DE10206818A1 - Elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zur Herstellung derselben - Google Patents
Elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zur Herstellung derselbenInfo
- Publication number
- DE10206818A1 DE10206818A1 DE10206818A DE10206818A DE10206818A1 DE 10206818 A1 DE10206818 A1 DE 10206818A1 DE 10206818 A DE10206818 A DE 10206818A DE 10206818 A DE10206818 A DE 10206818A DE 10206818 A1 DE10206818 A1 DE 10206818A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- adhesive
- electronic component
- components
- nanoparticles
- adhesive layer
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/074—Stacked arrangements of non-apertured devices
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J5/00—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers
- C09J5/06—Adhesive processes in general; Adhesive processes not provided for elsewhere, e.g. relating to primers involving heating of the applied adhesive
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J9/00—Adhesives characterised by their physical nature or the effects produced, e.g. glue sticks
- C09J9/02—Electrically-conducting adhesives
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L23/00—Details of semiconductor or other solid state devices
- H01L23/48—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor
- H01L23/488—Arrangements for conducting electric current to or from the solid state body in operation, e.g. leads, terminal arrangements ; Selection of materials therefor consisting of soldered or bonded constructions
- H01L23/495—Lead-frames or other flat leads
- H01L23/49503—Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad
- H01L23/49513—Lead-frames or other flat leads characterised by the die pad having bonding material between chip and die pad
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L24/33—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of a plurality of layer connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L24/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/065—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L25/0657—Stacked arrangements of devices
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L25/00—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof
- H01L25/03—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes
- H01L25/04—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers
- H01L25/07—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00
- H01L25/072—Assemblies consisting of a plurality of individual semiconductor or other solid state devices ; Multistep manufacturing processes thereof all the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/00, or in a single subclass of H10K, H10N, e.g. assemblies of rectifier diodes the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L29/00 the devices being arranged next to each other
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/02—Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/04—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
- H01L2224/05—Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
- H01L2224/0554—External layer
- H01L2224/05599—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32135—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip
- H01L2224/32145—Disposition the layer connector connecting between different semiconductor or solid-state bodies, i.e. chip-to-chip the bodies being stacked
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32225—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/26—Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/31—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
- H01L2224/32—Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
- H01L2224/321—Disposition
- H01L2224/32151—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/32221—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/32245—Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/44—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process
- H01L2224/45—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors prior to the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/45001—Core members of the connector
- H01L2224/45099—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/4805—Shape
- H01L2224/4809—Loop shape
- H01L2224/48091—Arched
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48225—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation
- H01L2224/48227—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being non-metallic, e.g. insulating substrate with or without metallisation connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/481—Disposition
- H01L2224/48151—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
- H01L2224/48221—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
- H01L2224/48245—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
- H01L2224/48247—Connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic connecting the wire to a bond pad of the item
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/48463—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond
- H01L2224/48465—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a ball bond the other connecting portion not on the bonding area being a wedge bond, i.e. ball-to-wedge, regular stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L2224/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L2224/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
- H01L2224/484—Connecting portions
- H01L2224/4847—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond
- H01L2224/48471—Connecting portions the connecting portion on the bonding area of the semiconductor or solid-state body being a wedge bond the other connecting portion not on the bonding area being a ball bond, i.e. wedge-to-ball, reverse stitch
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
- H01L2224/732—Location after the connecting process
- H01L2224/73251—Location after the connecting process on different surfaces
- H01L2224/73265—Layer and wire connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/8319—Arrangement of the layer connectors prior to mounting
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/83—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
- H01L2224/838—Bonding techniques
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2224/00—Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
- H01L2224/80—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
- H01L2224/85—Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a wire connector
- H01L2224/8538—Bonding interfaces outside the semiconductor or solid-state body
- H01L2224/85399—Material
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/0651—Wire or wire-like electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06517—Bump or bump-like direct electrical connections from device to substrate
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06527—Special adaptation of electrical connections, e.g. rewiring, engineering changes, pressure contacts, layout
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06582—Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2225/00—Details relating to assemblies covered by the group H01L25/00 but not provided for in its subgroups
- H01L2225/03—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00
- H01L2225/04—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers
- H01L2225/065—All the devices being of a type provided for in the same subgroup of groups H01L27/00 - H01L33/648 and H10K99/00 the devices not having separate containers the devices being of a type provided for in group H01L27/00
- H01L2225/06503—Stacked arrangements of devices
- H01L2225/06582—Housing for the assembly, e.g. chip scale package [CSP]
- H01L2225/06586—Housing with external bump or bump-like connectors
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/01—Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/42—Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
- H01L24/47—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
- H01L24/48—Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L24/00—Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
- H01L24/73—Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L24/10, H01L24/18, H01L24/26, H01L24/34, H01L24/42, H01L24/50, H01L24/63, H01L24/71
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/0001—Technical content checked by a classifier
- H01L2924/00014—Technical content checked by a classifier the subject-matter covered by the group, the symbol of which is combined with the symbol of this group, being disclosed without further technical details
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01004—Beryllium [Be]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01005—Boron [B]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01006—Carbon [C]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/0101—Neon [Ne]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01013—Aluminum [Al]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01015—Phosphorus [P]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01019—Potassium [K]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01029—Copper [Cu]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01032—Germanium [Ge]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01033—Arsenic [As]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01047—Silver [Ag]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01052—Tellurium [Te]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01068—Erbium [Er]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01079—Gold [Au]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01082—Lead [Pb]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/01—Chemical elements
- H01L2924/01084—Polonium [Po]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/013—Alloys
- H01L2924/014—Solder alloys
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/06—Polymers
- H01L2924/078—Adhesive characteristics other than chemical
- H01L2924/07802—Adhesive characteristics other than chemical not being an ohmic electrical conductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/06—Polymers
- H01L2924/078—Adhesive characteristics other than chemical
- H01L2924/0781—Adhesive characteristics other than chemical being an ohmic electrical conductor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/095—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00 with a principal constituent of the material being a combination of two or more materials provided in the groups H01L2924/013 - H01L2924/0715
- H01L2924/097—Glass-ceramics, e.g. devitrified glass
- H01L2924/09701—Low temperature co-fired ceramic [LTCC]
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/153—Connection portion
- H01L2924/1531—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface
- H01L2924/15311—Connection portion the connection portion being formed only on the surface of the substrate opposite to the die mounting surface being a ball array, e.g. BGA
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/151—Die mounting substrate
- H01L2924/156—Material
- H01L2924/15786—Material with a principal constituent of the material being a non metallic, non metalloid inorganic material
- H01L2924/15787—Ceramics, e.g. crystalline carbides, nitrides or oxides
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/15—Details of package parts other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/181—Encapsulation
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/19—Details of hybrid assemblies other than the semiconductor or other solid state devices to be connected
- H01L2924/1901—Structure
- H01L2924/1904—Component type
- H01L2924/19043—Component type being a resistor
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L2924/00—Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
- H01L2924/30—Technical effects
- H01L2924/35—Mechanical effects
- H01L2924/351—Thermal stress
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S977/00—Nanotechnology
- Y10S977/70—Nanostructure
- Y10S977/81—Of specified metal or metal alloy composition
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
Die vorliegende Erfindung betrifft ein elektronisches Bauteil mit einer Klebstoffschicht (2) zwischen metallischen Flächen (3) von Komponenten (4) des Bauteils (1). Die metallischen Flächen (3) sind einander gegenüberliegend angeordnet. Der Klebstoff (5) der Klebstoffschicht (2) weist Agglomerate (6, 26) von Nanopartikeln (7, 27) auf, die von einer Klebstoffgrundmasse umgebene Pfade (9, 29) in der Klebstoffgrundmasse (8) bilden. Ferner betrifft die Erfindung ein Verfahren zur Herstellung des Bauteils (1).
Description
- Die Erfindung betrifft ein elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zu deren Herstellung gemäß der Gattung der unabhängigen Ansprüche.
- Klebstoffschichten in elektronischen Bauteilen werden für die verschiedensten Aufgaben eingesetzt. Es sind elektronische Bauteile bekannt, bei denen gleichartige Materialien, wie Halbleiterchip, über eine Klebstoffschicht mechanisch verbunden und gestapelt werden oder metallische Flächen mit entsprechenden metallischen Flachleitern versehen werden oder indem einzelne Keramiklagen zu einem mehrfachlagigen Keramiksubstrat verklebt werden. Außerdem sind elektronische Bauteile bekannt, bei denen ungleiche Materialien über eine Klebstoffschicht miteinander verbunden werden, beispielsweise ein Halbleiterchip mit einer metallischen Chipinsel, oder ein Halbleiterchip mit einem Keramiksubstrat oder ein metallischer Flachleiter mit einem Keramiksubstrat.
- Durch Zumischen von Füllstoffen in die Klebstoffschicht können die thermischen und elektrischen Eigenschaften der Klebstoffschicht variiert werden. Demgemäß betrifft ein erster Aspekt der vorliegenden Erfindung elektronische Bauteile mit elektrisch leitenden Klebstoffschichten und ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft elektronische Bauteile mit elektrisch isolierenden Klebstoffschichten. Ein Nachteil herkömmlicher Klebstoffschichten ist es, dass sie trotz partikelförmiger Füllstoffe völlig isotrope Eigenschaften in bezug auf die elektrische Leitfähigkeit und/oder die thermische Leitfähigkeit aufweisen. Durch die isotrope elektrische Leitfähigkeit in einer elektrisch leitenden Klebstoffschicht werden nicht nur gegenüberliegende metallische Flächen miteinander elektrisch verbunden und kurzgeschlossen, sondern auch nebeneinander angeordnete elektrisch leitende Flächen kurzgeschlossen. Der gleiche Nachteil ergibt sich bei isotrop thermisch leitenden Klebstoffschichten, bei denen nicht gezielt die thermische Energie in einer Richtung abgeführt werden kann, sondern gleichmäßig in alle Richtungen weitergeleitet wird.
- Ein weiterer Nachteil von gefüllten Klebstoffschichten ist ihre Mindestdicke. Während die Klebstoffgrundmasse einer Klebstoffschicht je nach Viskositätsgrad beliebig dünn vorgesehen werden kann, ist bei gefüllten Klebstoffschichten, die entweder die thermischen Eigenschaften oder die elektrischen Eigenschaften der Klebstoffgrundmasse verbessern sollen, eine Dicke von 5 und mehr Mikrometern erforderlich, um den Füllstoff in ausreichender Dicke und Konzentration in der Klebstoffgrundmasse unterzubringen.
- Ein weiterer Nachteil derart dicker gefüllter Klebstoffschichten ist, dass sich im Randbereich ein Meniskus ausbildet, der entsprechend den Benetzungseigenschaften und der Klebstoffdicke einen vergrößerten Flächenbedarf aufweist.
- Aufgabe der Erfindung ist es, ein elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und ein Verfahren zur Herstellung desselben anzugeben, wobei die obigen Nachteile überwunden werden und eine Verminderung des Raumbedarfs möglich wird sowie die Zuverlässigkeit der Klebstoffschicht verbessert wird.
- Diese Aufgabe wird mit dem Gegenstand der unabhängigen Ansprüche gelöst. Vorteilhafte Weiterbildungen der Erfindung ergeben sich aus den Merkmalen der abhängigen Ansprüche.
- Erfindungsgemäß weist das elektronische Bauteil bei einem ersten Aspekt der Erfindung eine elektrisch leitende Klebstoffschicht zwischen metallischen Flächen von Komponenten des Bauteils auf. Die metallischen Flächen sind dabei einander gegenüberliegend angeordnet. Der Klebstoff der elektrisch leitenden Klebstoffschicht weist Agglomerate von elektrisch leitenden Nanopartikeln auf. Diese Agglomerate sind von einer Klebstoffgrundmasse umgeben und bilden elektrisch leitende Pfade in der Klebstoffgrundmasse aus. Dabei sind die einander gegenüberliegenden Flächen elektrisch über eine Vielzahl statistisch in der Kunststoffschicht verteilter Agglomerate elektrisch leitender Nanopartikel punktuell miteinander verbunden.
- Die Bildung von Agglomeraten elektrisch leitender Nanopartikel wird durch das günstige Verhältnis zwischen Oberfläche der Nanopartikel zu dem Volumen der Nanopartikel begünstigt. Dieser Eigenschaft kommt entgegen, dass durch die minimalen Abmessungen der Partikel im Nanobereich ihre Beweglichkeit in der Klebstoffgrundmasse verbessert ist. Außerdem wird ihre Affinität zueinander aufgrund des größeren Verhältnisses zwischen Oberfläche zu Volumen für Nanopartikel gegenüber Mikropartikeln stark erhöht. Andererseits haben diese Agglomerate von Nanopartikeln in der Klebstoffgrundmasse den Vorteil, dass sie sich dem Abstand zwischen zwei gegenüberliegenden Flächen anpassen können. Ferner besteht ein Vorteil einer derartigen Klebstoffschicht mit Agglomeraten aus elektrisch leitenden Nanopartikeln in der Anisotropie der elektrischen Leitfähigkeit in Klebstoffschichten.
- Da jedes Agglomerat von einer isolierenden Klebstoffgrundmasse umgeben ist, ergeben sich an den Positionen der Agglomerate isolierte elektrisch leitende Pfade, die punktuell die einander gegenüberliegenden elektrisch leitenden Flächen miteinander verbinden. Elektrisch leitende Flächen, die nebeneinander angeordnet sind, werden jedoch aufgrund der Anisotropie der Klebstoffschicht nicht miteinander kurzgeschlossen. Somit kann die Klebstoffschicht kurzschlußfrei mehrere nebeneinander angeordnete metallische Flächen von mikroskopisch kleinen Abmessungen mit gegenüberliegend angeordneten metallischen Flächen entsprechender Abmessungen erfolgreich verbinden. In diesem Zusammenhang wird unter mikroskopisch klein eine Abmessung verstanden, die nur unter einem Lichtmikroskop erkennbar und meßbar ist.
- Die elektrisch leitenden Nanopartikel weisen Gold, Silber, Kupfer, Nickel oder Legierungen derselben auf. Diese Nanopartikel aus den entsprechenden Edelmetallen, beziehungsweise auch aus Kupfer und seinen Legierungen, haben den Vorteil, dass ihre Adsorption besonders ausgeprägt ist und sie deshalb in der Größenordnung von Nanopartikeln dazu neigen, Agglomerate in einer Klebstoffgrundmasse zu bilden. Ferner weisen die Metalle Gold, Silber und Kupfer eine hohe elektrische Leitfähigkeit auf.
- Die Klebstoffschicht kann aufgrund der elektrisch leitenden Nanopartikel eine Dicke unter einem Mikrometer aufweisen. Mit einer derartig dünnen Klebstoffschicht wird nicht nur der Raumbedarf verbessert, sondern auch der Flächenbedarf minimiert, weil sich ein entsprechend kleiner Meniskus ausbilden kann. Gleichzeitig wird die elektrische Leitfähigkeit der Klebstoffschicht um einen Faktor von über fünf gegenüber Klebstoffschichten mit elektrisch leitenden Mikropartikeln verbessert.
- Komponenten mit unterschiedlichem Ausdehnungskoeffizienten können sich bis zu einem Faktor drei in ihrem Ausdehnungskoeffizienten voneinander unterscheiden, ohne dass die Gefahr einer Beschädigung bei thermischer Wechselbelastung des elektronischen Bauteils besteht, solange die Dicke der Klebstoffschicht ein Mehrfaches des mittleren Durchmessers der elektrisch leitenden Nanopartikel ausmacht.
- Der Nanopartikelanteil kann zwischen 30 und 95 Gew.-% liegen. Dieser Nanopartikelanteil entspricht einem Füllgrad zwischen ungefähr 4 und 70 Vol.%. Das bedeutet, dass mindestens 30% des Volumens der Klebstoffschicht aus der isolierenden Klebstoffgrundmasse besteht, womit gewährleistet ist, dass die Agglomerate aus elektrisch leitenden metallischen Nanopartikeln vollständig von der isolierenden Klebstoffgrundmasse umgeben sind. Im Falle von Klebstoffschichten in elektronischen Bauteilen bildet sich eine anisotrop elektrisch leitende Struktur aus, die in der Ebene der Klebstoffschicht isolierend wirkt und orthogonal zur Klebstoffschicht, das heißt in der Dicke der Klebstoffschicht elektrisch leitend wirkt.
- Ein weiterer Vorteil der elektrisch leitenden Klebstoffschicht mit elektrisch leitenden Nanopartikeln besteht darin, dass die Agglomerate aus Nanopartikeln in der Klebstoffgrundmasse verformbar sind. Aufgrund dieser Verformbarkeit können sich die leitenden Pfade in ihrer Länge der jeweiligen Dicke der Klebstoffschicht anpassen, so dass Abstandsunterschiede der gegenüberliegenden elektrisch leitenden Flächen ausgeglichen werden können. Insbesondere bei Halbleiterchips ist die Oberfläche der Halbleiterchips mit ihren elektrisch leitenden Kontaktflächen in ihrer Höhe beziehungsweise ihrer Tiefe stark gestaffelt, so dass diese Eigenschaft der Verformbarkeit der elektrisch leitenden Agglomerate aus Nanopartikeln besonders geeignet sind, um in einem elektrischen Bauteil mit gestapelten Halbleiterchips Kontaktflächen auf den aktiven Oberseiten der Halbleiterchips miteinander zu verbinden.
- Die Nanopartikel können einen mittleren Durchmesser zwischen 10 und 200 Nanometer aufweisen. Dabei ist ein mittlerer Durchmesser von 10 bis 50 Nanometern besonders für extrem dünne Klebstoffschichten weit unterhalb eines Mikrometers geeignet, während der obere Bereich von 100 bis 200 Nanometern für Klebstoffschichtdicken von etwa 1 Mikrometer vorgesehen sind. Durch die Verwendung von elektrisch leitenden Nanopartikeln mit einem mittleren Durchmesser in diesen Bereichen zwischen 10 und 200 Nanometern kann somit die elektrisch leitende Klebstoffschicht sehr genau an den möglichen Abstand der gegenüberliegenden und elektrisch zu verbindenden Flächen angepaßt werden.
- Der mittlere Durchmesser der Agglomerate elektrisch leitender Nanopartikel in dem Klebstoff kann die Dicke der Klebstoffschicht erreichen. Damit wird gewährleistet, dass in jedem Bereich der Klebstoffschicht eine sichere Verbindung über entsprechende Leitungspfade, die aus verformten Agglomeraten elektrisch leitender Nanopartikel in der Klebstoffschicht gebildet werden.
- Als Ausgangsstoff kann der Klebstoff einen mit elektrisch leitenden Nanopartikeln angereicherten, in N-methyl- Pyrrolidon gelösten Polyamidessigsäureester aufweisen. Dieser Ausgangsstoff hat den Vorteil, dass die Viskosität des in N- methyl-Pyrrolidon gelösten Polyamidessigsäureesters durch den Anteil des N-methyl-Pyrrolidon variabel und an die Größe der Nanopartikel anpaßbar ist.
- Der Klebstoff weist zusätzlich zu den Nanopartikeln Katalysatormaterialien und Haftvermittler in einer Klebstoffgrundmasse aus Polyamid auf. Dabei ist Polyamid nicht alleine klebend, so dass insbesondere der Zusatz eines Haftvermittlers die Klebewirkung der Polyamidgrundmasse ausmacht. Katalysatormaterialien sollen in dieser Klebstoffgrundmasse die Vernetzung des Polyamids beschleunigen helfen. Somit ergibt sich durch die Zusätze von Katalysatormaterialien und Haftvermittler in Verbindung mit den elektrisch leitenden Nanopartikeln ein Klebstoff, der eine verbesserte Haftung und eine höhere Vernetzungsrate bei verminderter Vernetzungstemperatur aufweist.
- Von den gegenüberliegenden metallischen Flächen kann mindestens eine auf einem Halbleiterchip angeordnet sein. Dadurch wird es möglich, mit diesem Klebstoff Halbleiterchip und deren metallische Flächen mit metallischen Flächen, beispielsweise von Keramiksubstraten, oder unmittelbar mit metallischen Chipinseln eines Flachleiterrahmens zu verbinden.
- Weiterhin kann mindestens eine der gegenüberliegenden metallischen Fläche, zwischen denen eine elektrisch leitende Klebstoffschicht anzuordnen ist, auf einem Keramiksubstrat angeordnet sein. Elektronische Bauteile, bei denen mindestens eine der metallischen Flächen ein Keramiksubstrat aufweist, haben gegenüber elektronischen Bauteilen, bei denen beispielsweise metallische Flächen auf einem glasfaserverstärkten Leiterplattenmaterial angeordnet sind, den Vorteil, dass der thermische Ausdehnungskoeffizient eines Keramiksubstrats wesentlich näher an dem Ausdehnungskoeffizienten eines Halbleiterchips liegt. Somit kann die Klebstoffschicht mit einer Dicke geringer als einem Mikrometer ausgeführt werden, ohne dass es zu einer Delamination aufgrund von Thermospannungen kommt.
- Die geringste Dicke einer Klebstoffschicht kann eingesetzt werden, wenn die beiden aufeinander zu klebenden und elektrisch zu verbindenden Komponenten eines elektronischen Bauteils aus identischen Materialien bestehen, da die Klebstoffschicht keinerlei Puffer für das thermische Ausdehnungsverhalten der Materialien bilden muß. Eine Klebstoffschicht aus Agglomeraten elektrisch leitender Nanopartikel ist somit besonders geeignet, für Stapel aus Halbleiterchips eingesetzt zu werden. Ebenso kann eine derartige Klebstoffschicht für Stapel aus Keramiklagen zur Darstellung eines mehrlagigen Keramiksubstrats verwendet werden. Somit sind äußerst kompakte raumsparende elektronische Bauteile durch Stapelung gleichartiger Materialien und unter Verbindung durch einen Klebstoff mit Agglomeraten aus elektrisch leitenden Nanopartikeln realisierbar.
- Ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils mit einer elektrisch leitenden Klebstoffschicht zwischen einander gegenüberliegenden metallischen Flächen von Komponenten des Bauteils weist folgende Verfahrensschritte auf. Zunächst wird eine Ausgangslösung hergestellt, indem ein Polyamidessigsäureester in N-methyl-Pyrrolidon gelöst wird. Anschließend wird diese Ausgangslösung mit Katalysatormaterialien und Haftvermittlern zu einer Klebstofflösung versetzt. Diese Klebstofflösung wird mit elektrisch leitenden Nanopartikeln zu einem elektrisch leitenden Klebstoff gemischt. Anschließend kann der Klebstoff auf mindestens eine der Oberseiten der zu verklebenden Komponenten des elektronischen Bauteils aufgetragen werden und danach werden die Komponenten zusammengefügt.
- Unter Erwärmung vernetzt schließlich der Klebstoff und verbindet mechanisch die Komponenten und soweit die Komponenten gegenüberliegende metallische Flächen aufweisen, werden diese durch die in dem Klebstoff sich ausbildenden Agglomerate aus elektrisch leitenden Nanopartikel miteinander verbunden. Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass eine Klebstoffschicht herstellbar wird, die anisotrope Eigenschaften in bezug auf die elektrische Leitfähigkeit aufweist. Bereits beim Mischen der Klebstofflösung mit elektrisch leitenden Nanopartikeln entsteht aufgrund des hohen Oberflächenanteils der elektrisch leitenden Nanopartikel gegenüber deren Volumen eine hohe Affinität zwischen den elektrisch leitenden Nanopartikeln, die sich zu Agglomeraten zusammenfügen, wobei die Agglomerate von der isolierenden Klebstofflösung allseitig umgeben sind.
- Beim Auftragen des Klebstoffs auf mindestens eine der Oberseiten der zu verklebenden Komponenten in einer Dicke, die geringer ist als der mittlere Durchmesser der Agglomerate, wird eine Klebstoffschicht vorbereitet, die einander gegenüberliegende metallische Flächen elektrisch verbindet, während nebeneinander liegende metallische Flächen der Einzelkomponente voneinander isoliert bleiben.
- Eine Temperatur zum Vernetzen des Klebstoffs liegt über 100°C, so dass die Komponenten auf eine derartige Temperatur erwärmt werden, um die Vernetzung des Klebstoffs zu einem festen Verbund zu erreichen. Durch die in der Klebstofflösung enthaltenen Katalysatormaterialien kann die Vernetzungsdauer und die Vernetzungstemperatur vermindert werden.
- Vor einem Zusammenfügen werden die Komponenten, die elektrisch zu verbinden sind, mit ihren metallischen Flächen zueinander ausgerichtet. Dieser Schritt wird durch die Tatsache erleichtert, dass der Klebstoff nur auf einer der beiden Oberseiten der zu verklebenden Komponenten aufzutragen ist. Bei diesem Auftrag werden die Agglomerate aus elektrisch leitenden Nanopartikel von Gold, Silber, Kupfer, Nickel oder Legierungen derselben, voneinander isoliert und statistisch in der Klebstoffschicht verteilt zwischen den elektrisch zu verbindenden und ausgerichteten Flächen der Komponenten vor einem Vernetzen anordnen.
- Durch die Agglomeration der elektrisch leitenden Nanopartikel können kurzschlußfrei mehrere nebeneinander angeordnete metallische Flächen von mikroskopisch kleinen Abmessungen mit gegenüberliegend angeordneten metallischen Flächen der Komponenten elektrisch verbunden werden, sobald das Zusammenfügen der beiden Komponenten erfolgt ist. Bestehen die Komponenten aus Halbleiterchips, so können diese zu einem Stapel elektrisch leitender Halbleiterchips verbunden werden. Ein derartiger Stapel weist eine verminderte Stapelhöhe auf, zumal die agglomerierten elektrisch leitenden Nanopartikel je nach Viskosität der Klebstoffgrundmasse und mittleren Durchmesser der elektrisch leitenden Nanopartikel eine Klebstoffschicht bilden können, die eine Dicke unter einem Mikrometer aufweist.
- Zusammenfassend werden mit dem ersten Aspekt der Erfindung sehr geringe elektrische Widerstände kombiniert mit hohen elektrischen Leitfähigkeiten unter Substitution von Loten realisiert, wenn im Rahmen dieses ersten Aspektes der Erfindung ein elektrisch leitender Klebstoff mit Agglomeraten aus elektrisch leitenden Nanopartikeln eingesetzt wird. Das Klebstoffmaterial kann dabei beschränkt als Puffer für unterschiedliche thermomechanische Ausdehnungen eingesetzt werden. Je geringer der Unterschied im thermischen Ausdehnungskoeffizient zwischen den Komponenten eines elektronischen Bauteils ist, umso sicherer wird eine Befestigung mit Hilfe des erfindungsgemäßen Klebstoffs möglich. Dieses gilt besonders bei Chip-auf-Chip-Verbindungen, wenn eine elektrische Verbindung zwischen beiden Chips erforderlich wird. Ferner können metallisierte Flächen als Halbleiterchipinseln auf einem Keramiksubstrat mit Halbleiterchips belegt werden und gleichzeitig eine elektrisch leitende Klebstoffschicht erreicht werden.
- Ein weiterer Aspekt der Erfindung betrifft ein elektronisches Bauteil mit einer thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Klebstoffschicht zwischen Flächen von Komponenten des Bauteils. Dazu sind die Flächen einander gegenüber angeordnet. Der Klebstoff dieser Klebstoffschicht weist Agglomerate von thermisch leitenden, elektrisch isolierenden Nanopartikeln auf. Diese Agglomerate sind von einer Klebstoffgrundmasse umgeben, in der thermisch leitende Pfade angeordnet sind. Diese thermisch leitenden Pfade bilden punktuell thermische Verbindungen für die einander gegenüberliegenden Flächen, wobei eine Vielzahl dieser Agglomerate statistisch in der Klebstoffschicht verteilt sind.
- Ein derartiges Bauteil hat den Vorteil, dass es in der Ableitung von Verlustwärme der in dem elektronischen Bauteil enthaltenen elektronischen Bauelemente in eine durch die Klebstoffschichten vorgegebene Richtung ableiten kann. Diese bevorzugte Richtung der Wärmeableitung in einem elektronischen Bauteil kann von der aktiven Oberseite eines Halbleiterchips ausgehen und über entsprechende metallische Kühlflächen an eine der äußeren Seiten des elektronischen Bauteils geführt werden. Dabei ist der Halbleiterchip auf der metallischen Kühlfläche mit Hilfe einer elektrisch leitenden und thermisch isolierenden Klebstoffschicht befestigt.
- Darüber hinaus können mehrere nebeneinander angeordnete metallische Flächen mikroskopisch kleiner Abmessungen mit gegenüberliegend angeordneten metallischen Flächen der Komponenten kurzschlußfrei und thermisch leitend verbunden sein. Das hat den Vorteil, dass selbst hoch belastete Leiterbahnstrukturen thermisch leitend über die Klebstoffschicht mit einem Kühlkörper des elektronischen Bauteils verbunden werden können, ohne dass Kurzschlüsse zwischen den hoch belasteten Leiterbahnen durch den metallischen Kühlkörper verursacht werden.
- Mit Hilfe der punktuell auftretenden, thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Pfade wird die Intensität der Kühlung durch den Kühlkörper eines derartigen elektronischen Bauteils ausgerichtet und verbessert.
- Das elektronische Bauteil weist als thermisch leitende und elektrisch isolierende Nanopartikel Partikel des Siliciumdioxids, des Aluminiumnitrids, des Bornitrids, des Polytetrafluorethylens oder Mischungen derselben auf. Diese Nanopartikel haben den Vorteil, dass sie sich gegenüber der umgebenden Klebstoffgrundmasse zu thermisch leitenden Agglomeraten aufgrund ihres hohen Anteils an Oberfläche im Verhältnis zum Partikelvolumen zusammenschließen. Diese Agglomerate bestehen zumindest in dem Fall des Siliciumdioxids, des Aluminiumnitrids und des Bornitrids aus thermisch leitenden Keramikpartikeln, die als Elementarzelle nur jeweils zwei Atomsorten aufweisen und somit eine hohe thermische Koppelfähigkeit aufweisen. Die Verbesserung der thermischen Leitfähigkeit der Klebstoffgrundmasse durch Polytetrafluorethylen liegt im wesentlichen an der Kristallinität des aus Polymerisaten bestehenden Tetrafluorethylens.
- Die Klebstoffschicht einschließlich ihrer elektrisch isolierenden und thermisch leitenden Nanopartikel weist eine Dicke unter einem Mikrometer auf. Derart dünne Klebstoffschichten sind mit Mikropartikeln, die einen mittleren Durchmesser im Mikrometerbereich aufweisen, nicht erreichbar. Darüber hinaus ist das Vermögen, Agglomerate zu bilden, zwischen Mikrometerpartikeln aufgrund des vergrößerten Volumens gegenüber der Oberfläche im Vergleich zu Nanopartikeln äußerst gering.
- Bei derart dünnen Klebstoffschichten ist der puffernde Ausgleich zwischen den Komponenten, die aus Materialien mit unterschiedlichen thermischen Ausdehnungskoeffizienten bestehen, beschränkt, so dass maximal bis zu einem Faktor drei sich die thermischen Ausdehnungskoeffizienten der Komponenten unterscheiden können. Je geringer der Unterschied im thermischen Ausdehnungskoeffizienten zwischen den Komponenten ist, umso dünner kann eine Klebstoffschicht aus Agglomeraten von thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Nanopartikeln gewählt werden.
- Der Gewichtsanteil der elektrisch isolierenden und thermisch leitenden Nanopartikel kann in der Klebstoffschicht zwischen 30 und 90 Gew.-% liegen. Bezogen auf die obenerwähnten thermisch leitenden, jedoch elektrisch isolierenden Materialien, die ein spezifisches Gewicht zwischen 2 und 3, 3 aufweisen, ergibt sich ein Volumenanteil an thermisch leitenden Nanopartikeln zwischen 4 und 70 Vol.%. Somit verbleiben bei einem Nanopartikelanteil zwischen 30 und 95 Gew.-% ein nicht leitend, thermisch isolierendes Volumen in der Klebstoffschicht aus Klebstoffgrundmasse von 30 bis 95 Vol.%, welche die einzelnen thermisch leitenden Pfade aus Agglomeraten von thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Nanopartikeln umgeben. Bei Klebstoffschichten unter einem Mikrometer Dicke ergibt sich somit eine Klebstoffschicht mit anisotroper thermischer Leitfähigkeit.
- Die thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Nanopartikel weisen einen mittleren Durchmesser zwischen 10 und 200 Nanometern auf. Für niedrigviskose Klebstoffgrundmassen, die der Viskosität des Wassers gleichen, können Nanopartikeldurchmesser zwischen 10 und 50 Nanometern eingesetzt werden, während für dickere Klebstoffschichten bei gleichzeitig höherer Viskosität Nanopartikel mit einem mittleren Durchmesser zwischen 50 und 200 Nanometern erfolgreich einsetzbar sind.
- Um einen sicheren, thermisch leitenden Kontakt der Agglomerate aus thermisch leitenden, elektrisch isolierenden Nanopartikeln in einem Klebstoff oder in einer Klebstoffschicht herzustellen, ist der mittlere Durchmesser der Agglomerate größer als die Dicke der Klebstoffschicht. Damit wird gleichzeitig sichergestellt, dass jedes der sich ausbildenden Agglomerate zur thermischen Leitfähigkeit zwischen gegenüberliegenden Flächen beiträgt. Gleichzeitig haben diese Agglomerate die Eigenschaft, dass sie leicht verformbar sind und sich dem Abstand zwischen den beiden gegenüberliegenden, thermisch zu verbindenden Flächen anpassen.
- Neben den thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Nanopartikeln weist eine Klebstoffgrundmasse Klebstoffkatalysatormaterialien und Haftvermittler auf, wenn als Klebstoffgrundmasse ein Polyamid eingesetzt ist. Polyamide zeigen von Natur aus keine Hafteigenschaften, so dass erst durch den Haftvermittler ein Klebstoff entstehen kann. Die zusätzlich zu den thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Nanopartikeln enthaltenen Katalysatormaterialien dienen dazu, die Vernetzung der Klebstoffschicht zu einem Polyamid zu beschleunigen und die Vernetzungstemperatur zu vermindern.
- Die einander gegenüberliegenden Flächen können auf Halbleiterchips angeordnet sein, wenn das elektronische Bauteil einen Stapel aus Halbleiterchips aufweist. Es kann aber auch mindestens eine der einander gegenüberliegenden Flächen zu einem Halbleiterchip gehören, während die andere der Flächen zu einem Keramiksubstrat oder einer glasfaserverstärkte Leiterplatte gehört. Dabei sind mit sehr dünnen Klebstoffschichten von weniger als einem Mikrometer Dicke Keramiksubstrate mit dem Halbleiterchip verbindbar, zumal der Unterschied im Ausdehnungskoeffizienten den Faktor drei nicht überschreitet. Bei Leiterplattenmaterialien wird es jedoch problematisch, da einige Leiterplattenmaterialien den Faktor drei im Ausdehnungskoeffizienten weit überschreiten. In diesem Fall droht eine Delamination des Halbleiterchips von der Leiterplatte.
- Ein Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils mit einer thermisch leitenden Klebstoffschicht zwischen einander gegenüberliegenden Flächen von Komponenten des Bauteils weist folgende Verfahrensschritte auf. Zunächst wird eine Ausgangslösung durch Lösen eines Polyamidessigsäureesters in N-methyl-Pyrrolidon hergestellt. Diese Ausgangslösung wird mit einem Katalysatormaterial und mit einem Haftvermittler zu einer Klebstofflösung versetzt. Dieser Klebstofflösung werden dann thermisch leitende und elektrisch isolierende Nanopartikel zugemischt. Bei diesem Zumischen entstehen aufgrund des hohen Oberfläche-zu-Volumen-Verhältnisses der Nanopartikel Agglomerate aus elektrisch isolierenden und thermisch leitenden Nanopartikeln. Anschließend kann der Klebstoff auf mindestens eine der Oberseiten der zu verklebenden Komponenten des elektronischen Bauteils aufgetragen werden. Nach einem Zusammenfügen der Komponenten wird dann unter Erwärmung der Komponenten ein Vernetzen des Klebstoffs erfolgen.
- Dieses Verfahren hat den Vorteil, dass elektronische Bauteile entstehen, die thermisch untereinander verbundene, jedoch elektrisch voneinander isolierte Komponenten aufweisen. Dabei erfolgt die thermische Verbindung über thermisch leitende Pfade in den die Komponenten verbindenden Klebstoffschichten. Eine derartige Anisotropie in der thermischen Leitfähigkeit hat den Vorteil, dass die Wärme gezielt in eine Richtung von einem wärmeerzeugenden Element in dem elektronischen Bauteil zur Außenseite des elektronischen Bauteils und beispielsweise zu einer Kühlplatte abgeführt werden kann, ohne dass ein elektrischer Kurzschluß entsteht.
- Ein Vernetzen des Klebstoffs erfolgt bei Temperaturen über 100°C, diese niedrige Temperatur hat den Vorteil, dass die einzelnen Bauteilkomponenten nicht durch die Temperatureinwirkung beschädigt werden.
- Sollen bestimmte Komponenten elektrisch isoliert, aber thermisch miteinander verbunden werden, so werden die Flächen der Komponenten vor dem Zusammenfügen der Flächen diese aufeinander ausgerichtet. Erst nach einer präzisen Ausrichtung der aufeinander und miteinander thermisch zu verbindenden Flächen kann ein Vernetzen des Klebstoffs bei der entsprechenden Vernetzungstemperatur erfolgen.
- Die elektrisch isolierenden und thermisch leitenden Nanopartikel sind bereits vor dem Vernetzen des Klebstoffs agglomeriert, so dass beim Aufeinanderführen der zu verklebenden und thermisch zu verbindenden Flächen sich diese Agglomerate verformen können und damit thermisch leitende Pfade zwischen den zu verbindenden Stellen herstellen können. Diese Agglomerate ordnen sich vor dem Vernetzen voneinander isoliert und statistisch verteilt in der Kunststoffschicht zwischen den thermisch zu koppelnden Flächen der Komponenten an, wobei die thermisch leitenden Nanopartikel im wesentlichen Siliciumdioxid, Aluminiumnitrid, Bornitrid, Polytetrafluorethylen oder Mischungen derselben aufweisen. Dieses hat den Vorteil, dass die Agglomerate sich noch verformen können und sich dem Abstand zwischen den gegenüberliegenden Fläche einpassen können. Dabei bleiben die Agglomerate aus thermisch leitenden und elektrisch isolierenden Nanopartikeln voneinander isoliert und verbinden somit ohne thermische Brücken zu benachbarten Flächen zu bilden, mehrerere gegenüberliegend angeordnete metallische Flächen.
- Zusammenfassend ergeben sich mit dem zweiten Aspekt der Erfindung sehr geringe thermische Widerstände, da die Klebeverbindungen mit sehr geringen Schichtdicken und nur mit geringem thermischen Widerstand ausführbar ist. Auch hier gilt die Voraussetzung, dass die zu verklebenden Komponenten als Substrate oder als Halbleiterchips sich in ihren thermischen Ausdehnungskoeffizienten nicht allzusehr voneinander unterscheiden dürfen. Das Klebstoffmaterial bei einer derart dünnen Klebstoffschicht hat für unterschiedliche thermomechanische Ausdehnungen nur eine verminderte Pufferwirkung. Auch hier kann der erfindungsgemäße Klebstoff und eine erfindungsgemäße Klebstoffschicht besonders vorteilhaft bei Chip-auf- Chip-Anwendungen eingesetzt werden, wenn eine elektrisch isolierende Verbindung zwischen den beiden Chips gewünscht wird und es lassen sich auch Chips auf Halbleiterchipinseln eines Keramiksubstrats befestigen, da hier die Unterschiede zwischen den thermischen Ausdehnungskoeffizienten durch die Dicke der Klebstoffschicht gepuffert werden kann. Schwieriger wird das Verkleben von Materialien mit stark unterschiedlichem thermischen Ausdehnungskoeffizienten, wie beispielsweise das Verkleben eines Siliciumhalbleiterchips, der 3 ppm/K aufweist mit einer Leiterplatte, die einen thermischen Ausdehnungskoeffizienten zwischen 15 bis 30 ppm/K aufweist. Generell wird durch die verminderte Schichtdicke gegenüber Klebstoffschichten mit Mikrometerpartikeln als Füllstoff eine Senkung der Materialkosten durch die verminderte Klebemenge erreicht.
- Die Erfindung wird nun anhand von Ausführungsformen mit Bezug auf die beiliegenden Figuren näher erläutert.
- Fig. 1 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil einer ersten Ausführungsform der Erfindung,
- Fig. 2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil einer zweiten Ausführungsform der Erfindung,
- Fig. 3 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil einer dritten Ausführungsform der Erfindung, das einen Stapel von zwei Halbleiterchips aufweist,
- Fig. 4 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil einer vierten Ausführungsform der Erfindung, das einen Stapel von mehreren Halbleiterchips aufweist.
- Fig. 1 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil 1 einer ersten Ausführungsform der Erfindung.
- Das Bezugszeichen 2 kennzeichnet eine Klebstoffschicht, die metallische Flächen 3 von zwei Komponenten 4 des elektronischen Bauteils 1 miteinander verbindet. Das Bezugszeichen 5 kennzeichnet einen Klebstoff der Klebstoffschicht 2 und das Bezugszeichen 6 kennzeichnet Agglomerate, die Nanopartikel 7 aufweisen. Die Agglomerate 6 sind in dem Klebstoff 5 der Klebstoffschicht 2 von einer Klebstoffgrundmasse umgeben. Durch die Klebstoffschicht 2 erstrecken sich innerhalb der Agglomerate 6 Pfade, deren elektrische und thermische Eigenschaften sich von den elektrischen und thermischen Eigenschaften der umgebenden Klebstoffgrundmasse 8 unterscheiden. Das Bezugszeichen 10 kennzeichnet eine der Komponenten 4 des elektronischen Bauteils 1 in Form eines Halbleiterchips. Das Bezugszeichen 11 kennzeichnet ein Keramiksubstrat als zweite Komponente 4, von dem eine metallische Fläche 3 gegenüberliegend zur metallischen Fläche 3 des Halbleiterchips 10 angeordnet ist.
- Die Keramikplatte 11 weist auf der dem Halbleiterchip zugewandten Oberseite 13 eine Umverdrahtungsebene 14 auf, deren Umverdrahtungsleitungen 15 über Bonddrähte 16 mit Kontaktflächen 17 auf der aktiven Oberseite 18 des Halbleiterchips 10 verbunden sind. Die Rückseite 19 des Halbleiterchips 10 ist metallisiert und weist die metallische Fläche 3 auf. Gegenüberliegend dieser Metallfläche 3 ist auf dem Keramiksubstrat 11 eine Halbleiterchipinsel 20 angeordnet, die über einen Durchkontakt 21 mit einer Umverdrahtungsebene 24 auf der Unterseite 28 des Keramiksubstrats 11 verbunden ist. Die Umverdrahtungsebene 24 auf der Unterseite 28 des Keramiksubstrats 11 weist neben Umverdrahtungsleitungen 15 Außenkontaktflächen 30 auf, auf denen Außenkontakte 31 angeordnet sind.
- In dieser ersten Ausführungsform der Erfindung sind die Außenkontakte 31 Lotbälle, die aus der Unterseite 28 des Keramiksubstrats herausragen und voneinander durch eine Lötstoppschicht 32 getrennt sind. Zur elektrischen Verbindung der Rückseite des Halbleiterchips 10 mit einem der Außenkontakte 31 ist die Klebstoffschicht 2 mit elektrisch leitenden Nanopartikeln 7 gefüllt. Für den ersten Aspekt der Erfindung bestehen die Nanopartikel aus elektrisch leitendem Material, wie Gold, Silber, Kupfer, Nickel oder Mischungen derselben. Diese elektrisch leitenden Nanopartikel, die bis zu 70 Vol.% der Klebstoffschicht einnehmen, agglomerieren im nicht vernetzten Zustand der sie umgebenden Klebstoffgrundmasse 8 zu Agglomeraten 6, die im nicht vernetzten Zustand des Klebstoffs 5 der Klebstoffschicht 2 verformbar sind. Gleichzeitig bilden diese Agglomerate 6 aus elektrisch leitenden Nanopartikeln 7 bei einem ersten Aspekt der Erfindung elektrisch leitende Pfade 9, so dass die Klebstoffschicht eine Anisotropie in ihrer Wirkung als elektrische Verbindung zwischen den einander gegenüberliegenden metallischen Flächen 3 aufweist. Während die Klebstoffschicht 2 in horizontaler Richtung isolierend wirkt, verbindet sie über die Schichtdicke d der Klebstoffschicht 2 die Rückseite des Halbleiterchips 10 mit der metallischen Chipinsel 20 des Keramiksubstrats 11.
- Bei einem anderen Aspekt der Erfindung soll gerade diese elektrische Verbindung unterbrochen werden und lediglich eine thermische Verbindung zu der Chipinsel 20 Wärme über die Chipinsel 20, zu dem Durchkontakt 21 und zu dem Außenkontakt 31 abführen. Bei diesem zweiten Aspekt bilden die Nanopartikel 27 ebenfalls Agglomerate 26 aus, jedoch sind die Nanopartikel 27 aus elektrisch isolierendem, aber thermisch leitendem Material aufgebaut, wie Siliciumdioxid, Bornitrid und Polytetrafluorethylen oder Mischungen derselben.
- Die Klebstoffschichtdicke d ist aufgrund der Nanopartikel 7 bzw. 27 auf unter einem Mikrometer minimierbar. Der mittlere Durchmesser der Nanopartikel 7 bzw. 27 liegt zwischen 10 und 200 Nanometer, während der mittlere Durchmesser eines Agglomerates 6 bzw. 26 aus Nanopartikeln 7 bzw. 27 größer ist als die Schichtdicke d. Damit werden eine Vielzahl von in der Klebstoffschicht 2 statistisch verteilten Verbindungspunkten zwischen den gegenüberliegenden Flächen 3 bzw. 23 hergestellt. Bei der Herstellung der Vielzahl von Kontaktpunkten wird die Verformbarkeit der Agglomerate 6 bzw. 26 genutzt, solange die Klebstoffgrundmasse nicht vernetzt ist. Um die Klebstoffgrundmasse zu vernetzen, werden die Komponenten 10 und 11 auf eine Vernetzungstemperatur über 100°C erwärmt.
- Bei der Herstellung eines derartigen elektronischen Bauteils 1 wird zunächst ein Keramiksubstrat 11 mit den Umverdrahtungsebenen 15 auf der Oberseite 13 und der Unterseite 28 und mit Durchkontakten 21 hergestellt. Auf der Umverdrahtungsebene 15 wird im Bereich des anzubringenden Halbleiterchips 10 eine Halbleiterchipinsel 20 vorgesehen und auf dieser wird ein mit Nanopartikeln gefüllter Klebstoff 5 aufgetragen. Der Klebstoff 5 selbst wird aus einer Ausgangslösung hergestellt, bei der ein Polyamidessigsäureester in N-methyl- Pyrrolidon gelöst wird. Anschließend wird diese Ausgangslösung mit Katalysatormaterialien und Haftvermittlern zu einer Klebstofflösung versetzt. Schließlich werden dieser Klebstofflösung entweder elektrisch leitende oder elektrisch isolierende Nanopartikel 7 bzw. 27 zugemischt. Diese Nanopartikel 7 bzw. 27 agglomerieren zu größeren Agglomeraten 6 bzw. 26, die in ihrem mittleren Durchmesser größer sind als die herzustellende Klebstoffschicht 2.
- Anschließend wird dieser Klebstoff 5 auf die Halbleiterchipinsel 20 aufgetragen, der Halbleiterchip 10 aufgesetzt und das Keramiksubstrat 11 mit dem Halbleiterchip 10 einer Vernetzungstemperatur über 100°C ausgesetzt. Nach dem Vernetzen des Klebstoffs 5 kann der Bonddraht 16 auf die Kontaktflächen 17 auf der aktiven Oberseite 18 des Halbleiterchips 10 gebonded werden und mit den Umverdrahtungsleitungen 14 auf der Oberseite 13 des Keramiksubstrats 11 verbunden werden. Anschließend wird eine Kunststoffgehäusemasse 33 auf der Oberseite 13 des Keramiksubstrats 11 aufgebracht, die gleichzeitig den Halbleiterchip 10, die Klebstoffschicht 2 und die Bonddrähte 16 einhüllt. Abschließend werden auf der Unterseite 28 des Keramiksubstrats 11 Außenkontakte 31 auf den dafür vorgesehenen Außenkontaktflächen 30 aufgebracht.
- Die Lötstoppschicht 32 kann entweder unmittelbar bei der Herstellung des Keramiksubstrats 11 aufgebracht werden oder sie wird vor dem Anbringen der Außenkontakte 31 auf die Unterseite 28 des Keramiksubstrats 11 unter Freilassung der Außenkontaktflächen 30 aufgebracht. Der Vorteil der Ausführungsform nach Fig. 1 ist, dass wahlweise der Halbleiterchip 10 entweder thermisch und elektrisch isolierend mit dem Außenkontakt 31 oder elektrisch leitend mit dem Außenkontakt verbunden sein kann. Dazu muß lediglich das Material der Nanopartikel 7 bzw. 27 in der Klebstoffschicht 2 geeignet gewählt werden.
- Fig. 2 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil 1 einer zweiten Ausführungsform der Erfindung. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in Fig. 1 werden mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert.
- In dieser Ausführungsform der Erfindung werden die Komponenten 4 des elektronischen Bauteils 1 aus einem Halbleiterchip 10 und einer metallischen Chipinsel 20 gebildet. Die metallische Chipinsel 20 bildet gleichzeitig eine Außenseite des Gehäuses 34 des Halbleiterchips. Die Halbleiterchipinsel 20 kann entweder als Massekontakt dienen, dann wird die Klebstoffschicht 2 Agglomerate 6 aufweisen, die aus elektrisch leitenden Nanopartikeln 7 bestehen. Soll jedoch die Rückseite 19 des Halbleiterchips 10 lediglich thermisch über die Halbleiterchipinsel 20 mit einem Kühlkörper verbunden werden und gleichzeitig von diesem Kühlkörper elektrisch isoliert sein, so werden für die Klebstoffschicht 2 thermisch leitende, aber elektrisch isolierende Nanopartikel 27, beispielsweise aus Siliciumdixoid, Bornitrid, Aluminiumnitrid, Polytetrafluorethylen oder Mischungen derselben eingesetzt. Die Agglomeration der Nanopartikel 27 sorgt dafür, dass die thermische Leitfähigkeit der Klebstoffschicht 2 anisotrop ist und in Richtung auf die Chipinsel 20 und damit auf den Kühlkörper ausgerichtet ist.
- Zur Herstellung eines derartigen elektronischen Bauteils 1 wird zunächst auf einem nicht gezeigten Metallträger die Chipinsel 20 und die für die Außenkontakte 31 vorgesehenen Metallisierungssockel galvanisch abgeschieden. Anschließend wird die Oberfläche der für die Außenkontakte 31 bestimmte Sockel mit einer bondbaren Beschichtung 35 versehen. Eine derartige bondbare Beschichtung 35 weist ihrerseits mehrere Lagen auf, nämlich eine Lage aus kupferdiffusionshemmender Nickelschicht unmittelbar auf dem Sockel für den Außenkontakt 30 aus Kupfer und anschließend eine Edelmetallschicht auf der Nickelschicht für ein sicheres Bonden auf. Eine derartige Strukturierung hat den Vorteil, dass eine Diffusion von Kupferionen in die Verbindung mit dem Bonddraht 16 verhindert wird und somit eine vorzeitige Versprödung der Bondverbindung unterbleibt. Anschließend kann auf die Chipinsel 20 der Klebstoff 5 in einer Dicke aufgetragen werden, die geringer ist als der mittlere Durchmesser der Agglomerate aus Nanopartikeln.
- Nach dem Aufbringen des Halbleiterchips 10 auf die Klebstoffschicht 22 und einem Vernetzen der Klebstoffgrundmasse bei einer Vernetzungstemperatur über 100°C werden die Bonddrähte 16 auf die Kontaktflächen 17 auf der aktiven Oberseite 18 des Halbleiterchips 10 aufgebracht und mit der bondbaren Beschichtung 35 verbunden. Schließlich wird der gesamte nicht gezeigte Metallträger mit einer Kunststoffgehäusemasse 33 bedeckt, die sowohl die Klebstoffschicht 2 als auch den Halbleiterchip 10 und die Bonddrähte 16 einbettet. Danach kann der nicht gezeigte Metallträger abgeätzt werden, so dass das hier im Querschnitt dargestellte Ausführungsbeispiel vorliegt. Der Klebstoff 5 wird in gleicher Weise wie im ersten Ausführungsbeispiel hergestellt, so dass eine Auflistung der Herstellungsschritte entfallen kann.
- Fig. 3 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil 1 einer dritten Ausführungsform der Erfindung, das einen Stapel 12 von zwei Halbleiterchips 10 aufweist. Komponenten mit gleichen Funktionen wie in den vorhergehenden Figuren werden mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert.
- Die beiden Halbleiterchips 10 weisen auf ihrer aktiven Oberseite 18 Kontaktflächen 17 auf und tragen auf dieser Oberseite eine isolierende Umverdrahtungsschicht 36. Auf der isolierenden Umverdrahtungsschicht 36 sind Umverdrahtungsleitungen 15 angeordnet. Diese Umverdrahtungsleitungen verbinden die Kontaktflächen 17 mit metallischen Flächen 3 auf der isolierenden Umverdrahtungsschicht 36. Die metallischen Flächen 3 auf den beiden Halbleiterchips 10 sind derart ausgerichtet und angeordnet, dass sie einander gegenüberliegen. Die Bondkanäle 37 der beiden Halbleiterchips 10, welche die Kontaktflächen 17 aufweisen, sind zueinander versetzt angeordnet und von einer Kunststoffgehäusemasse 33 bedeckt. In dem übrigen Bereich zwischen den beiden Halbleiterchips 10 ist eine Klebstoffschicht 2 angeordnet aus einem Klebstoff 5, der eine anisotrope elektrische Leitfähigkeit aufweist. Diese anisotrope elektrische Leitfähigkeit wird dadurch erreicht, dass in einer Klebstoffgrundmasse 8 Agglomerate 6 von elektrisch leitenden Nanopartikeln 7 angeordnet sind.
- Die elektrisch leitenden Agglomerate 6 sind untereinander durch die Klebstoffgrundmasse 8 isoliert, so dass die einzelnen einander gegenüberliegenden Außenkontaktflächen 30 elektrisch über Pfade 9 durch die Agglomerate 6 verbunden sind. Es besteht jedoch keine elektrische Verbindung zwischen nebeneinander liegenden Außenkontakten 30. Der Klebstoff 5 kann folglich großflächig und schichtweise aufgetragen werden ohne selektiv auf die gegenüberliegenden metallischen Flächen 3 konzentriert zu werden. Die Selektivität erfolgt vielmehr automatisch durch die Anisotropie der elektrisch leitenden Klebstoffschicht. Trotz eines gleichmäßigen Auftrags des Klebstoffs 5 sind die beiden Halbleiterchips mit ihren einander entsprechenden Außenkontaktflächen 30 und damit mit ihren Kontaktflächen 17 über die Umverdrahtungsleitungen 15 verbunden. Zwischen den Außenkontaktflächen 30 kann wie in der ersten Ausführungsform jeweils eine Lötstopplackschicht 32dafür sorgen, dass die Umverdrahtungsleitungen 14 isoliert bleiben und nur entsprechende Außenkontaktflächen 30 über die elektrisch leitenden Agglomerate miteinander verbunden sind.
- Fig. 4 zeigt einen schematischen Querschnitt durch ein elektronisches Bauteil 1 einer vierten Ausführungsform der Erfindung, das einen Stapel 12 von mehreren Halbleiterchips 10 aufweist. Komponenten mit gleichen Bezugszeichen wie in den vorhergehenden Figuren werden mit gleichen Bezugszeichen gekennzeichnet und nicht extra erörtert.
- In dieser Ausführungsform der Erfindung werden sechs gleichartige Komponenten 4 eines elektronischen Bauteils 1 in Form von Halbleiterchipdioden aufeinander gestapelt. Dazu sind sowohl die n-leitende Kathode 38 als auch die p-leitende Anode 39 an ihren jeweiligen Außenseiten metallisiert und für eine derartige Kaskadenschaltung von Dioden werden nun über eine elektrisch leitende Klebstoffschicht 2 die jeweilige Anode 39 mit der darüber angeordneten Kathode 38 der nächsten Diode elektrisch verbunden. Dazu weist die Klebstoffschicht Agglomerate 6 aus elektrisch leitenden Nanopartikeln 7 auf. Dadurch entsteht eine anisotrope Verbindung zwischen den einzelnen Dioden durch die Klebstoffschicht 2, deren Dicke d kleiner als ein Mikrometer ist.
- Auf der Unterseite der untersten Diode wird als gemeinsame Kathode 38 der Diodenkaskade dieses elektronischen Bauteils 1 ein Flachleiter angeordnet und von der Diodenkaskade hervorspringend zu einem Stift modelliert. Auf der Oberseite 41 der Diodenkaskade wird entsprechend eine gemeinsame Anode 39 angebracht und ebenso zu einem Stift hervorspringend strukturiert. Bezugszeichenliste 1 elektronisches Bauteil
2 Klebstoffschicht (elektrisch leitend)
3 metallische Flächen
4 Komponenten
5 Klebstoff
6 Agglomerate (elektrisch leitend)
7 Nanopartikel (elektrisch leitend)
8 Klebstoffgrundmasse
9 Pfade (elektrisch leitend)
10 Halbleiterchips
11 Keramiksubstrat
12 Stapel
13 Oberseite des Keramiksubstrats
14 Umverdrahtungsebene auf der Oberseite des Keramiksubstrats
15 Umverdrahtungsleitungen
16 Bonddrähte
17 Kontaktflächen
18 aktive Oberseite des Halbleiterchips
19 Rückseite
20 Halbleiterchipinsel
21 Durchkontakte
22 Klebstoffschicht (thermisch leitend und elektrisch isolierend)
23 Flächen
24 Umverdrahtungsebene auf der Unterseite des Keramiksubstrats
25 Klebstoff (thermisch leitend und elektrisch isolierend)
26 Agglomerate (thermisch leitend und elektrisch isolierend)
27 Nanopartikel (thermisch leitend und elektrisch isolierend)
28 Unterseite des Keramiksubstrats
29 Pfade (elektrisch leitend und thermisch isolierend)
30 Außenkontaktflächen
31 Außenkontakte
32 Lötstoppschicht
33 Kunststoffgehäusemasse
34 Gehäuse
35 bondbare Beschichtung
36 isolierende Umverdrahtungsschicht
37 Bondkanal
38 Kathode
39 Anode
40 Unterseite der untersten Diode
41 Oberseite der obersten Diode
d Klebstoffschichtdicke
Claims (38)
1. Elektronisches Bauteil mit einer elektrisch leitenden
Klebstoffschicht (2) zwischen metallischen Flächen (3)
von Komponenten (4) des Bauteils (1), wobei die
metallischen Flächen (3) einander gegenüberliegend angeordnet
sind und wobei der Klebstoff (5) Agglomerate (6) von
elektrisch leitenden Nanopartikeln (7) aufweist, die von
einer Klebstoffgrundmasse (8) umgebene elektrisch
leitende Pfade (9) in der Klebstoffgrundmasse (8) aufweisen
und wobei punktuell die einander gegenüberliegenden
Flächen (3) elektrisch über eine Vielzahl statistisch in
der Klebstoffschicht (2) verteilter Agglomerate (6)
elektrisch leitender Nanopartikel (7) verbunden sind.
2. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (2) kurzschlußfrei mehrere
nebeneinander angeordnete metallische Flächen (3) von
mikroskopisch kleinen Abmessungen mit gegenüberliegend
angeordneten metallischen Flächen (3) elektrisch verbindet.
3. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 1 oder Anspruch 2,
dadurch gekennzeichnet, dass
die elektrisch leitenden Nanopartikel (7) Gold, Silber,
Kupfer, Nickel oder Legierungen derselben aufweisen.
4. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (2) eine Dicke (d) unter einem
Mikrometer aufweist.
5. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Komponenten (4) thermische Ausdehnungskoeffizienten
aufweisen, die sich maximal bis zu einem Faktor drei
unterscheiden.
6. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (3) einen Nanopartikelanteil
zwischen 30 und 95 Gew.-% aufweist.
7. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Nanopartikel (7) einen mittleren Durchmesser
zwischen 10 und 200 Nanometer aufweisen.
8. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
der mittlere Durchmesser der Agglomerate (6) elektrisch
leitender Nanopartikel (7) in dem Klebstoff (5) größer
als die Dicke (d) der Klebstoffschicht (2) ist.
9. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Klebstoff (5) als Ausgangsstoff einen mit
Nanopartikeln angereicherten in N-methyl-Pyrrolidon gelösten
Polyamidessigsäureester aufweist.
10. Elektronische Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Klebstoff (5) Katalysatormaterialien und
Haftvermittler in einer Klebstoffgrundmasse (8) aus Polyamid
zusätzlich zu den Nanopartikeln (7) aufweist.
11. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens eine der metallischen Flächen (3) auf einem
Halbleiterchip (10) angeordnet ist.
12. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens eine der metallischen Flächen (3) auf einem
Keramiksubstrat (11) angeordnet ist.
13. Elektronisches Bauteil nach einem der vorhergehenden
Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (2) zwischen Halbleiterchips (10)
eines elektronischen Bauteils (1) angeordnet ist, das
einen Stapel (12) aus Halbleiterchips (10) aufweist.
14. Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils
mit einer elektrisch leitenden Klebstoffschicht (2)
zwischen einander gegenüberliegenden metallischen Flächen
(3) von Komponenten (4) des Bauteils (1), wobei das
Verfahren folgende Verfahrensschritte aufweist:
- Lösen eines Polyamidessigsäureesters in N-methyl-
Pyrrolidin zu einer Ausgangslösung,
- Versetzen der Ausgangslösung mit
Katalysatormaterialien und Haftvermittlern zu einer
Klebstofflösung,
- Mischen der Klebstofflösung mit elektrisch
leitenden Nanopartikeln (7) zu einem elektrisch leitenden
Klebstoff (5),
- Auftragen des Klebstoffes (5) auf mindestens eine
der Oberseiten der zu verklebenden Komponenten (4)
des elektronischen Bauteils (1),
- Zusammenfügen der Komponenten (4),
- Vernetzen des Klebstoffes (5) unter Erwärmung der
Komponenten (4).
15. Verfahren nach Anspruch 14,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Komponenten (4) des Bauteils (1) zum Vernetzen des
Klebstoffes (5) auf eine Temperatur zwischen 100 und 220°C
erwärmt werden.
16. Verfahren nach Anspruch 14 oder Anspruch 15,
dadurch gekennzeichnet, dass
vor dem Zusammenfügen der Komponenten (4) die elektrisch
zu verbindenden metallischen Flächen (3) der Komponenten
(4) zueinander ausgerichtet werden.
17. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 16,
dadurch gekennzeichnet, dass
vor dem Vernetzen des Klebstoffes (5) die Nanopartikel
(7) agglomerieren.
18. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 17,
dadurch gekennzeichnet, dass
sich Agglomerate (6) aus Nanopartikeln (7) von Gold,
Silber, Kupfer oder Legierungen derselben voneinander
isoliert und statistisch in der Klebstoffschicht (2)
verteilt zwischen den elektrisch zu verbindenden Flächen
(3) der Komponenten (4) vor dem Vernetzen anordnen.
19. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 18,
dadurch gekennzeichnet, dass
kurzschlußfrei mehrere nebeneinander angeordnete
metallische Flächen (3) von mikroskopisch kleinen Abmessungen
mit gegenüberliegend angeordneten metallischen Flächen
(3) der Komponenten (4) elektrisch verbunden werden.
20. Verfahren nach einem der Ansprüche 14 bis 19,
dadurch gekennzeichnet, dass
mehrere Halbleiterchips (10) zu einem Stapel (12)
elektrisch leitend verklebt werden.
21. Elektronisches Bauteil mit einer thermisch leitenden und
elektrisch isolierenden Klebstoffschicht (22) zwischen
Flächen (23) von Komponenten (4) des Bauteils (1), wobei
die Flächen (23) einander gegenüberliegend angeordnet
sind und wobei der Klebstoff (25) Agglomerate (26) von
thermisch leitenden, elektrisch isolierenden
Nanopartikeln (27) aufweist, die von einer Klebstoffgrundmasse
(8) umgebene thermisch leitende Pfade (29) in der
Klebstoffgrundmasse (8) aufweisen und wobei punktuell die
einander gegenüberliegenden Flächen (23) thermisch über
eine Vielzahl statistisch in der Klebstoffschicht (22)
verteilter Agglomerate (26) aus thermisch leitenden,
elektrisch isolierenden Nanopartikeln (27) verbunden
sind.
22. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 21,
dadurch gekennzeichnet, dass
kurzschlußfrei mehrere nebeneinander angeordnete
metallische Flächen (22) von mikroskopisch kleinen
Abmessungen mit gegenüberliegend angeordneten metallischen
Flächen (22) der Komponenten (4) thermisch verbunden sind.
23. Elektronisches Bauteil nach Anspruch 21 oder Anspruch
22,
dadurch gekennzeichnet, dass
die thermisch leitenden, elektrisch isolierenden
Nanopartikel (27) Siliciumdioxid, Aluminiumnitrid, Bornitrid
Polytetrafluorethylen oder Mischungen derselben
aufweisen.
24. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
23,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (22) eine Dicke unter einem
Mikrometer aufweist.
25. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
24,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Komponenten (4) thermische Ausdehnungskoeffizienten
aufweisen, die sich maximal bis zu einem Faktor drei
unterscheiden.
26. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
25,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (23) einen Nanopartikelanteil
zwischen 30 und 90 Gew.-% aufweist.
27. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
26,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Nanopartikel (27) einen mittleren Durchmesser
zwischen 10 und 200 Nanometer aufweist.
28. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 20 bis
26,
dadurch gekennzeichnet, dass
der mittlere Durchmesser der Agglomerate (26) thermisch
leitender Nanopartikel (27) in dem Klebstoff (25) größer
als die Dicke der Klebstoffschicht (23) ist.
29. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
28,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Klebstoff (25) als Ausgangsstoff für die
Klebstoffgrundmasse (8) einen mit thermisch leitenden, elektrisch
isolierenden Nanopartikeln (27) angereicherten in N-
methyl-Pyrrolidon gelösten Polyamidessigsäureester
aufweist.
30. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
29,
dadurch gekennzeichnet, dass
der Klebstoff (25) Katalysatormaterialien und
Haftvermittler in einer Klebstoffgrundmasse (8) aus Polyamid
zusätzlich zu den Nanopartikeln (27) aufweist.
31. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
30,
dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens eine der einander gegenüberliegenden Flächen
(23) auf einem Halbleiterchip (10) angeordnet ist.
32. Elektronisches Bauteil nach einem der Ansprüche 21 bis
31,
dadurch gekennzeichnet, dass
mindestens eine der einander gegenüberliegenden Flächen
(23) auf einem Keramiksubstrat (11) angeordnet ist.
33. Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauteils
(1) mit einer thermisch leitenden Klebstoffschicht (22)
zwischen einander gegenüberliegenden Flächen (23) von
Komponenten des Bauteils (1), wobei das Verfahren
folgende Verfahrensschritte aufweist:
- Lösen eines Polyamidessigsäureesters in N-methyl-
Pyrrolidin zu einer Ausgangslösung,
- Versetzen der Ausgangslösung mit
Katalysatormaterialien und Haftvermittlern zu einer
Klebstofflösung,
- Mischen der Klebstofflösung mit Nanopartikeln (27)
zu einem thermisch leitenden, elektrisch
isolierenden Klebstoff (25),
- Auftragen des Klebstoffes (25) auf mindestens eine
der Oberseiten der zu verklebenden Komponenten (4)
des elektronischen Bauteils (1),
- Zusammenfügen der Komponenten (4),
- Vernetzen des Klebstoffes (25) unter Erwärmung der
Komponenten (4).
34. Verfahren nach Anspruch 33,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Komponenten (4) zum Vernetzen des Klebstoffes (25)
auf eine Temperatur zwischen 100 und 220°C erwärmt
werden.
35. Verfahren nach Anspruch 33 oder Anspruch 34,
dadurch gekennzeichnet, dass
vor dem Zusammenfügen der Komponenten (4) die thermisch
zu verbindenden Flächen (23) der Komponenten (4)
zueinander ausgerichtet werden.
36. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 35,
dadurch gekennzeichnet, dass
vor dem Vernetzen des Klebstoffes (25) die Nanopartikel
(27) agglomerieren.
37. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 36,
dadurch gekennzeichnet, dass
sich Agglomerate (26) aus Nanopartikeln von
Siliciumdioxid, Aluminiumnitrid, Bornitrid Polytetrafluorethylen
oder Mischungen derselben isoliert voneinander und
statistisch in der Klebstoffschicht (22) verteilt zwischen
den thermisch zu koppelnden Flächen (23) der Komponenten
(4) vor dem Vernetzen anordnen.
38. Verfahren nach einem der Ansprüche 33 bis 37,
dadurch gekennzeichnet, dass
die Klebstoffschicht (22) mehrere nebeneinander
angeordnete und gegenüberliegend angeordnete metallische
Flächen (23) kurzschlußfrei und thermisch leitend
mechanisch verbindet.
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10206818A DE10206818A1 (de) | 2002-02-18 | 2002-02-18 | Elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zur Herstellung derselben |
PCT/DE2003/000458 WO2003071596A2 (de) | 2002-02-18 | 2003-02-14 | Elektronisches bauteil mit klebstoffschicht und verfahren zur herstellung desselben |
EP03742489A EP1476902A2 (de) | 2002-02-18 | 2003-02-14 | Elektronisches bauteil mit klebstoffschicht und verfahren zur herstellung desselben |
US10/505,066 US7476981B2 (en) | 2002-02-18 | 2003-02-14 | Electronic module with layer of adhesive and process for producing it |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10206818A DE10206818A1 (de) | 2002-02-18 | 2002-02-18 | Elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zur Herstellung derselben |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE10206818A1 true DE10206818A1 (de) | 2003-08-28 |
Family
ID=27635129
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE10206818A Withdrawn DE10206818A1 (de) | 2002-02-18 | 2002-02-18 | Elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zur Herstellung derselben |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US7476981B2 (de) |
EP (1) | EP1476902A2 (de) |
DE (1) | DE10206818A1 (de) |
WO (1) | WO2003071596A2 (de) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10320090A1 (de) * | 2003-05-05 | 2004-08-26 | Infineon Technologies Ag | Elektrisches Bauteil mit Leitungen aus karbonisiertem Kunststoff, sowie Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung |
DE102005020453A1 (de) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Infineon Technologies Ag | Flachleiterstruktur für ein Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung derselben |
DE102008030843A1 (de) * | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronische Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Anordnung |
DE102012206362A1 (de) * | 2012-04-18 | 2013-10-24 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Schaltungsanordnung zur thermisch leitfähigen Chipmontage und Herstellungsverfahren |
WO2019173277A3 (en) * | 2018-03-07 | 2019-11-21 | Texas Instruments Incorporated | Nanoparticle backside die adhesion layer |
DE102019111962A1 (de) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
Families Citing this family (25)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4067507B2 (ja) * | 2003-03-31 | 2008-03-26 | 三洋電機株式会社 | 半導体モジュールおよびその製造方法 |
US7112472B2 (en) * | 2003-06-25 | 2006-09-26 | Intel Corporation | Methods of fabricating a composite carbon nanotube thermal interface device |
EP1818987B1 (de) * | 2006-02-10 | 2011-12-07 | ELMOS Semiconductor AG | Halbleiterbauelementanordnung |
JP2007295697A (ja) * | 2006-04-24 | 2007-11-08 | Toyota Motor Corp | 回転電機の固定子および固定子に用いられる部品 |
US8076185B1 (en) * | 2006-08-23 | 2011-12-13 | Rockwell Collins, Inc. | Integrated circuit protection and ruggedization coatings and methods |
US8084855B2 (en) | 2006-08-23 | 2011-12-27 | Rockwell Collins, Inc. | Integrated circuit tampering protection and reverse engineering prevention coatings and methods |
US8637980B1 (en) | 2007-12-18 | 2014-01-28 | Rockwell Collins, Inc. | Adhesive applications using alkali silicate glass for electronics |
US8581108B1 (en) | 2006-08-23 | 2013-11-12 | Rockwell Collins, Inc. | Method for providing near-hermetically coated integrated circuit assemblies |
US8617913B2 (en) | 2006-08-23 | 2013-12-31 | Rockwell Collins, Inc. | Alkali silicate glass based coating and method for applying |
US7915527B1 (en) | 2006-08-23 | 2011-03-29 | Rockwell Collins, Inc. | Hermetic seal and hermetic connector reinforcement and repair with low temperature glass coatings |
US20090122389A1 (en) * | 2007-11-14 | 2009-05-14 | E Ink Corporation | Electro-optic assemblies, and adhesives and binders for use therein |
US8217482B2 (en) * | 2007-12-21 | 2012-07-10 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Infrared proximity sensor package with reduced crosstalk |
DE102008028300B4 (de) * | 2008-06-13 | 2021-10-07 | Tdk Electronics Ag | Leiterplatte mit flexiblem Bereich und Verfahren zur Herstellung |
US8119040B2 (en) | 2008-09-29 | 2012-02-21 | Rockwell Collins, Inc. | Glass thick film embedded passive material |
US8420999B2 (en) * | 2009-05-08 | 2013-04-16 | Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Metal shield and housing for optical proximity sensor with increased resistance to mechanical deformation |
JP5679696B2 (ja) * | 2009-05-22 | 2015-03-04 | 日東電工株式会社 | 紫外線硬化型粘着剤組成物、粘着剤層、粘着シートおよびその製造方法 |
US8957380B2 (en) * | 2009-06-30 | 2015-02-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Infrared attenuating or blocking layer in optical proximity sensor |
US9525093B2 (en) | 2009-06-30 | 2016-12-20 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Infrared attenuating or blocking layer in optical proximity sensor |
US8779361B2 (en) * | 2009-06-30 | 2014-07-15 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Optical proximity sensor package with molded infrared light rejection barrier and infrared pass components |
US8716665B2 (en) * | 2009-09-10 | 2014-05-06 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Compact optical proximity sensor with ball grid array and windowed substrate |
US9733357B2 (en) | 2009-11-23 | 2017-08-15 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Infrared proximity sensor package with improved crosstalk isolation |
US8841597B2 (en) | 2010-12-27 | 2014-09-23 | Avago Technologies Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Housing for optical proximity sensor |
US8643165B2 (en) * | 2011-02-23 | 2014-02-04 | Texas Instruments Incorporated | Semiconductor device having agglomerate terminals |
WO2015068853A1 (ja) * | 2013-11-11 | 2015-05-14 | 新日鐵住金株式会社 | 金属ナノ粒子を用いた金属接合構造及び金属接合方法並びに金属接合材料 |
US9939596B2 (en) * | 2015-10-29 | 2018-04-10 | Samsung Electronics Co., Ltd. | Optical integrated circuit package |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0265077A2 (de) * | 1986-09-25 | 1988-04-27 | Sheldahl, Inc. | Ein Anisotropisches Klebemittel zum Verbinden elektrischer Bauelemente |
DE19517062A1 (de) * | 1994-06-29 | 1996-01-25 | Bosch Gmbh Robert | Anisotrop leitender Kleber und Verfahren zur Herstellung eines anisotrop leitenden Klebers |
DE3855511T2 (de) * | 1988-06-10 | 1997-03-06 | Sheldahl Inc | Elektronische Mehrschichtschaltung und Verfahren zur Herstellung |
DE19756887A1 (de) * | 1997-12-19 | 1999-07-01 | Siemens Ag | Kunststoffverbundkörper |
Family Cites Families (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE2902002A1 (de) | 1979-01-19 | 1980-07-31 | Gerhard Krause | Dreidimensional integrierte elektronische schaltungen |
JP2576472Y2 (ja) * | 1992-02-28 | 1998-07-09 | アルケア株式会社 | 整形外科材料用包装袋 |
US5891366A (en) * | 1994-05-10 | 1999-04-06 | Robert Bosch Gmbh | Anisotropically conducting adhesive, and process for producing an anisotropically conducting adhesive |
US5780101A (en) * | 1995-02-17 | 1998-07-14 | Arizona Board Of Regents On Behalf Of The University Of Arizona | Method for producing encapsulated nanoparticles and carbon nanotubes using catalytic disproportionation of carbon monoxide |
US6538801B2 (en) * | 1996-07-19 | 2003-03-25 | E Ink Corporation | Electrophoretic displays using nanoparticles |
US6255738B1 (en) * | 1996-09-30 | 2001-07-03 | Tessera, Inc. | Encapsulant for microelectronic devices |
US5852083A (en) * | 1997-05-29 | 1998-12-22 | Basf Corporation | Process for making hot melt adhesives using water soluble substituted lactam/polymer solutions as feedstocks |
FR2768433B1 (fr) * | 1997-09-18 | 1999-11-12 | Atochem Elf Sa | Copolyamides et compositions de polyamides, procede de fabrication et applications |
US6028354A (en) * | 1997-10-14 | 2000-02-22 | Amkor Technology, Inc. | Microelectronic device package having a heat sink structure for increasing the thermal conductivity of the package |
DE10064411A1 (de) * | 2000-12-21 | 2002-06-27 | Giesecke & Devrient Gmbh | Elektrisch leitfähige Verbindung zwischen einem Chip und einem Koppelelement sowie Sicherheitselement, Sicherheitspapier und Wertdokument mit einer solchen Verbindung |
US6884833B2 (en) * | 2001-06-29 | 2005-04-26 | 3M Innovative Properties Company | Devices, compositions, and methods incorporating adhesives whose performance is enhanced by organophilic clay constituents |
US6911385B1 (en) * | 2002-08-22 | 2005-06-28 | Kovio, Inc. | Interface layer for the fabrication of electronic devices |
-
2002
- 2002-02-18 DE DE10206818A patent/DE10206818A1/de not_active Withdrawn
-
2003
- 2003-02-14 US US10/505,066 patent/US7476981B2/en not_active Expired - Fee Related
- 2003-02-14 WO PCT/DE2003/000458 patent/WO2003071596A2/de not_active Application Discontinuation
- 2003-02-14 EP EP03742489A patent/EP1476902A2/de not_active Withdrawn
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0265077A2 (de) * | 1986-09-25 | 1988-04-27 | Sheldahl, Inc. | Ein Anisotropisches Klebemittel zum Verbinden elektrischer Bauelemente |
DE3855511T2 (de) * | 1988-06-10 | 1997-03-06 | Sheldahl Inc | Elektronische Mehrschichtschaltung und Verfahren zur Herstellung |
DE19517062A1 (de) * | 1994-06-29 | 1996-01-25 | Bosch Gmbh Robert | Anisotrop leitender Kleber und Verfahren zur Herstellung eines anisotrop leitenden Klebers |
DE19756887A1 (de) * | 1997-12-19 | 1999-07-01 | Siemens Ag | Kunststoffverbundkörper |
Non-Patent Citations (2)
Title |
---|
Kotthaus, S., et al.: Study of Isotropically Con- ductive Bondings Filled with Aggregates of Nano- Sized Ag-Particles, In: IEEE Transactions on Com- ponents, Packaging, and Manufacturing Technology -Part A, Vol. 20, No. 1, 1997, S. 15-20 * |
McCluskey, P. et al.: Nanocomposite materials offer higher conductivity and flexibility, In: Proceedings of 3·rd· International Conference on Adhesive Joining and Coating Technology in Elec- troniccs Manufacturing, 1998, S. 282-286 * |
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10320090A1 (de) * | 2003-05-05 | 2004-08-26 | Infineon Technologies Ag | Elektrisches Bauteil mit Leitungen aus karbonisiertem Kunststoff, sowie Verfahren und Vorrichtung zu seiner Herstellung |
US7709379B2 (en) | 2003-05-05 | 2010-05-04 | Infineon Technologies Ag | Electrical device comprising conductors made of carbonized plastic, and method and apparatus for the production thereof |
DE102005020453A1 (de) * | 2005-04-29 | 2006-11-09 | Infineon Technologies Ag | Flachleiterstruktur für ein Halbleiterbauteil und Verfahren zur Herstellung derselben |
DE102005020453B4 (de) * | 2005-04-29 | 2009-07-02 | Infineon Technologies Ag | Halbleiterbauteil mit einer Flachleiterstruktur und Verfahren zur Herstellung einer Flachleiterstruktur und Verfahren zur Herstellung eines Halbleiterbauteils |
DE102008030843A1 (de) * | 2008-06-30 | 2009-12-31 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Optoelektronische Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Anordnung |
DE102008030843B4 (de) | 2008-06-30 | 2021-08-19 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Optoelektronische Anordnung sowie Verfahren zur Herstellung einer optoelektronischen Anordnung |
US9224666B2 (en) | 2012-04-18 | 2015-12-29 | Rhode & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Circuit arrangement for a thermally conductive chip assembly and a manufacturing method |
DE102012206362B4 (de) * | 2012-04-18 | 2021-02-25 | Rohde & Schwarz GmbH & Co. Kommanditgesellschaft | Schaltungsanordnung zur thermisch leitfähigen Chipmontage und Herstellungsverfahren |
DE102012206362A1 (de) * | 2012-04-18 | 2013-10-24 | Rohde & Schwarz Gmbh & Co. Kg | Schaltungsanordnung zur thermisch leitfähigen Chipmontage und Herstellungsverfahren |
WO2019173277A3 (en) * | 2018-03-07 | 2019-11-21 | Texas Instruments Incorporated | Nanoparticle backside die adhesion layer |
US11031364B2 (en) | 2018-03-07 | 2021-06-08 | Texas Instruments Incorporated | Nanoparticle backside die adhesion layer |
US11676930B2 (en) | 2018-03-07 | 2023-06-13 | Texas Instruments Incorporated | Nanoparticle backside die adhesion layer |
DE102019111962A1 (de) * | 2019-05-08 | 2020-11-12 | OSRAM Opto Semiconductors Gesellschaft mit beschränkter Haftung | Elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
DE112020002264B4 (de) | 2019-05-08 | 2024-08-29 | Osram Opto Semiconductors Gmbh | Elektronisches Bauelement und Verfahren zur Herstellung eines elektronischen Bauelements |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US20060017069A1 (en) | 2006-01-26 |
WO2003071596A3 (de) | 2004-04-22 |
US7476981B2 (en) | 2009-01-13 |
WO2003071596A2 (de) | 2003-08-28 |
EP1476902A2 (de) | 2004-11-17 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE10206818A1 (de) | Elektronisches Bauteil mit Klebstoffschicht und Verfahren zur Herstellung derselben | |
DE102006001767B4 (de) | Halbleitermodul mit Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE102008023127B4 (de) | Halbleiterbauelement und Verfahren zur Herstellung | |
DE102007012154B4 (de) | Halbleitermodul mit Halbleiterchips und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE102006060484B4 (de) | Halbleiterbauelement mit einem Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE102006031405A1 (de) | Halbleitermodul mit Schaltfunktionen und Verfahren zur Herstellung desselben | |
WO2006021191A1 (de) | Halbleiterbauteil in flachleitertechnik mit einem halbleiterchip | |
DE102014109909A1 (de) | Chipbaugruppe mit eingebetteter passiver Komponente | |
EP1192841B1 (de) | Intelligentes leistungsmodul | |
DE102007036841B4 (de) | Halbleiterbauteil mit Halbleiterchip und Verfahren zu dessen Herstellung | |
WO2009016039A1 (de) | Elektronischer baustein mit zumindest einem bauelement, insbesondere einem halbleiterbauelement, und verfahren zu dessen herstellung | |
DE102004050792A1 (de) | Bauelemente-Modul für Hochtemperaturanwendungen und Verfahren zum Herstellen eines derartigen Bauelemente-Moduls | |
DE10336747A1 (de) | Halbleiterbauelementanordnung mit einer Nanopartikel aufweisenden Isolationsschicht | |
DE10245451B4 (de) | Elektronisches Bauteil mit einem Halbleiterchip, der flexible Chipkontakte aufweist, und Verfahren zur Herstellung desselben, sowie Halbleiterwafer | |
DE102011101052A1 (de) | Substrat mit elektrisch neutralem Bereich | |
DE102016214607B4 (de) | Elektronisches Modul und Verfahren zu seiner Herstellung | |
WO2011003647A1 (de) | Leiterplatte | |
DE202015006897U1 (de) | Halbleitermodul und Leistungsanordnung | |
DE102005051414B3 (de) | Halbleiterbauteil mit Verdrahtungssubstrat und Lotkugeln sowie Verfahren zur Herstellung des Halbleiterbauteils | |
DE10157362A1 (de) | Leistungsmodul und Verfahren zu seiner Herstellung | |
DE102004036905A1 (de) | Vertikales Leistungshalbleiterbauteil mit einem Halbleiterchip und Verfahren zur Herstellung desselben | |
DE102007002807B4 (de) | Chipanordnung | |
DE19821916A1 (de) | Gehäusekonstruktion einer Halbleitereinrichtung | |
DE10042839B4 (de) | Elektronisches Bauteil mit Wärmesenke und Verfahren zu seiner Herstellung | |
WO2018037047A1 (de) | Leistungsmodul, verfahren zur herstellung und leistungselektronikschaltung |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OP8 | Request for examination as to paragraph 44 patent law | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |