DE102018111880A1

DE102018111880A1 - Belichtungsverfahren

Info

Publication number: DE102018111880A1
Application number: DE102018111880.5A
Authority: DE
Inventors: Kento ARIMATSU
Original assignee: Tokai Rika Co Ltd
Current assignee: Tokai Rika Co Ltd
Priority date: 2017-05-22
Filing date: 2018-05-17
Publication date: 2018-11-22
Also published as: CN108931889A; JP2018194778A; US20180335688A1; US10281828B2; JP6591482B2

Abstract

Ein Belichtungsverfahren enthält im Fall des Belichtens von nicht messbaren Aufnahmen, die geradlinig angeordnet sind und deren Fokussierungswert nicht gemessen werden kann, und einer messbaren Aufnahme, die zu den nicht messbaren Aufnahmen benachbart ist und deren Fokussierungswert gemessen werden kann, das abwechselnde Belichten der messbaren Aufnahme und der nicht messbaren Aufnahmen, derart, dass die nicht messbaren Aufnahmen unter Verwendung des Fokussierungswertes der benachbarten, messbaren Aufnahme belichtet werden, die unmittelbar vor den nicht messbaren Aufnahmen belichtet wurde.

Description

Hintergrund
Technisches Gebiet
Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf ein Belichtungsverfahren.
Verwandtes Gebiet
Als eine verwandte Technik ist ein Belichtungsverfahren bekannt, bei dem eine Belichtungsreihenfolge bestimmt wird, derart, dass in einem ersten Substrat in einer Charge dann, wenn eine Höhe an drei oder mehr Messpunkten in einem Belichtungsbereich, der an einem Ende in einer vorgegebenen Anordnungsrichtung angeordnet ist, nicht gemessen werden kann, zuerst ein anderer Belichtungsbereich belichtet wird, in dem eine Höhe an drei oder mehr Messpunkten gemessen werden kann, und anschließend im zweiten Substrat in der Charge ein Belichtungsbereich zuerst belichtet wird, der an einem Ende angeordnet ist (siehe z. B. JP 2016-206654 A ).
Zusammenfassung
Im verwandten Gebiet kann dann, wenn z. B. aufeinanderfolgende Messpunkte nicht gemessen werden können, ein vergrößerter Abstand zwischen dem Belichtungsbereich, in dem zuletzt ein Messpunkt gemessen wurde, und dem Belichtungsbereich, der als nächstes belichtet werden soll, vorliegen, was zu einer Abweichung der Fokussierung führen kann.
Dementsprechend ist es eine Aufgabe der Erfindung, ein Belichtungsverfahren zu schaffen, das die Probleme verringern kann, die durch eine Abweichung der Fokussierung bewirkt werden.
Ein Aspekt der Erfindung schafft ein Belichtungsverfahren, das in einem Fall des Belichtens von nicht messbaren Aufnahmen, die geradlinig angeordnet sind und für die keine Fokussierungswerte gemessen werden können, und des Belichtens von messbaren Aufnahmen, die zu den nicht messbaren Aufnahmen benachbart sind und für die Fokussierungswerte gemessen werden können, das Belichten der messbaren Aufnahmen und der nicht messbaren Aufnahmen auf abwechselnde Weise durch Belichten jeder nicht messbaren Aufnahme unter Verwendung eines Fokussierungswertes einer messbaren Aufnahme, die zu der nicht messbaren Aufnahme benachbart ist und die unmittelbar vor der nicht messbaren Aufnahme belichtet wurde, enthält.
Gemäß einem Aspekt der Erfindung können die Probleme verringert werden, die durch eine Abweichung der Fokussierung bewirkt werden.
Figurenliste

1A ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für eine Belichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform veranschaulicht.
1B ist ein schematisches Diagramm, das ein Belichtungsbeispiel veranschaulicht.
2A ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für messbare Aufnahmen und nicht messbare Aufnahmen in der Belichtungsvorrichtung gemäß der Ausführungsform veranschaulicht.
2B ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für Belichtungsmuster veranschaulicht.
3 ist ein Ablaufplan, der ein Beispiel für ein Belichtungsverfahren der Belichtungsvorrichtung gemäß der Ausführungsform veranschaulicht.

Beschreibung der Ausführungsformen
Überblick über die Ausführungsformen
Ein Belichtungsverfahren gemäß einer Ausführungsform enthält in einem Fall des Belichtens von nicht messbaren Aufnahmen, die geradlinig angeordnet sind und für die keine Fokussierungswerte gemessen werden können, und des Belichtens von messbaren Aufnahmen, die zu den nicht messbaren Aufnahmen benachbart sind und für die Fokussierungswerte gemessen werden können, das Belichten der messbaren Aufnahmen und der nicht messbaren Aufnahmen auf abwechselnde Weise durch Belichten jeder nicht messbaren Aufnahme unter Verwendung eines Fokussierungswertes einer messbaren Aufnahme, die zu der nicht messbaren Aufnahme benachbart ist und die unmittelbar vor der nicht messbaren Aufnahme belichtet wurde.
Gemäß diesem Belichtungsverfahren wird jede nicht messbare Aufnahme, für die kein Fokussierungswert gemessen werden kann, unter Verwendung des Fokussierungswertes einer benachbarten, messbaren Aufnahme, die unmittelbar vor der nicht messbaren Aufnahme belichtet wurde, als den Fokussierungswert belichtet. Somit wird die Belichtung verglichen mit einem Fall, in dem dieses Verfahren nicht eingesetzt wird, nicht unter Verwendung von Fokussierungswerten von entfernten Orten ausgeführt, und somit kann dieses Belichtungsverfahren die Probleme verringern, die durch eine Abweichung der Fokussierung bewirkt werden.
Ausführungsform
Überblick über die Belichtungsvorrichtung 1
1A ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für eine Belichtungsvorrichtung gemäß einer Ausführungsform veranschaulicht, und 1B ist ein schematisches Diagramm, das ein Belichtungsbeispiel veranschaulicht. 2A ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für messbare Aufnahmen und nicht messbare Aufnahmen in der Belichtungsvorrichtung gemäß der Ausführungsform veranschaulicht, und 2B ist ein schematisches Diagramm, das ein Beispiel für Belichtungsmuster veranschaulicht. In den Zeichnungen, die den folgenden Ausführungsformen zugeordnet sind, können die Verhältnisse zwischen Elementen in den Zeichnungen von den tatsächlichen Verhältnissen verschieden sein. Außerdem geben die Pfeile in 1A die Ströme von primären Signalen, Informationen und dergleichen an. Ferner ist das XYZ-Koordinatensystem, das in 1B und dergleichen veranschaulicht ist, ein orthogonales Koordinatensystem, das die Richtungen angibt, in denen sich ein Wafer 2 und eine Photomaske 3 relativ zueinander bewegen.
Wie z. B. in 1A und 1B veranschaulicht ist, verwendet die Belichtungsvorrichtung 1 das Belichtungslicht 100, um ein Maskenmuster 30, das auf der Photomaske 3 gebildet ist, mit verringerter Größe auf eine Photoresist-Schicht zu projizieren, die auf einer Stirnfläche 20 des Wafers 2 gebildet ist. Die kleinste Einheit dieser verkleinerten Projektion ist eine Belichtungsaufnahme 25. Die Belichtungsaufnahme 25 wird z. B. durch Projizieren mehrerer Chips 31, die in der Photomaske 3 gebildet sind, mit verringerter Größe erreicht. Mit anderen Worten, das Maskenmuster 30 ist ein Muster, das durch Vergrößern der mehreren Chips 31 erhalten wird.
Wie in 2A veranschaulicht ist, wird die Belichtungsaufnahme 25 z. B. mehrere Male über der Gesamtheit des Wafers 2 durchgeführt. In dem Beispiel, das in der vorliegenden Ausführungsform beschrieben ist, sind die Bezugszeichen A₁ bis A₆₀ den Belichtungsaufnahmen 25 zugeordnet, die 60 Belichtungen entsprechen. Somit wird die Aufnahme als „Belichtungsaufnahme A_n “ bezeichnet, wenn eine Belichtungsaufnahme 25 diskutiert wird, die A_n entspricht (wobei 1 ≤ n≤ 60). Als ein Beispiel sind die Bezugszeichen derart zugewiesen, dass in 2A Belichtungsaufnahme A₁ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ in der Reihenfolge von rechts nach links, anschließend in die nächste Reihe und daraufhin von links nach rechts fortschreiten.
Außerdem bestimmt die Belichtungsvorrichtung 1, wie in 1B veranschaulicht ist, z. B. einen Fokussierungsmesspunkt 26 zum Messen eines Fokussierungswertes der zu belichtenden Belichtungsaufnahme 25. Die Belichtungsvorrichtung 1 führt die Belichtung auf der Grundlage des Fokussierungswertes aus, der unter Verwendung des Fokussierungsmesspunktes 26 gemessen wird.
Wie in 1A und 1B veranschaulicht ist, ist die Belichtungsvorrichtung 1 z. B. im Allgemeinen aus einer Bühne 10, einem optischen System 12 zur verkleinerten Projektion, einem optischen Beleuchtungssystem 14 und einer Fokussierungswert-Messeinheit 16 konfiguriert.
Die Belichtungsvorrichtung 1 enthält ferner eine Steuereinrichtung 18, die eine Belichtung unter Verwendung eines Belichtungsverfahrens ausführt, bei dem z. B. dann, wenn geradlinig angeordnete, nicht messbare Aufnahmen 27a, für die keine Fokussierungswerte gemessen werden können, und messbare Aufnahmen 28, die zu den nicht messbaren Aufnahmen 27a benachbart sind und für die Fokussierungswerte gemessen werden können, belichtet werden, die messbare Aufnahme 28 und die nicht messbare Aufnahme 27a auf abwechselnde Weise durch Belichten jeder nicht messbaren Aufnahme 27a unter Verwendung des Fokussierungswertes der benachbarten, messbaren Aufnahme 28, die unmittelbar vor der nicht messbaren Aufnahme 27a belichtet wurde, belichtet werden, wie in 2A und 2B veranschaulicht ist.
Die geradlinig angeordneten, nicht messbaren Aufnahmen 27a, für die der Fokussierungswert nicht gemessen werden kann, sind z. B. Belichtungsaufnahmen 25, bei denen eine Ausrichtungsabflachung 21 vorhanden ist, wie in 2A und 2B veranschaulicht ist. In jeder nicht messbaren Aufnahme 27a ist der Fokussierungsmesspunkt 26 nicht auf dem Wafer 2 angeordnet, und somit kann der Fokussierungswert nicht gemessen werden. Zusätzlich zu den nicht messbaren Aufnahmen 27a sind die Belichtungsaufnahmen 25, die in 2A durch Schraffieren angegeben sind, nicht messbare Aufnahmen 27, bei denen der Fokussierungswert nicht gemessen werden kann.
Konfiguration des Wafers 2
Der Wafer 2 ist z. B. unter Verwendung eines siliziumbasierten Materials in einer scheibenähnlichen Form gebildet. Wie in 1B veranschaulicht ist, ist z. B. die Ausrichtungsabflachung 21, die als Kennzeichen der Kristallausrichtung des Siliziums dient, im Wafer 2 gebildet.
Konfiguration der Photomaske 3
Die Photomaske 3 wird z. B. durch Bilden einer lichtsperrenden Schicht eines Metalls wie etwa Chrom oder einer Halbtonschicht auf einem durchsichtigen Substrat, das aus Kieselglas oder dergleichen gebildet ist, und durch Bilden eines Maskenmusters, das übertragen werden soll, in der lichtsperrenden Schicht gebildet.
Konfiguration der Bühne 10
Der Wafer 2 wird auf der Bühne 10 angeordnet. Die Bühne 10 bewegt sich auf der Grundlage eines Ansteuersignals S₁, das von der Steuereinrichtung 18 ausgegeben wird, in der X-, Y- und Z-Richtung.
Konfiguration des optischen Systems 12 zur verkleinerten Projektion
Das optische System 12 zur verkleinerten Projektion enthält z. B. mehrere überlagerte optische Linsen und projiziert das Maskenmuster 30 mit einer verringerten Größe als die Belichtungsaufnahme 25. Das optische System 12 zur verkleinerten Projektion stellt den Fokus z. B. durch Einstellen der relativen Positionen der Linsen auf der Grundlage eines Steuersignals S₂ ein, das von der Steuereinrichtung 18 ausgegeben wird.
Konfiguration des optischen Beleuchtungssystems 14
Das optische Beleuchtungssystem 14 enthält eine Lichtquelle wie etwa eine Quecksilberlampe, eine Integratorlinse, die die Gleichmäßigkeit der Intensität des Belichtungslichts 100 erhöht, das von der Lichtquelle ausgegeben wird, und dergleichen. Das Belichtungslicht 100 ist z. B. ein ArF-Excimerlaser oder ein KrF-Excimerlaser.
Das optische Beleuchtungssystem 14 gibt z. B. das Beleuchtungslicht 100 auf der Grundlage eines Steuersignals S₃ aus, das von der Steuereinrichtung 18 ausgegeben wird.
Konfiguration der Fokussierungswert-Messeinheit 16
Die Fokussierungswert-Messeinheit 16 ist konfiguriert, den Fokussierungswert für jede Belichtungsaufnahme 25 zu messen. Als ein Beispiel misst die Fokussierungswert-Messeinheit 16 den Fokussierungswert am Fokussierungsmesspunkt 26 in der Mitte der Belichtungsaufnahme 25, wie in 1B angegeben ist. Es sei erwähnt, dass die Anzahl der Belichtungsaufnahmen 25 mehr als eine sein kann.
Wie in 1A veranschaulicht ist, sind z. B. eine Lichtemissionseinrichtung 160 und ein Detektor 161 mit der Fokussierungswert-Messeinheit 16 elektrisch verbunden. Die Lichtemissionseinrichtung 160 enthält z. B. eine Lichtquelle, die auf der Grundlage eines Steuersignals S₄ , das von der Fokussierungswert-Messeinheit 16 ausgegeben wird, das Detektionslicht 160a auf den Fokussierungsmesspunkt 26 ausgibt. Das Detektionslicht 160a, das von der Lichtemissionseinrichtung 160 ausgegeben wird, ist ein Licht mit einer Wellenlänge, für die die Photoresist-Schicht, die auf der Stirnfläche 20 des Wafers 2 gebildet ist, nicht empfindlich ist. Wenn z. B. mehrere Fokussierungsmesspunkte 26 eingestellt sind, enthält die Lichtemissionseinrichtung 160 Lichtquellen, die der Anzahl der Fokussierungsmesspunkte 26 entsprechen.
Der Detektor 161 detektiert das reflektierte Licht 161a, das vom Fokussierungsmesspunkt 26 reflektiert wird.
Der Detektor 161 gibt daraufhin ein Detektionssignal S₅ an die Fokussierungswert-Messeinheit 16 aus, das die Informationen über das detektierte, reflektierte Licht 161a darstellt.
Die Fokussierungswert-Messeinheit 16 findet durch Vergleichen des Detektionslichts 160a, das von der Lichtemissionseinrichtung 160 ausgegeben wird, mit dem reflektierten Licht 161a, das durch den Detektor 161 detektiert wird, ein Reflexionsverhalten und findet den Fokussierungswert auf der Grundlage des Reflexionsverhaltens. Die Fokussierungswert-Messeinheit 16 erzeugt die Fokussierungswertinformationen S₆ , die die Informationen über den Fokussierungswert darstellen, der gefunden worden ist, und gibt diese Informationen an die Steuereinrichtung 18 aus.
Konfiguration der Steuereinrichtung 18
Die Steuereinrichtung 18 ist z. B. ein Mikrocomputer, der eine zentrale Verarbeitungseinheit (CPU), die in Übereinstimmung mit gespeicherten Programmen Berechnungen, Prozesse und dergleichen auf erfassten Daten ausführt, einen Schreib/Lese-Speicher (RAM) und einen Festwertspeicher (ROM), die Halbleiter-Datenspeicher sind, und dergleichen enthält. Die Software 180 für die Vorgänge der Steuereinrichtung 18 und die Belichtungsinformationen 181 sind z. B. im ROM gespeichert. Der RAM wird als ein Speicherbereich verwendet, der z. B. Berechnungsergebnisse und dergleichen vorübergehend speichert.
Die Software 180 ist eine Software zum Ausführen der Messung von Fokussierungswerten, von Belichtungsprozessen und dergleichen und wird durch die Steuereinrichtung 18 betrieben.
Die Belichtungsinformationen 181 sind Informationen wie etwa Parameter, die für die Belichtungsprozesse erforderlich sind, und die Positionen, Fokussierungswerte und Belichtungsmuster 4 der Belichtungsaufnahmen 25. Die Belichtungsmuster 4 werden im Folgenden beschrieben.
Wie in 2A und 2B veranschaulicht ist, enthalten die Belichtungsmuster 4 z. B. ein erstes Belichtungsmuster 40 und ein zweites Belichtungsmuster 41. Wie später beschrieben wird, ist die Steuereinrichtung 18 konfiguriert, die Belichtungsaufnahmen 25, die geradlinig angeordnet sind, auf der Grundlage des ersten Belichtungsmusters 40 zu belichten und anschließend die messbaren Aufnahmen 28 und die nicht messbaren Aufnahmen 27a auf abwechselnde Weise auf der Grundlage des zweiten Belichtungsmusters 41 zu belichten.
Das erste Belichtungsmuster 40 ist ein Muster aus den Belichtungsmustern 4, das einen geradlinigen Belichtungsweg aufweist. Die Belichtungsvorrichtung 1 wiederholt die Fokussierungswertmessungen und die Belichtung unter Verwendung jener Fokussierungswerte auf der Grundlage dieses ersten Belichtungsmusters 40. Der Belichtungsweg ist z. B. der Weg, der in 2B durch die punktierte Linie angegeben ist.
Wie in 2A und 2B veranschaulicht ist, ist dieser geradlinige Belichtungsweg ein Weg, in dem z. B. Belichtungsaufnahme A₁ bis Belichtungsaufnahme A₆ , Belichtungsaufnahme A₇ bis Belichtungsaufnahme A₁₄ , Belichtungsaufnahme A₁₅ bis Belichtungsaufnahme A₂₂ , Belichtungsaufnahme A₂₃ bis Belichtungsaufnahme A₃₀ , Belichtungsaufnahme A₃₁ bis Belichtungsaufnahme A₃₈ , und Belichtungsaufnahme A₃₉ bis Belichtungsaufnahme A₄₆ in dieser Reihenfolge belichtet werden.
In der Belichtungsaufnahme A₁ ist der Fokussierungsmesspunkt 26 außerhalb des Wafers 2 angeordnet, und somit ist diese Belichtungsaufnahme eine nicht messbare Aufnahme 27, für die der Fokussierungswert nicht gemessen werden kann. Die Belichtungsaufnahme A₁ wird z. B. unter Verwendung eines vorgegebenen Standardfokussierungswertes, des Belichtungswertes von der Belichtungsaufnahme A₂ oder der Belichtungsaufnahme A₁₃ , die benachbarte, messbare Aufnahmen 28 sind, oder dergleichen belichtet.
Belichtungsaufnahme A₂ bis Belichtungsaufnahme A₅ sind messbare Aufnahmen 28, und somit werden für diese Aufnahmen die Fokussierungswerte gemessen, und die Aufnahmen werden unter Verwendung jener Fokussierungswerte belichtet.
Die Belichtungsaufnahme A₆ ist eine nicht messbare Aufnahme 27, und somit kann der Fokussierungswert nicht gemessen werden; die Aufnahme wird somit unter Verwendung des Fokussierungswertes der Belichtungsaufnahme A₅ belichtet, die eine benachbarte, messbare Aufnahme 28 ist.
Die Belichtungsaufnahme A₇ , an der der Belichtungsweg zurückschaltet, ist eine nicht messbare Aufnahme 27. Die Belichtungsaufnahme A₇ wird z. B. unter Verwendung des Fokussierungswertes der Belichtungsaufnahme A₆ , die die unmittelbar vorhergehende Belichtungsaufnahme ist, oder mit anderen Worten, mit dem Belichtungswert der Belichtungsaufnahme A₅ , oder unter Verwendung des Fokussierungswertes der benachbarten Belichtungsaufnahme A₈ belichtet. Die Belichtungsaufnahme A₈ wird nach der Belichtungsaufnahme A₇ belichtet, und somit ist vom Standpunkt der Effizienz aus vorzuziehen, dass der Fokussierungswert der Belichtungsaufnahme A₇ der Fokussierungswert der Belichtungsaufnahme A₆ , oder mit anderen Worten, der Fokussierungswert der Belichtungsaufnahme A₅ ist. Es sei erwähnt, dass sich „benachbart“ auf die vier Belichtungsaufnahmen 25 bezieht, die im Umkreis angeordnet sind.
Das zweite Belichtungsmuster 41 ist, wie in 2B veranschaulicht ist, ein Muster, das z. B. einen Zick-Zack-Belichtungsweg aufweist. Die Steuereinrichtung 18 ist konfiguriert, die messbaren Aufnahmen 28 und die nicht messbaren Aufnahmen 27a auf der Grundlage des zweiten Belichtungsmusters 41 auf abwechselnde Weise zu belichten, indem die nicht messbaren Aufnahmen 27a, für die die Fokussierungswerte nicht aufeinanderfolgend gemessen werden können, unter Verwendung der Fokussierungswerte der benachbarten, messbaren Aufnahmen 28 belichtet werden, die unmittelbar vor den nicht messbaren Aufnahmen 27a belichtet wurden, die belichtet werden sollen.
Die „nicht messbaren Aufnahmen 27a, für die die Fokussierungswerte nicht aufeinanderfolgend gemessen werden können“ sind z. B. Belichtungsaufnahme A₅₅ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ , die die Ausrichtungsabflachung 21 enthalten, die in 2A und 2B angegeben ist.
Wenn die Steuereinrichtung 18 z. B. Belichtungsaufnahme A₄₇ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ entsprechend dem ersten Belichtungsmuster 40 geradlinig belichtet, werden Belichtungsaufnahme A₅₄ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ , für die die Fokussierungswerte nicht gemessen werden können, unter Verwendung des Fokussierungswertes der Belichtungsaufnahme A₅₃ belichtet, die die letzte Aufnahme ist, für die der Fokussierungswert gemessen wurde. Als ein Ergebnis werden z. B. Belichtungsaufnahme A₅₇ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ , die in den acht Räumen in deren Umkreis nicht zur Belichtungsaufnahme A₅₃ benachbart sind, unter Verwendung des Fokussierungswertes der Belichtungsaufnahme A₅₃ belichtet, die nicht benachbart und etliche Aufnahmen entfernt ist. Es ist somit einfach, dass aufgrund einer Abweichung der Fokussierung, die durch die Wirkungen von Verwerfungen im Wafer 2, der Korrektheit des Antriebs der Bühne 10, Veränderungen in der Photoresist-Schicht und dergleichen bewirkt wird, Probleme auftreten.
Somit wird in der vorliegenden Ausführungsform z. B. die Belichtungsaufnahme A₆₀ unter Verwendung des Fokussierungswertes der belichteten Belichtungsaufnahme A₄₈ belichtet, die Belichtungsaufnahme A₅₉ wird unter Verwendung des Fokussierungswertes der belichteten Belichtungsaufnahme A₄₉ belichtet, die Belichtungsaufnahme A₅₈ wird unter Verwendung des Fokussierungswertes der belichteten Belichtungsaufnahme A₅₀ belichtet, die Belichtungsaufnahme A₅₇ wird unter Verwendung des Fokussierungswertes der belichteten Belichtungsaufnahme A₅₁ belichtet, die Belichtungsaufnahme A₅₆ wird unter Verwendung des Fokussierungswertes der belichteten Belichtungsaufnahme A₅₂ belichtet, und die Belichtungsaufnahme A₅₅ und die Belichtungsaufnahme A₅₄ werden unter Verwendung des Fokussierungswertes der belichteten Belichtungsaufnahme A₅₃ belichtet, wie in 2B veranschaulicht ist.
Mit anderen Worten, die Steuereinrichtung 18 belichtet die Belichtungsaufnahme A₄₈ , die Belichtungsaufnahme A₆₀ , die Belichtungsaufnahme A₄₉ , die Belichtungsaufnahme A₅₉ , die Belichtungsaufnahme A₅₀ , die Belichtungsaufnahme A₅₈ , die Belichtungsaufnahme A₅₁ , die Belichtungsaufnahme A₅₇ , die Belichtungsaufnahme A₅₂ , die Belichtungsaufnahme A₅₆ , die Belichtungsaufnahme A₅₃ , die Belichtungsaufnahme A₅₅ , und die Belichtungsaufnahme A₅₄ in dieser Reihenfolge.
Die Steuereinrichtung 18 belichtet Belichtungsaufnahme A₅₅ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ , die nicht messbare Aufnahmen 27a sind und in denen die Ausrichtungsabflachung 21 vorhanden ist, Belichtungsaufnahme A₄₈ bis Belichtungsaufnahme A₅₃ , die messbare Aufnahmen 28 sind, die zu den genannten, nicht messbaren Aufnahmen 27a benachbart sind, und die Belichtungsaufnahme A₅₄ , die eine nicht messbare Aufnahme 27 ist, unter Verwendung des zweiten Belichtungsmusters 41.
Als nächstes wird ein Belichtungsverfahren der Belichtungsvorrichtung 1 gemäß der vorliegenden Ausführungsform gemäß dem Ablaufplan in 3 beschrieben.
Sobald der Wafer 2 transportiert wird (Schritt 1), auf dem eine Photoresist-Schicht gebildet ist, führt die Steuereinrichtung 18 der Belichtungsvorrichtung 1 auf der Grundlage der Belichtungsinformationen 181 unter Verwendung des ersten Belichtungsmusters 40 und des zweiten Belichtungsmusters 41 Belichtungsprozesse aus (Schritt 2). Insbesondere wiederholt die Steuereinrichtung 18 die Fokussierungswertmessung und die Belichtung unter Verwendung jener Fokussierungswerte auf der Grundlage des ersten Belichtungsmusters 40 aus den vorgegebenen Belichtungsmustern 4, das einen geradlinigen Belichtungsweg aufweist. Als nächstes belichtet die Steuereinrichtung 18 auf der Grundlage des zweiten Belichtungsmusters 41 aus den Belichtungsmustem 4, das einen Zick-Zack-Belichtungsweg aufweist, die messbaren Aufnahmen 28 und die nicht messbaren Aufnahmen 27a auf abwechselnde Weise durch Belichten der nicht messbaren Aufnahmen 27a, für die die Fokussierungswerte nicht aufeinanderfolgend gemessen werden können, unter Verwendung der Fokussierungswerte der benachbarten, messbaren Aufnahmen 28, die unmittelbar vor den nicht messbaren Aufnahmen 27a belichtet wurden, die belichtet werden sollen.
Sobald die Belichtungen von Belichtungsaufnahme A₁ bis Belichtungsaufnahme A₆₀ abgeschlossen sind, bestätigt die Steuereinrichtung 18, ob ein nächster Wafer 2 vorhanden oder nicht vorhanden ist. Wenn ein Wafer 2 vorhanden ist, der als nächstes dem Belichtungsprozess unterzogen werden soll (Schritt 3: Ja), führt die Steuereinrichtung 18 den Prozess zu Schritt 1 zurück und transportiert den nächsten Wafer 2.
Wenn in Schritt 3 kein Wafer 2 vorhanden ist, der als nächstes dem Belichtungsprozess unterzogen werden soll (Schritt 3: Nein), beendet die Steuereinrichtung 18 den Belichtungsprozess.
Wirkung der Ausführungsformen
Die Belichtungsvorrichtung 1, die das Belichtungsverfahren gemäß der vorliegenden Ausführungsform einsetzt, kann die Probleme verringern, die durch Abweichungen der Fokussierung bewirkt werden. Mit diesem Belichtungsverfahren können selbst dann, wenn es nicht messbare Aufnahmen 27a gibt, bei denen die Ausrichtungsabflachung 21 vorhanden ist und für die die Fokussierungswerte nicht gemessen werden können, jene nicht messbaren Aufnahmen 27a unter Verwendung der Fokussierungswerte benachbarter, messbarer Aufnahmen 28 belichtet werden. Somit wird verglichen mit einer Belichtung unter Verwendung der Fokussierungswerte von entfernten Belichtungsaufnahmen eine Abweichung der Fokussierung unterdrückt, und die Probleme, die durch eine Abweichung der Fokussierung bewirkt werden, können verringert werden.
Verglichen mit einer Vorrichtung, die durch Messen der Fokussierungswerte vorab eine Fokussierungskarte erzeugt und daraufhin die Belichtung gemäß der erzeugten Fokussierungskarte ausführt, erfordert die Belichtungsvorrichtung 1 keinen Speicherbereich mit einer Kapazität, mit der ein Fokussierungswert für jede Belichtungsaufnahme 25 gespeichert werden kann, in dem die Fokussierungskarte gespeichert ist, und dergleichen, was die Kosten der Herstellung der Vorrichtung verringert.
Obwohl eine Ausführungsform der Erfindung oben beschrieben wurde, ist diese Ausführungsform lediglich ein Beispiel, und die Erfindung gemäß den Ansprüchen soll nicht darauf eingeschränkt sein. Diese neuartige Ausführungsform kann in diversen anderen Formen implementiert sein, und diverse Auslassungen, Ersetzungen, Änderungen und dergleichen können vorgenommen werden, ohne vom Erfindungsgedanken und vom Umfang der Erfindung abzuweichen. Außerdem sind nicht notwendigerweise alle Kombinationen der Merkmale, die in dieser Ausführungsform beschrieben sind, notwendig, um die Problemstellung der Erfindung zu lösen. Ferner ist diese Ausführungsform im Erfindungsgedanken und im Umfang der Erfindung und ebenso in der Erfindung, die in den Ansprüchen und im Umfang der Äquivalente davon beschrieben ist, enthalten.
Bezugszeichenliste

1: Belichtungsvorrichtung
2: Wafer
3: Photomaske
4: Belichtungsmuster
10: Bühne
12: optisches System zur verkleinerten Projektion
14: optisches Beleuchtungssystem
16: Fokussierungswert-Messeinheit
18: Steuereinrichtung
20: Stirnfläche
21: Ausrichtungsabflachung
25: Belichtungsaufnahme
26: Fokussierungsmesspunkt
27: nicht messbare Aufnahme
27a: nicht messbare Aufnahme
28: messbare Aufnahme
30: Maskenmuster
31: Chip
40: erstes Belichtungsmuster
41: zweites Belichtungsmuster
100: Belichtungslicht
160: Lichtemissionseinrichtung
160a: Detektionslicht
161: Detektor
161a: reflektiertes Licht
180: Software
181: Belichtungsinformationen

ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

JP 2016206654 A [0002]

Claims

Belichtungsverfahren, das Folgendes umfasst: im Fall des Belichtens von nicht messbaren Aufnahmen, die geradlinig angeordnet sind und deren Fokussierungswert nicht gemessen werden kann, und einer messbaren Aufnahme, die zu den nicht messbaren Aufnahmen benachbart ist und deren Fokussierungswert gemessen werden kann, abwechselndes Belichten der messbaren Aufnahme und der nicht messbaren Aufnahmen, derart, dass die nicht messbaren Aufnahmen unter Verwendung des Fokussierungswertes der benachbarten, messbaren Aufnahme, die unmittelbar vor den nicht messbaren Aufnahmen belichtet wurde, belichtet werden.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 1, wobei die nicht messbaren Aufnahmen, die geradlinig angeordnet sind und deren Fokussierungswert nicht gemessen werden kann, Belichtungsaufnahmen umfassen, in denen eine Ausrichtungsabflachung enthalten ist.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Belichtungsaufnahmen, die geradlinig angeordnet sind, auf der Grundlage eines ersten Belichtungsmusters belichtet werden; und wobei die messbare Aufnahme und eine der nicht messbaren Aufnahmen auf der Grundlage eines zweiten Belichtungsmusters abwechselnd belichtet werden.
Belichtungsverfahren, das Folgendes umfasst: Wiederholen einer Messung eines Fokussierungswertes und einer Belichtung unter Verwendung des Fokussierungswertes auf der Grundlage eines ersten Belichtungsmusters aus vorgegebenen Belichtungsmustern, das einen geradlinigen Belichtungsweg aufweist; und abwechselndes Belichten von messbaren Aufnahmen und nicht messbaren Aufnahmen auf der Grundlage eines zweiten Belichtungsmusters aus den vorgegebenen Belichtungsmustern, das einen Zick-Zack-Belichtungsweg aufweist, durch Belichten der nicht messbaren Aufnahmen, deren Fokussierungswert in einer geradlinigen Richtung nicht aufeinanderfolgend gemessen werden kann, unter Verwendung der Fokussierungswerte der messbaren Aufnahmen, die zu den nicht messbaren Aufnahmen benachbart sind und die unmittelbar vor den nicht messbaren Aufnahmen belichtet wurden, die belichtet werden sollen.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 4, wobei die nicht messbaren Aufnahmen, deren Fokussierungswert nicht aufeinanderfolgend gemessen werden kann, Belichtungsaufnahmen umfassen, in denen eine Ausrichtungsabflachung enthalten ist.
Belichtungsverfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 3, wobei der Fokussierungswert an einem vorgegebenen Fokussierungsmesspunkt in einer Belichtungsaufnahme gemessen wird, die auf eine Photoresist-Schicht projiziert wird, die auf einer Stirnfläche eines Wafers gebildet ist, und wobei die nicht messbaren Aufnahmen detektiert werden, wenn der vorgegebene Fokussierungsmesspunkt in der Stirnfläche des Wafers angeordnet ist.
Belichtungsverfahren nach Anspruch 4 oder 5, wobei der Fokussierungswert an einem vorgegebenen Fokussierungsmesspunkt in einer Belichtungsaufnahme gemessen wird, die auf eine Photoresist-Schicht projiziert wird, die auf einer Stirnfläche eines Wafers gebildet ist, und wobei die nicht messbaren Aufnahmen detektiert werden, wenn der vorgegebene Fokussierungsmesspunkt in der Stirnfläche des Wafers angeordnet ist.