DE102021205774A1 - Abbildende Optik - Google Patents

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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102023201790A1 (de) 2023-02-28 2024-08-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur interferometrischen Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102024203605A1 (de) * 2024-04-18 2025-10-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik für die Projektionslithographie

Citations (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10155711A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Fraunhofer Ges Forschung Spiegel für den EUV-Spektralbereich
US6577443B2 (en) 1998-05-30 2003-06-10 Carl-Zeiss Stiftung Reduction objective for extreme ultraviolet lithography
US20070058269A1 (en) 2005-09-13 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
WO2009010213A1 (de) 2007-07-19 2009-01-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
DE102009011328A1 (de) 2009-03-05 2010-08-19 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik
DE102009045096A1 (de) 2009-09-29 2010-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem mit einer Spiegelanordnung aus zwei Spiegeln
US8027022B2 (en) 2007-07-24 2011-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective
WO2012126867A1 (en) 2011-03-22 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Deflection mirror and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a deflection mirror
DE102012202675A1 (de) 2012-02-22 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
US20140038110A1 (en) 2012-08-01 2014-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit for a projection exposure apparatus
US20160085061A1 (en) 2013-07-29 2016-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit
US9366968B2 (en) 2010-09-15 2016-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods
WO2016166080A1 (de) 2015-04-14 2016-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende optik zur abbildung eines objektfeldes in ein bildfeld sowie projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden optik
US10527832B2 (en) 2015-05-28 2020-01-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure apparatus including same
DE102019219209A1 (de) 2019-12-10 2020-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Oberflächenprofil-Messeinrichtung zur Vermessung der Spiegel einer abbildenden Optik
DE102019208961A1 (de) 2019-06-19 2020-12-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik und Projektionsbelichtungsanlage mit einer solchen Projektionsoptik

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102015221984A1 (de) * 2015-11-09 2017-05-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
DE102016212578A1 (de) * 2016-07-11 2018-01-11 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik für die EUV-Projektionslithographie
DE102022206110A1 (de) * 2022-06-20 2023-12-21 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende EUV-Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld

Patent Citations (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6577443B2 (en) 1998-05-30 2003-06-10 Carl-Zeiss Stiftung Reduction objective for extreme ultraviolet lithography
DE10155711A1 (de) 2001-11-09 2003-05-22 Fraunhofer Ges Forschung Spiegel für den EUV-Spektralbereich
US20070058269A1 (en) 2005-09-13 2007-03-15 Carl Zeiss Smt Ag Catoptric objectives and systems using catoptric objectives
WO2009010213A1 (de) 2007-07-19 2009-01-22 Carl Zeiss Smt Ag Projektionsobjektiv
US8027022B2 (en) 2007-07-24 2011-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection objective
DE102009011328A1 (de) 2009-03-05 2010-08-19 Carl Zeiss Smt Ag Abbildende Optik
DE102009045096A1 (de) 2009-09-29 2010-10-07 Carl Zeiss Smt Ag Beleuchtungssystem mit einer Spiegelanordnung aus zwei Spiegeln
US9366968B2 (en) 2010-09-15 2016-06-14 Carl Zeiss Smt Gmbh Anamorphically imaging projection lens system and related optical systems, projection exposure systems and methods
WO2012126867A1 (en) 2011-03-22 2012-09-27 Carl Zeiss Smt Gmbh Deflection mirror and projection exposure apparatus for microlithography comprising such a deflection mirror
DE102012202675A1 (de) 2012-02-22 2013-01-31 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik sowie Projektionsbelichtungsanlage für die Projektionslithografie mit einer derartigen abbildenden Optik
US20140038110A1 (en) 2012-08-01 2014-02-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit for a projection exposure apparatus
US20160085061A1 (en) 2013-07-29 2016-03-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projection optical unit for imaging an object field into an image field, and projection exposure apparatus comprising such a projection optical unit
WO2016166080A1 (de) 2015-04-14 2016-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende optik zur abbildung eines objektfeldes in ein bildfeld sowie projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden optik
DE102015226531A1 (de) 2015-04-14 2016-10-20 Carl Zeiss Smt Gmbh Abbildende Optik zur Abbildung eines Objektfeldes in ein Bildfeld sowie Projektionsbelichtungsanlage mit einer derartigen abbildenden Optik
US10527832B2 (en) 2015-05-28 2020-01-07 Carl Zeiss Smt Gmbh Imaging optical unit and projection exposure apparatus including same
DE102019208961A1 (de) 2019-06-19 2020-12-24 Carl Zeiss Smt Gmbh Projektionsoptik und Projektionsbelichtungsanlage mit einer solchen Projektionsoptik
DE102019219209A1 (de) 2019-12-10 2020-01-23 Carl Zeiss Smt Gmbh Oberflächenprofil-Messeinrichtung zur Vermessung der Spiegel einer abbildenden Optik

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102023201790A1 (de) 2023-02-28 2024-08-29 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur interferometrischen Bestimmung der Oberflächenform eines Prüflings
WO2024179763A1 (de) 2023-02-28 2024-09-06 Carl Zeiss Smt Gmbh Verfahren zur interferometrischen bestimmung der oberflächenform eines prüflings

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CN117441122A (zh) 2024-01-23
JP2024522609A (ja) 2024-06-21
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KR20240017167A (ko) 2024-02-06
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WO2022258529A1 (en) 2022-12-15
EP4352563A1 (en) 2024-04-17

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