor zu schaffen. Bei dem Transistor nach der Erfindung wird ebenfalls eine Hilfsraumladung zusätzlich von Überschußträgern (Elektronen) erzeugt. Diese Zusatzladung wird erfindungsgemäß laufend gesteuert.
  • Die Erfindung bezieht sich auf einen Spitzentransistor aus einem Halbleiterkristall wie Germanium oder Silizium mit vier oder mehr Spitzenelektroden auf ein und derselben n- oder p-leitenden Halbleiteroberfläche. Erfindungsgemäß sind zwischen zwei Kollektorspitzenelektroden zwei Emitterspitzenelektroden so angeordnet, daß der eine Ernitter von beiden Kollektoren den gleichen Abstand hat und der andere Ernitter dem einen der beiden Kollektoren so dicht benachbart ist, wie es -zwischen dein Emitter und dem Kollektor bei den bekannten Spitzentransistoren der Fall ist. Nur eine der beiden Kollektorelektroden dient als Ausgangselektrode des Transistors. Die Verteilung der durch den zweiten Emitter fließenden Ladungsträger zwischen den Kollektoren wird durch den Ladungsträgerfluß vorn ersten Emitter aus gesteuert. Die Potentiale der verschiedenen Elektroden können nach Wunsch so gesteuert werden, daß sie den Stromvervielfachung.-faktor regeln.
  • Weitere Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der folgenden Beschreibung. Die Zeichnung enthält eine beispielsweise Ausführungsform der Erfindung. An Hand dieser Zeichnung sei die Erfindung nachstehend näher erläutert.
  • Die Zeichnung zeigt einen Spitzentransistor, bestehend aus einem Block 1 aus Halbleitermaterial rnit einer Basiselektrode 2, zwei Emitterelektroden 3e und 41- und zwei Kollektorelektroden 5 c und 6c. Der Block 1 besteht aus Halbleitermaterial vorn n-Typ. Die Stromflußrichtungen und die verschiedenen Polaritäten entsprechen den Erfordernissen des jeweils benutzten Halbleitermaterials. Das Halbleitermaterial kann also im Bedarfsfalle auch vom p-Typ sein, wobei jedoch die Stromrichtungen und Polaritäten umgekehrt werden müßten.
  • Die Emitterelektrode 3 e befindet sich auf der Halben Strecke zwischen den Kollektorelektroden 5c und 6 c. Der Abstand x zwischen Ernitter 3 e und Kollektor 5 c ist also etwas gleich dem Abstand y zwischen Emitter 3 c und Kollektor 6 c. Während diese drei Elektroden vorzugsweise auf einer geraden Linie liegen, braucht nur der Abstand .r gleich dein Abstand _v zu sein.
  • Die Emitterelektrode 4e befindet sich zwischen dem Emitter 3 c und dem Kollektor 6 c, und zwar vorzugsweise sehr nahe am Kollektor 6c. Hier ist der Abstand im wesentlichen derselbe wie zwischen (lern Emitter und dein Kollektor bei bekannten Spitzentransistoren. Die Basiselektrode 2 ist geerdet. Die Emitterelektrode 3 e ist über einen Widerstand 17 und eine Vorspannungsbatterie 7 geerdet. Die Emitterelelctrode 4c ist über einen Signalgeber 8 geerdet, der z. B. aus einer Wechselstrom-Signalquelle 9 und einer Gleichstrom-Siglialquelle 10 (als Batterie dargestellt) besteht. Die Stromflußrichtung vom Emitter4c in den Block ist die bei einem Ernitter bekannter Spitzentransistoren übliche. Daher muß der Ernitter 4e im Falle eines n-Typ-Halbleiters gegen das ulrmittelbar benachbarte Halbleitermaterial positiv sein. Der Emitter braucht jedoch hinsichtlich der Basis 2 nicht positiv zu sein. Ist der Kollektor 6c negativ und der Emitter4c ihm sehr dicht benachbart, so könnte es sogar erforderlich sein, den Ernitter4t° gegen die geerdete Basis 2 negativ vorzuspannen.
  • Die Kollektorelektrode 5c ist in Reihe mit ein-er Batterie 11 und einem Widerstand 12 und der Kollektor 6c in Reihe mit einem Belastungswiderstand 13 und einer Batterie 14 geerdet. Die Ausgangsklernmen 15 und 16 sind an den Kollektor 6c bzw. an Erde angeschlossen.
  • Nachstehend wird die Arbeitsweise des Spitzentransistors nach der Erfindung an Hand der Löcher und Elektronenleitung erörtert. Dabei soll vorausgesetzt sein. daß der Block 1 aus halbleitendem Material vorn n-Typ besteht. ohne daß damit die Erfindung auf Transistoren vom n-Typ beschränkt ist. In jedem Transistor erzeugen die vom Ernitter zum Kollektor fließenden Defektelektronen (Löcher) gleichzeitig einen Stromfluß vom Kollektor zur Basis. Der Kollektorstrom ist die Summe des Löcherstromes und des Elektronenstromes und daher trrn einen Faktor a* oder 2i größer als der Löcherstrom. Dieser Faktor wird als Eigenstromverstärkung oder zuweilen auch als Kollektorverstärkungsfaktor bezeichnet. Infolge eines Verstärkerrnechanismus, dessen exakte Theorie hier nicht besprochen werden soll, kann jedes den Kollektor erreichende Defektelektron einen Fluß von mehreren Elektronen vorn Kollektor au: erzeugen, so daß die Eigenstromverstärkung sehr hoch sein kann. Zum Beispiel kann der Transistor nach dem obene 'iliiiteii älteren Vorschlag einen Eigen-Stromrw2 vervielfachungsfaktorai von über 20 haben. Durch Versuche hat sich herausgestellt, daß. wenn ein einziger Eniitter an einer Stelle in der -litte zwischen zwei ähnlichen Kollektoren aufgesetzt wird, die Stromträger von dem Ernitter sich nicht - wie man annehmen könnte - gleichmäßig zwischen den Kollektoren aufteilen, sondern statt dessen der meiste Strom zu dem einen oder zu dem anderen Kollektor fließt. Es ist zu vermuten. daß diese Erscheinung einer kumulativen Wirkung zuzuschreiben ist. Zum Verständnis dieser Wirkung berücksichtige man, daß es beim Spitzentransistor praktisch unmöglich ist, eine Emitterelektrode genau in die Mitte zwischen zwei Kollektoren zu setzen. Ebenso ist es unmöglich, die beiden Kollektoren mit genau gleichen Potentialen vorzuspannen. Es ist auch nicht möglich, zwei Kollektoren genau gleichen Formierungen zu unterwerfen. um eine gleiche Stromvervielfachung und gleiche Rückwiderstände an beiden Kollektoren zu erhalten. Infolgedessen besteht in jedem Transistor immer eine leichte Ungleichheit zugunsten eines Kollektors. Durch diese leichte Ungleichheit ergibt sich eine Ungleichheit des elektrischen Feldes innerhalb des Halbleiterkörpers. Dadurch wird ein Kollektor begünstigt; sie führt dazu, mehr als dessen Anteil der Träger vom Emitter anzuziehen. Ist der gesamte Emitterstrom konstant, so muß dieser zusätzliche zu einem Kollektor fließende Emitterstrom von dem nicht begünstigten Kollektor weggenommen werden. Diese Veränderungen der zu den Kollektoren fließenden Löcherströme erzeugen wiederum Veränderungen in den Elektronenströmen, die von den Kollektoren wegfließen. Ist die Eigen-Stromverstärkung (a* oder ai) für jeden Kollektor groß genug, so überwinden diese Veränderungen des Elektronenstroms alle Veränderungen der Leitfähigkeit infolge der Defektelektronen, und die von jedem Kollektor ausgehenden elektrischen Felder verändern sich in denselben Richtungen wie die elektronischen Ströme. Der begünstigte Kollektor erzeugt also ein stärkeres Feld und der nicht begünstigte ein schwächeres Feld.
  • Diese Feldveränderungen neigen dazu, eine weitere Ungleichheit in der Aufteilung des ankommenden Emitterstroms zu erzeugen. Dadurch wiederum entsteht eine Veränderung der von den Kollektoren ausgehenden Felder usw. Bei dem in der Zeichnung dargestellten Transistor besteht der eben beschriebene Zustand hinsichtlich des Emitters 3 e und der Kollektoren 5 c und 6 c. Diese beiden Kollektoren müßten Eigenschaften aufweisen, die einander weitestgehend gleichen. Dieser symmetrische Zustand wird durch das Vorhandensein des zusätzlichen Emitters 4e. der näher am Kollektor 6 c liegt als der Emitter 3 e, gestört. Die Vorspannungspotentiale der beiden Kollektoren oder andere steuerbare Faktoren müssen so gewählt werden, daß, wenn kein Strom durch den Emitter 4 e fließt, die meisten Löcher von dem Emitter 3 e zu dem Kollektor 5 c fließen und nur ein geringer Strom durch den Kollektor 6c fließt. Sobald ein Strom vom Emitter 4e aus zu fließen beginnt, wird er vom Kollektor 6 c durch dessen elektrisches Feld angezogen. Dieser Löcherstrom erhöht bei seiner Ankunft am Kollektor den von diesem ausgehenden Elektronenstrom in einem Maße, das durch den erwähnten Eigenstromverstärkungsfaktor a" bestimmt wird. Dieser verstärkte Elektronenfluß vergrößert das elektrische Feld des Kollektors 6c . und dieses vergrößerte Feld zieht mehr Löcher vom Emitter 3 e an. Der verstärkte Löcherstrom verstärkt wiederum den Elektronenfluß vom Kollektor 6 c.
  • Diese Anziehung von Defektelektronen vom Emitter 3 e aus durch das elektrische Feld infolge des vorn Emitter 4e aus fließenden Elektronenstromes kann als innerer Rückkopplungsmechanismus bezeichnet werden. Bei dem Transistor nach der Erfindung ist jedoch noch ein anderer innerer Rückkopplungsmechanismus wirksam, der den gesamten Stromverstärkungsfaktor noch weiter vergrößert. Beim Kleinerwerden des Verhältnisses von Löchern vom Emitter 3 e aus, die zum Kollektor 5 c fließen, nimmt das durch diesen Elektronenfluß bedingte elektrische Feld ab. Der Kollektor 5 c hat daher die Neigung, einen noch kleineren Teil der Defektelektronen vom Emitter 3e anzuziehen.
  • Man sieht also, daß der Transistor nach der Erfindung einen Gesamts.tromverstärkungsfaktor hat, der noch größer ist als der des obenerwähnten Transistors. Außerdem läßt sich der Rückwiderstand des Transistors nach der Erfindung besser aufrechterhalten.
  • Ein besonderer Vorteil des Transistors nach der Erfindung besteht darin, daß er keiner Beschränkung in bezug auf die Lebensdauer der Überschußträger im Halbleitermaterial oder im Hinblick auf die Diffusionslänge unterworfen ist. Gegenüber dem älteren Vorschlag müssen die Elektronenabstände kleiner sein als die Diffusionslänge anstatt größer wie beim obigen bekannten Transistor. Es ist zweckmäßig, am Emitter 3 e eine hohe Vorspannung und einen hohen Widerstand damit in Reihe aufrechtzuerhalten, damit eine reichliche, aber konstante Menge von Ladungsträgern ständig vom Emitter verfügbar ist. Die Vorspannung am Emitter 3 e und die am Kollektor 5 c können veränderbar sein, wie die Zeichnung zeigt, damit der Stromv erstärkungsfaktor nach Wunsch steuerbar ist.
  • Obwohl nach der Zeichnung ein Widerstand 12 mit der Batterie 11 in Reihe liegt, kann vorteilhafterweise in vielen Fällen dieser Widerstand auch weggelassen werden. Man könnte erwarten, daß der beste Ausgleich zwischen den Kollektoren 5 c und 6 c erhalten würde, wenn der Widerstand 12 gleich dem Widerstand 13 und das Potential der Batterie 11 gleich dem der Batterie 14 wären. Wie jedoch bereits erklärt, kann man praktisch keinen genauen Ausgleich zwischen den Emittern herbeiführen. Ein solcher wird auch bei der Arbeitsweise des Transistors gar nicht verwendet außer als vorübergehender Zustand während eines Überganges von einer Ungleichheit, die den einen Kollektor begünstigt, zu einer den anderen begünstigenden Ungleichheit. Es ist erwünscht, so schnell wie möglich von dem einen Zustand in den anderen überzugehen. Die Widerstände 12 und 13 haben wie alle Widerstände die Neigung, den Stromfluß konstant zu halten, und neigen daher dazu, die gewünschte Arbeitsweise der Schaltung zu beeinträchtigen. Im Gegensatz zu dem Widerstand 12 kann in der Schaltung auf den Widerstand 13 nicht verzichtet werden. Wird der Widerstand 12 weggelassen, dann muß zur Erlangung annähernd gleicher Potentiale an den Kollektoren 5 c und 6 c das Potential der Batterie 14 größer sein als das der Batterie 11, um den Potentialabfall über den Widerstand 13 auszugleichen.

Claims (5)

  1. PATENTANSPRÜCHE: 1. Spitzentransistor aus einem Halbleiterkristall wie Germanium oder Silizium mit vier oder mehr Spitzenelektroden auf ein und derselben n- oder p-leitenden Halbleiteroberfläche, dadurch gekennzeichnet, daß zwischen zwei Kollektorspitzenelektroden (5c, 6c) zwei Emitterspitzenelektroden (3e, 4c') so angeordnet sind, daß der eine Emitter (3e) von beiden Kollektoren (5c, 6c) den gleichen Abstand hat und der andere Emitter (4e) dem einen (6c) der beiden Kollektoren (5c, 6c) so dicht benachbart ist, wie es zwischen dem Emitter und dem Kollektor bei den bekannten Spitzentransistoren der Fall ist.
  2. 2. Spitzentransistor nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß über den Mittenemitter (3e) ein im wesentlichen konstanter Strom fließt.
  3. 3. Spitzentransistor nach den Ansprüchen 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß der dem einen der beiden Kollektoren dicht benachbarte Emitter (4e) die Verteilung des Ladungsträgerflusses aus dem Mittenemitter (3e) auf die beiden äußeren Kollektoren (5c, 6c) steuert.
  4. Spitzentransistor nach den Ansprüchen 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß für die Aufnahme der zu verstärkenden Signalgröße jener Emitter (4e) verwendet wird, der einem der beiden Kollektoren dicht benachbart ist.
  5. 5. Spitzentransistor nach den Ansprüchen 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß für die Entnahme der verstärkten Signalgröße jener Kollektor (6c) dient, der einer der beiden Emitterelektroden dicht benachbart ist. In Betracht gezogene Druckschriften: Deutsche Patentschrift N r. 836 826.
DEI9553A 1953-12-23 1954-12-22 Spitzentransistor aus einem Halbleiterkristall wie Germanium oder Silizium mit vier oder mehr Spitzenelektroden Pending DE1021489B (de)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE836826C (de) * 1949-10-11 1952-04-17 Western Electric Co Halbleiter-UEbertragungsvorrichtung

Patent Citations (1)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE836826C (de) * 1949-10-11 1952-04-17 Western Electric Co Halbleiter-UEbertragungsvorrichtung

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