DE102014118593A1 - Nickel-Wolfram-Legierung - Google Patents

Nickel-Wolfram-Legierung Download PDF

Info

Publication number
DE102014118593A1
DE102014118593A1 DE102014118593.5A DE102014118593A DE102014118593A1 DE 102014118593 A1 DE102014118593 A1 DE 102014118593A1 DE 102014118593 A DE102014118593 A DE 102014118593A DE 102014118593 A1 DE102014118593 A1 DE 102014118593A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
aqueous bath
nickel
coating
acid
workpiece
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102014118593.5A
Other languages
English (en)
Inventor
Alexander Meyerovich
Helmut Riechmann
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Harting Stiftung and Co KG
Original Assignee
Harting AG and Co KG
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Harting AG and Co KG filed Critical Harting AG and Co KG
Priority to DE102014118593.5A priority Critical patent/DE102014118593A1/de
Priority to PCT/DE2015/100435 priority patent/WO2016095895A1/de
Publication of DE102014118593A1 publication Critical patent/DE102014118593A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C25ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25DPROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D3/00Electroplating: Baths therefor
    • C25D3/02Electroplating: Baths therefor from solutions
    • C25D3/56Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys
    • C25D3/562Electroplating: Baths therefor from solutions of alloys containing more than 50% by weight of iron or nickel or cobalt

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Electroplating And Plating Baths Therefor (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft ein wässriges Bad zur elektrolytischen Abscheidung einer silberfarbenen Nickel-Wolfram-Legierung, wobei das wässrige Bad folgende Komponenten enthält: – Nickelionen und Wolframionen – Mindestens eine Carbonsäure – Alkalisalze mindestens einer Carbonsäure und – Organische Netz- und Glanzmittel. Die Erfindung bezieht sich ebenfalls auf ein Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung, wobei das Werkstück aus Kupfer, einer Kupferlegierung oder aus Stahl besteht, wobei die Beschichtung in einem wässrigen Bad durchgeführt wird und wobei der pH-Wert des wässrigen Bades zwischen 3,0 und 5,5, besonders bevorzugt jedoch zwischen 4,0 und 5,2, eingestellt wird.

Description

  • Die Erfindung geht aus von einem wässrigen Bad zur elektrolytischen Abscheidung einer silberfarbenen Nickel-Wolfram-Legierung nach dem Oberbegriff des unabhängigen Anspruchs 1. Die Erfindung bezieht sich ebenfalls auf ein Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung.
  • Derartige Nickel-Wolfram-Beschichtungen werden insbesondere bei Kontaktelementen für Steckverbinder eingesetzt.
  • Stand der Technik
  • Aus der DE 10 2012 109 057 B3 ist bereits eine Nickel-Wolfram-Beschichtung für Kontaktelemente bekannt. Dieses Bad ist ammoniumhaltig und wird bei einem alkalischen pH-Wert betrieben.
  • Wird ein solches Bad bei höheren Temperaturen betrieben, kann es zu einer erhöhten Ammoniakemission kommen. Dadurch wird das Arbeitsumfeld in entsprechenden Beschichtungsstraßen belastet. Mit zunehmendem Alter des Bades nimmt außerdem die Abscheidegeschwindigkeit ab. Eine Kompensation kann durch Erhöhung der Arbeitstemperatur erfolgen. Dies wiederum erhöht aber auch die Ammoniakemission.
  • In der Praxis hat sich gezeigt, dass obige Beschichtungsverfahren einen hohen Wolframgehalt in der Beschichtung bewirken. Dies führt zu hohen elektrischen Widerständen, was gerade bei Kontaktelementen für Steckverbinder nachteilig ist.
  • Aufgabenstellung
  • Die Aufgabe der Erfindung besteht darin ein wässriges Bad zur elektrolytischen Abscheidung einer Nickel-Wolfram-Beschichtung vorzuschlagen, welches stabil läuft und einen niedrigen Wolframgehalt in der Beschichtung ermöglicht.
  • Die Aufgabe wird durch die kennzeichnenden Merkmale des unabhängigen Anspruchs 1 gelöst.
  • Vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind in den Unteransprüchen angegeben.
  • Das erfindungsgemäße Bad eignet sich in besonderer Weise zur Beschichtung von elektrischen Kontaktelementen, da die hiermit abgeschiedenen Überzüge besonders hart sind und eine gute elektrische Leitfähigkeit sowie eine hervorragende Korrosions- und Abriebbeständigkeit aufweisen. Das vorgeschlagene wässrige Bad vermeidet einige Umwelt-, Arbeitssicherheits- und Beschichtungsqualitätsprobleme, die mit den bekannten Nickel-Wolfram-Bädern auftreten können.
  • Von besonderer technischer Bedeutung ist es, dass Wolfram in die Beschichtung (Legierung) mit außerordentlich niedrigen Gehalt, bis zu 20 Gewichtsprozent und niedriger, eingebaut werden kann, wodurch sich weitere Anwendungsbereiche erschließen.
  • Das erfindungsgemäße wässrige Bad dient zur elektrolytischen Abscheidung einer silberfarbenen Nickel-Wolfram-Legierung. Das wässrige Bad enthält mindestens folgende Komponenten:
    • – Nickelionen und Wolframionen
    • – Mindestens eine Carbonsäure
    • – Alkalisalze mindestens einer Carbonsäure und
    • – Organische Netz- und Glanzmittel.
  • Als Nickelquelle für das Bad dient beispielsweise Nickelchlorid und/oder Nickelsulfat und/oder Nickelsulfamat, in einer Gesamtkonzentration zwischen 40 bis 60 g/Liter (Gramm pro Liter). Wolfram wird dem Bad in Form von Natriumwolframat, in einer Konzentration zwischen 6 bis 12 g/Liter zugefügt. Als Carbonsäure, kann Monocarbonsäure, Dicarbonsäure, Tricarbonsäure, Hydroxycarbonsäure wie Milchsäure, Zitronensäure, Weinsäure, Maleinsäure, Adipinsäure, Apfelsäure, Glutarsäure, Bernsteinsäure, Essigsäure, Glycolsäure oder eine Mischung der vorgenannten Säuren gewählt werden. Die Konzentration der Säure(n) liegt vorzugsweise zwischen 30 bis 60 Gramm pro Liter des Bades. Als Alkalisalze, insbesondere Natrium / Kaliumsalze, werden Salze der entsprechenden Carbonsäuren und/oder deren Gemische in einem Massenverhältnis zur Säure von 5:1 bis 1:5 eingesetzt. Das wässrige Bad enthält vorzugsweise außerdem Netzmittel und die zusätzlichen organischen Zusatzstoffe.
  • Das Massenverhältnis von Nickel zu Wolfram sollte idealerweise zwischen 1 zu 0,2 bis 0,4 liegen. Vorteilhafterweise enthält das wässrige Bad auch Ammoniumchlorid, in einer Konzentration bis zu 50 Gramm pro Liter, was insbesondere zur Erhöhung der Leitfähigkeit des Elektrolyten führt.
  • Der pH-Wert sollte vorzugsweise, je nach eingesetztem Komplexbildner, zwischen 3 bis 5,5, vorzugsweise jedoch zwischen 4,0 bis 5,2, betragen. Vorzugsweise wird der pH-Wert durch Zugabe von Salzsäure oder einer entsprechenden Carbonsäure, wie zum Beispiel Zitronensäure, eingestellt. Durch die Verwendung der Carbonsäure und ihrer Salze stellt sich ein stabilen pH-Wert im wässrigen Bad sowie in der elektrochemischen Doppelschicht an der Kathodenoberfläche ein.
  • Dadurch werden eine Bildung basischer Salze und Einschüsse von Nickel- und Wolframsalzen in der Nickel-Wolfram-Schicht verhindert.
  • Das wässrige Bad hat im ganzen angegebenen pH-Bereich eine hervorragende Stabilität. Die Puffereigenschaften wurden durch eine Titration des Elektrolyten mit 7 Mol pro Liter KOH überprüft.
  • Es hat sich gezeigt, dass von allen eingesetzten Carbonsäuren die Weinsäure einen maximalen Effekt bezüglich der Senkung des Übergangswiderstandes der Nickel-Wolfram-Legierung bewirkt.
  • Als Zusatzstoffe kann das wässrige Bad übliche Netzmittel, wie anionische, nichtionische und amphotere Tenside oder deren Mischungen enthalten. Als Anionische Tenside dienen zum Beispiel die Fettalkoholsulfonate mit dem allgemeinen Aufbau R-O-SO3-X oder die Alkylarylsulfonate mit dem allgemeinen Aufbau R-ArSO3Me.
  • Bei den nichtionischen Tensiden handelt es sich üblicherweise um Stoffe auf der Basis von Polyethylen-, Polypropylenoxid, inklusive der Block-Copolymere mit mindestens vier Blöcken auf der Basis von Polyethylen-, Polypropylenoxid. Diese Tenside sind im Allgemeinen Schaumarm, was wichtig für ein elektrolytisches Beschichtungsverfahren mit intensiver Rührung und insbesondere bei der Verwendung des wässrigen Bades in Banddurchlaufanlagen ist.
  • Das Netzmittel wird in einer Konzentration zwischen 0,1 bis 10 g/Liter, vorzugsweise jedoch in einer Konzentration zwischen 0,1 bis 5,0 g/Liter, eingesetzt.
  • Das Bad wird idealerweise in einem Temperaturbereich zwischen 20 bis 75°C, vorzugsweise jedoch in einem Temperaturbereich zwischen 40 bis 60°C, betrieben. Die bevorzugte Stromdichte liegt zwischen 0,5 bis 12,5 A/dm2 (Ampere pro Quadratdezimeter). Die Beschichtungszeit liegt idealerweise zwischen 10 Sekunden und 5 Minuten, vorzugsweise jedoch zwischen 15 Sekunden bis 3 Minuten.
  • Die Badspannung liegt idealerweise zwischen 4 bis 6 Volt. Aus diesem Elektrolyten können Beschichtungen mit einem Wolframgehalt zwischen 0,5 bis 20 Massenprozent, idealerweise zwischen 1,0 bis 10 Massenprozent, abgeschieden werden.
  • Das Nickel-Wolfram-Bad sollte vorzugsweise die bereits oben beschriebenen Glanzmittel enthalten. Für die Reduzierung der Oberflächenspannung der Beschichtung, eine Erhöhung der Duktilität und die Erhöhung des Glanzes der Beschichtung werden dem wässrigen Bad vorzugsweise Saccharin und 1,4 Butindiol, in einer Konzentration zwischen 1,0 g/L und 0,5 mg/L (Milligramm pro Liter), zugesetzt.
  • Überraschenderweise hat sich herausgestellt, dass das 1,4 Butindioles zu einem höheren Übergangswiderstand der Nickel-Wolfram-Legierung führt als dies beim Zusatz von Ethylenglykol der Fall ist. Die Konzentration beträgt vorzugsweise zwischen 0,5 bis 2 mg/L.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung schlägt die Beschichtung des Werkstücks, bestehend aus Kupfer, einer Kupferlegierung oder aus Stahl, in einem wässrigen Bad vor. Der pH-Wert des wässrigen Bades wird zwischen 3,0 und 5,5, besonders bevorzugt jedoch zwischen 4,0 und 5,2, eingestellt. Das Verfahren wird also im sauren pH-Bereich durchgeführt.
  • Für das Verfahren wird vorzugsweise das oben beschriebene wässrige Bad verwendet.
  • Das Verfahren eignet sich sowohl für die Beschichtungen von Bändern, Trommel- sowie Gestellteilen, die insbesondere in der Elektroindustrie verwendet werden. Die Überzüge haben eine unerwartet hohe Korrosionsbeständigkeit und verhalten sich im Verschleißtest hervorragend. Mit diesem Verfahren lassen sich rissfreie, glänzende Nickel-Wolfram-Beschichtungen abscheiden, die auch bei einer Schichtstärke von ca. 5 µm, im Gegensatz zum bisherigen Stand der Technik, nicht abblättern.
  • Der Kern der Erfindung betrifft ein wässriges Bad zur elektrolytischen Abscheidung einer silberfarbenen Nickel-Wolfram-Legierung, wobei das wässrige Bad folgende Komponenten enthält:
    • – Nickelionen und Wolframionen
    • – Mindestens eine Carbonsäure
    • – Alkalisalze mindestens einer Carbonsäure und
    • – Organische Netz- und Glanzmittel.
  • Der Kern der Erfindung bezieht sich ebenfalls auf ein Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung, wobei das Werkstück aus Kupfer, einer Kupferlegierung oder aus Stahl besteht, wobei die Beschichtung in einem wässrigen Bad durchgeführt wird und wobei der pH-Wert des wässrigen Bades zwischen 3,0 und 5,5, besonders bevorzugt jedoch zwischen 4,0 und 5,2, eingestellt wird.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • DE 102012109057 B3 [0003]

Claims (18)

  1. Wässriges Bad zur elektrolytischen Abscheidung einer silberfarbenen Nickel-Wolfram-Legierung, wobei das wässrige Bad folgende Komponenten enthält: – Nickelionen und Wolframionen – Mindestens eine Carbonsäure – Alkalisalze mindestens einer Carbonsäure und – Organische Netz- und Glanzmittel.
  2. Wässriges Bad nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, dass das wässrige Bad – Nickelionen, die vorzugsweise von Nickelchlorid und/oder Nickelsulfad und/oder Nickelsulfamat stammen, in einer Konzentration zwischen 40 bis 60 Gramm pro Liter und – Wolframionen, die vorzugsweise von Natriumwolframat stammen, in einer Konzentration zwischen 6 bis 12 Gramm pro Liter enthält.
  3. Wässriges Bad nach einem der vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das Massenverhältnis von Nickelionen zu Wolframionen 1 zu 0,2, vorzugsweise jedoch 1 zu 0,4, entspricht.
  4. Wässriges Bad nach einem der vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das wässrige Bad mindestens eine Carbonsäure und die dazugehörigen Alkalisalze enthält, die als Komplexbildner und Puffer dienen.
  5. Wässriges Bad nach vorstehendem Anspruch dadurch gekennzeichnet, dass – das wässrige Bad als Carbonsäure Weinsäure, Milchsäure, Zitronensäure, Maleinsäure, Adipinsäure, Apfelsäure, Glutarsäure, Bernsteinsäure, Essigsäure oder eine Glycolsäure oder eine Mischung der vorgenannten Säuren, enthält, – wobei die Konzentration der Carbonsäure vorzugsweise zwischen 30 bis 60 Gramm pro Liter liegt.
  6. Wässriges Bad nach einem der beiden vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, – dass als Alkalisalz Natriumsalz und/oder Kaliumsalz enthalten ist und – dass das Verhältnis von Alkalisalz und der zugehörigen Carbonsäure zwischen 5:1 und 1:5 liegt.
  7. Wässriges Bad nach einem der vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Carbonsäure zu den Wolframionen in einem Verhältnis zwischen 1:1 und 6:1, vorzugsweise in einem Verhältnis zwischen 2,5:1 bis 4:1, vorliegt.
  8. Wässriges Bad nach einem der vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das wässrige Bad Ammoniumchlorid in einer Konzentration zwischen 40 bis 60 Gramm pro Liter enthält.
  9. Wässriges Bad nach einem der vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das wässrige Bad als Netzmittel anionische und/oder nichtionische und/oder amphotere Tenside enthält.
  10. Wässriges Bad nach vorstehendem Anspruch dadurch gekennzeichnet, dass – als Anionische Tenside Fettalkoholsulfonate mit dem allgemeinem Aufbau R-O-SO3-X und/oder Alkylarylsulfonate mit dem allgemeinem Aufbau R-ArSO3Me eingesetzt werden und wobei – als nichtionische Tenside Stoffe auf der Basis von Polyethylen-, Polypropylenoxid, insbesondere Block-Copolymere mit mindestens vier Blöcken auf der Basis von Polyethylen-, Polypropylenoxid, eingesetzt werden.
  11. Wässriges Bad nach einem der beiden vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das Netzmittel in einer Konzentration zwischen 0,1 bis 10 Gramm pro Liter, vorzugsweise jedoch in einer Konzentration zwischen 0,1 bis 5,0 Gramm pro Liter, vorliegt.
  12. Wässriges Bad nach einem der vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das wässrige Bad Saccharin und/oder Ethylenglykol in einer Konzentration zwischen 0,5 bis 2,0 Gramm pro Liter enthält.
  13. Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung, wobei das Werkstück aus Kupfer, einer Kupferlegierung oder aus Stahl besteht dadurch gekennzeichnet, dass – die Beschichtung in einem wässrigen Bad durchgeführt wird und – dass der pH-Wert des wässrigen Bades zwischen 3,0 und 5,5, besonders bevorzugt jedoch zwischen 4,0 und 5,2, eingestellt wird.
  14. Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung nach vorstehendem Anspruch dadurch gekennzeichnet, dass der pH-Wert des wässrigen Bades zwischen 3,0 und 5,5, besonders bevorzugt jedoch zwischen 4,0 und 5,2, beträgt.
  15. Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung nach einem der beiden vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das wässrige Bad bei Temperaturen zwischen 20 bis 75°C, vorzugsweise jedoch zwischen 40 bis 60°C, betrieben wird.
  16. Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung nach einem der drei vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung des Werkstücks bei einer Stromdichte zwischen 0,5 bis 12,5 A/dm2, bevorzugt jedoch zwischen 1,5 bis 10 A/dm2, durchgeführt wird.
  17. Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung nach einem der vier vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass das Werkstück zwischen 10 Sekunden und 5 Minuten, vorzugsweise jedoch zwischen 15 Sekunden bis drei Minuten, beschichtet wird.
  18. Verfahren zur Beschichtung eines Werkstücks mit einer Nickel-Wolfram-Legierung nach einem der fünf vorstehenden Ansprüche dadurch gekennzeichnet, dass die Beschichtung bei einer Spannung zwischen 4 bis 6 Volt, vorzugsweise jedoch bei 6 Volt, durchgeführt wird.
DE102014118593.5A 2014-12-15 2014-12-15 Nickel-Wolfram-Legierung Withdrawn DE102014118593A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014118593.5A DE102014118593A1 (de) 2014-12-15 2014-12-15 Nickel-Wolfram-Legierung
PCT/DE2015/100435 WO2016095895A1 (de) 2014-12-15 2015-10-21 Verfahren zur abscheidung einer nickel-wolfram-legierung auf ein elektrisches kontaktelement

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102014118593.5A DE102014118593A1 (de) 2014-12-15 2014-12-15 Nickel-Wolfram-Legierung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102014118593A1 true DE102014118593A1 (de) 2016-06-16

Family

ID=56082178

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102014118593.5A Withdrawn DE102014118593A1 (de) 2014-12-15 2014-12-15 Nickel-Wolfram-Legierung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE102014118593A1 (de)

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10303649A1 (de) * 2003-01-27 2004-07-29 Hansgrohe Ag Beschichtungsverfahren
US20050173255A1 (en) * 2004-02-05 2005-08-11 George Bokisa Electroplated quaternary alloys
DE102012109057B3 (de) 2012-09-26 2013-11-07 Harting Kgaa Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Kontaktelements und elektrisches Kontaktelement

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE10303649A1 (de) * 2003-01-27 2004-07-29 Hansgrohe Ag Beschichtungsverfahren
US20050173255A1 (en) * 2004-02-05 2005-08-11 George Bokisa Electroplated quaternary alloys
DE102012109057B3 (de) 2012-09-26 2013-11-07 Harting Kgaa Verfahren zur Herstellung eines elektrischen Kontaktelements und elektrisches Kontaktelement

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP2116634B1 (de) Modifizierter Kupfer-Zinn-Elektrolyt und Verfahren zur Abscheidung von Bronzeschichten
DE102014207778B3 (de) Verwendung einer Mischung zur Verwendung in einem galvanischen Bad oder eines galvanischen Bades zur Herstellung einer Glanznickelschicht sowie Verfahren zur Herstellung eines Artikels mit einer Glanznickelschicht
DE102016205815A1 (de) Verfahren zur nickelfreien Phosphatierung von metallischen Oberflächen
EP2588645B1 (de) Verfahren zur abscheidung einer nickel-metall-schicht
AT514818A1 (de) Abscheidung von Cu, Sn, Zn-Beschichtungen auf metallischen Substraten
DE60102364T2 (de) Elektrolytische lösung zur elektrochemischen abscheidung von palladium oder dessen legierungen
DE3012168C2 (de)
DE1133957B (de) Netzmittel fuer galvanische Baeder
DE3447813A1 (de) Waessriges saures bad sowie ein verfahren zur galvanischen abscheidung von zink oder zinklegierungen
DE1222348B (de) Galvanisches Gold- oder Goldlegierungsbad
EP3067444B1 (de) Abscheidung von dekorativen palladium-eisen-legierungsbeschichtungen auf metallischen substanzen
DE102014019753A1 (de) Borsaurefreies Nickel-Bad
DE3033961C2 (de) Wäßriges Bad zum anodischen Entfernen von Metallüberzügen von einem davon verschiedenen Grundmetall sowie ein Verfahren zum anodischen Entfernen von Metallüberzügen unter Verwendung dieses Bades
DE102014118593A1 (de) Nickel-Wolfram-Legierung
DE102014019751A1 (de) Nickel-Wolfram-Legierung
DE102018133244A1 (de) Nickel-Amin-Komplex mit reduzierter Tendenz zur Bildung schädlicher Abbauprodukte
DE102014118614A1 (de) Borsäurefreies Nickel-Bad
DE888191C (de) Bad und Verfahren zur galvanischen Vernicklung
WO2016095895A1 (de) Verfahren zur abscheidung einer nickel-wolfram-legierung auf ein elektrisches kontaktelement
WO2015039647A1 (de) Galvanisches bad
EP2770088A1 (de) Hochkorrosionsfeste Stahlteile und Verfahren zu deren Herstellung
EP3415665B1 (de) Verfahren zur galvanischen abscheidung von zink-nickel-legierungsüberzügen aus einem alkalischen zink-nickel-legierungsbad mit reduziertem abbau von additiven
DE10306823B4 (de) Verfahren und Elektrolyt zur Hochgeschwindigkeitsabscheidung von Zink-Mangan-Legierungen
DE2642666A1 (de) Verfahren und zusammensetzung zur herstellung einer galvanischen abscheidung
DE3139641C2 (de) Galvanisches Bad zur Verwendung mit unlöslichen Anoden zur Abscheidung halbglänzender, duktiler und spannungsfreier Nickelüberzüge und Verfahren zu deren Abscheidung

Legal Events

Date Code Title Description
R012 Request for examination validly filed
R016 Response to examination communication
R130 Divisional application to

Ref document number: 102014019751

Country of ref document: DE

R081 Change of applicant/patentee

Owner name: HARTING AG & CO. KG, DE

Free format text: FORMER OWNER: HARTING KGAA, 32339 ESPELKAMP, DE

R119 Application deemed withdrawn, or ip right lapsed, due to non-payment of renewal fee