DE102010029050A1

DE102010029050A1 - Vergrößernde abbildende Optik sowie Metrologiesystem mit einer derartigen abbildenden Optik

Info

Publication number: DE102010029050A1
Application number: DE201010029050
Authority: DE
Inventors: Hans-Jürgen Mann; Heiko Feldmann
Original assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Current assignee: Carl Zeiss SMT GmbH
Priority date: 2010-05-18
Filing date: 2010-05-18
Publication date: 2011-03-31

Abstract

Eine vergrößernde abbildende Optik (1) hat mindestens eine Spiegelgruppe (M1; M2) mit mindestens zwei Spiegeln (M1, M2) und mindestens einem diffraktiven optischen Element (11) zur Abbildung eines Objektfeldes (2) in einer Objektebene (3) in ein Bildfeld (4) in einer Bildebene (5). Gemäß einem ersten Aspekt stellt die Bildebene (5) die nach dem Objektfeld (3) erste Feldebene der abbildenden Optik (1) dar. Gemäß einem zweiten Aspekt ist das diffraktive optische Element (11) der Spiegelgruppe (M1, M2) im Strahlengang zwischen dem Objektfeld (2) und dem Bildfeld (3) nachgeordnet. Ein räumlicher Abstand (A) zwischen einem dem Bildfeld (4) räumlich nächstliegenden Spiegel (M1) der Spiegelgruppe (M1, M2) und dem Bildfeld (4) ist kleiner als ein räumlicher Abstand (B) zwischen dem diffraktiven optischen Element (11) und dem Bildfeld (4). Die abbildende Optik (1) kann Teil eines Metrologiesystems für die Untersuchung von Objekten sein, zu dem noch eine Lichtquelle zur Ausleuchtung des Objektfeldes (3) und eine das Bildfeld (4) erfassende ortsauflösende Detektionseinrichtung gehören. Es resultiert eine abbildende Optik, deren Handhabbarkeit bei möglichst guter Abbildungsqualität verbessert ist.

Description

Die Erfindung betrifft eine vergrößernde abbildende Optik sowie ein Metrologiesystem mit einer derartigen abbildenden Optik.
Eine vergrößernde abbildende Optik der eingangs genannten Art ist zur Analyse von Auswirkungen von Eigenschaften von Masken für die Mikrolithografie aus der DE 102 20 815 A1 , DE 102 20 816 A1 , der US 6,894,837 B2 sowie den Fachartikeln "Two magnification steps EUV microscopy with a Schwarzschild objective and an adapted zone plate lens", L. Juschkin et al., Proceedings of SPIE, Volume 7360, 736005-1 bis -8, und "Microscopy of extreme ultraviolet lithography masks with 13.2 nm tabletop laser illumation", F. Brizuela et al., Optics Letters 2009, Volume 34, No. 3, Seiten 271 bis 273, bekannt.
Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine abbildende Optik der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass ihre Handhabbarkeit bei möglichst guter Abbildungsqualität verbessert ist.
Die Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch eine abbildende Optik mit den im Anspruch 1 und eine abbildende Optik mit den im Anspruch 2 angegebenen Merkmalen.
Bei der abbildenden Optik gemäß einem ersten Aspekt der Erfindung nach Anspruch 1 erfolgt keine Zwischenabbildung zwischen dem Objektfeld und dem Bildfeld. Die abbildende Optik kann daher ohne Weiteres so ausgelegt werden, dass die Spiegel der mindestens einen Spiegelgruppe nicht feldnah angeordnet sind. Dies vermeidet Herstellungsprobleme, die in der Praxis bei der Herstellung von feldnahen Spiegeln vorliegen.
Die abbildende Optik gemäß einem zweiten Aspekt der Erfindung nach Anspruch 2 kann mit vorteilhaft kurzer Baulänge ausgeführt sein, da das diffraktive optische Element räumlich zwischen den Spiegeln der Spiegelgruppe untergebracht sein kann. Bei der Baulänge handelt es sich um den Abstand der beiden am weitesten voneinander entfernt angeordneten Komponenten der abbildenden Optik, wobei als Komponenten in diesem Zusammenhang auch das Objektfeld und/oder das Bildfeld verstanden werden. In der Regel handelt es sich bei der Baulänge also um den Abstand zwischen dem Objektfeld und dem Bildfeld. Im Einzelfall, wenn nämlich beispielsweise einer der Spiegel von einem der Felder weiter entfernt ist als die beiden Felder voneinander beabstandet sind, kann es sich auch um den Abstand zwischen einem der Felder und der am weitesten von diesem entfernten Komponente handeln. Die Baulänge bezieht sich dabei immer auf einen ungefalteten Strahlengang, d. h. auf eine abbildende Optik ohne Strahlumlenkung mittels Planspiegel.
Die Vorteile einer vergrößernden abbildenden Optik nach Anspruch 3 entsprechen einer Kombination der vorstehend erläuterten Vorteile der beiden Aspekte der vergrößernden abbildenden Optik.
Die vergrößernde abbildende Optik kann genau zwei Spiegel aufweisen. Die vergrößernde abbildende Optik kann genau eine Spiegelgruppe aufweisen. Die abbildende Optik kann natürlich umgedreht auch als verkleinernde abbildende Optik benutzt werden, wobei dann Objektfeld und Bildfeld ihre Funktion tauschen und als Abbildungsmaßstab das Verhältnis zwischen Objektgröße und Bildgröße eingesetzt wird.
Eine Ausführung des diffraktiven optischen Elements als Zonenplatte führt zu vorteilhaften Design-Freiheitsgraden bei der Auslegung der vergrößernden abbildenden Optik. Eine Zonenplatten-Ausführung ist besonders in Zusammenhang mit der Abbildung von Licht mit einer Wellenlänge von Vorteil, die kleiner ist als 100 nm.
Ein Abbildungsmaßstab nach Anspruch 5 führt zu einer guten Eignung der abbildenden Optik im Rahmen eines Metrologie- und Inspektionssystems. Der Abbildungsmaßstab kann größer sein als 530, kann größer sein als 600, kann größer sein als 750, kann größer sein als 1 000, kann größer sein als 1 500 und kann größer sein als 2 000.
Eine objektseitige numerische Apertur nach Anspruch 6 ist gut an die Abbildungsverhältnisse von Projektionsobjektiven von Projektionsbelichtungsanlagen für die EUV-Mikrolithografie zur Herstellung mikro- bzw. nanostrukturierter Bauteile angepasst. Die objektseitige numerische Apertur kann mindestens 0,0825 und kann mindestens 0,125 betragen. Die abbildende Optik kann so ausgelegt sein, dass zwischen diesen numerischen Aperturen mithilfe einer Aperturblende gewechselt werden kann.
Ein objektseitiger Hauptstrahlwinkel nach Anspruch 7 ist ebenfalls an die Verhältnisse bei der EUV-Projektionsbelichtung angepasst. Der objektseitige Hauptstrahlwinkel kann auch 8° betragen. Die abbildende Optik kann für mehrere Hauptstrahlwinkel ausgelegt sein, zwischen denen mithilfe einer Aperturblende gewechselt werden kann. Dabei kann es sich um die gleiche Aperturblende handeln, mit der gegebenenfalls die objektseitige numerische Apertur einstellbar ist.
Ein On-Axis-Feld nach Anspruch 8 eignet sich insbesondere zur Abbildung eines rotationssymmetrischen, quadratischen oder rechteckigen Feldes.
Ein Off-Axis-Feld nach Anspruch 9 eignet sich insbesondere zur Abbildung eines bogenförmigen Feldes.
Eine Feldgröße nach Anspruch 10 führt zur Möglichkeit, ein räumlich ausgedehntes Objekt zu untersuchen. Die Größe des Objektfeldes kann mindestens 7,5 μm × 7,5 μm, mindestens 10 μm × 10 μm, mindestens 15 μm × 15 μm und kann 20 μm × 20 μm betragen oder sogar noch größer sein.
Ein asphärischer Spiegel nach Anspruch 11 erhöht nochmals die Freiheitsgrade beim Design der abbildenden Optik. Dieser erste Spiegel kann unabhängig von seiner möglichen asphärischen Gestaltung als konkaver Spiegel ausgeführt sein. Der asphärische Spiegel kann als konischer Spiegel, also als Spiegel ausgeführt sein, bei dem in einer Asphärengleichung lediglich der Koeffizient K, also die konische Konstante, von Null verschieden ist. Dies erleichtert die Herstellung dieses Spiegels.
Die Vorteile eines Metrologie- bzw. Inspektionssystems nach Anspruch 12 entsprechen denen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die abbildende Optik bereits erläutert wurden.
Ausführungsbeispiele der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher erläutert. In dieser zeigen:
1 einen Meridionalschnitt durch eine erste Ausführungsform einer vergrößernden abbildenden Optik zum Einsatz in einem Metrologiesystem zur Simulation und zur Analyse von Auswirkungen von Eigenschaften von Lithographiemasken auf eine optische Abbildung innerhalb einer Projektionsoptik einer Projektionsbelichtungsanlage für die Mikrolithographie;
2 in einer zu 1 ähnlichen Darstellung eine weitere Ausführungsform der abbildenden Optik und
3 stark schematisch und in Bezug auf den dargestellten Strahlengang nicht maßstabsgetreu ein Metrologiesystem, bei dem die vergrößerenden abbildenden Optiken zum Einsatz kommen können.
Eine vergrößernde abbildende Optik 1, die in der 1 dargestellt ist, wird in einem Metrologiesystem zur Analyse eines so genannten Luftbildes (Aerial Image Metrology System, AIMS) eingesetzt und dient zur Simulation und Analyse der Auswirkungen von Eigenschaften von Lithographiemasken, die wiederum bei der Projektionsbelichtung zur Herstellung von Halbleiterbauelementen zum Einsatz kommen, auf die optische Abbildung von Projektionsoptiken innerhalb der Projektionsbelichtungsanlage. AIMS-Systeme sind aus der DE 102 20 815 A1 (vergleiche dort 9) und der DE 102 20 816 A1 (vergleiche dort 2) bekannt.
Die abbildende Optik 1 bildet ein Objektfeld 2 in einer Objektebene 3 mit einem Vergrößerungsfaktor (Abbildungsmaßstab β) von 750 in ein Bildfeld 4 in einer Bildebene 5 ab. Im Objektfeld 2 kann die zu vermessende Lithographiemaske, die auch als Retikel bezeichnet ist, angeordnet sein. Im Bildfeld 4 kann zur Analyse des erzeugten, vergrößerten Bildes ein CCD-Chip einer CCD-Kamera angeordnet sein.
Zur Erleichterung der Darstellung von Lagebeziehungen wird nachfolgend ein kartesisches xyz-Koordinatensystem verwendet. Die x-Achse verläuft in der 1 senkrecht zur Zeichenebene in diese hinein. Die y-Achse verläuft in der 1 nach oben. Die z-Achse verläuft in der 1 nach rechts.
Dargestellt ist in der 1 der Verlauf von Hauptstrahlen 6 sowie von Komastrahlen 7, 8, die von einer Mehrzahl von in der y-Richtung übereinanderliegenden Objektfeldpunkten ausgehen. Die Hauptstrahlen 6 einerseits und die Komastrahlen 7, 8 andererseits werden nachfolgend auch als Abbildungsstrahlen bezeichnet.
Das Objektfeld 2 einerseits und das Bildfeld 4 andererseits liegen in zueinander beabstandeten xy-Ebenen.
Die Hauptstrahlen 6 gehen im Abbildungsstrahlengang zwischen dem Objektfeld 2 und dem Bildfeld 4 vom Objektfeld 2 mit einem Hauptstrahlwinkel α von 8° zu einer in z-Richtung verlaufenden Normalen 9 auf einem zentralen Objektfeldpunkt der Objektebene 3 aus.
Eine objektfeldseitige numerische Apertur der abbildenden Optik 1 beträgt NAO = 0,125. Mithilfe einer dezentrierbaren Aperturblende 10 kann die objektfeldseitige numerische Apertur auf NAO = 0,0625 oder NAO = 0,0825 reduziert werden, wobei dabei gleichzeitig ein Hauptstrahlwinkel α von 6° realisiert werden kann.
In der Bildebene 5 treffen die Abbildungsstrahlen 6 bis 8 nahezu senkrecht zur Bildebene 5 und nahezu parallel zueinander auf das Bildfeld 4.
Im Abbildungsstrahlengang zwischen dem Objektfeld 2 und dem Bildfeld 4 hat die abbildende Optik 1 genau zwei Spiegel, die in der Reihenfolge ihrer Anordnung im Abbildungsstrahlengang nachfolgend mit M1 und M2 bezeichnet werden. Die beiden Spiegel M1, M2 stellen die einzige Spiegelgruppe der abbildenden Optik 1 dar. Der im Strahlengang erste Spiegel M1 nach dem Objektfeld 2 ist konkav und asphärisch gestaltet. Der im Strahlengang nachfolgende zweite Spiegel M2 ist sphärisch und konvex gestaltet.
Dargestellt sind in der 1 die Schnittkurven von Parentflächen, die für die mathematische Modellierung der Reflexionsflächen der Spiegel M1 und M2 eingesetzt werden. In der dargestellten Schnittebene tatsächlich physikalisch vorhanden sind diejenigen Bereiche der Reflexionsflächen der Spiegel M1 und M2, die von den Komastrahlen 7, 8 und zwischen den Komastrahlen 7, 8 tatsächlich mit Abbildungsstrahlung beaufschlagt werden.
Eine gemeinsame Rotations-Symmetrieachse der Reflexionsflächen der abbildenden Optik 1, also der Spiegel M1 und M2, die auch als optische Achse oA bezeichnet ist, fällt mit der Normalen 9 auf den zentralen Objektfeldpunkt zusammen. Das Objektfeld 2 der abbildenden Optik 1 nach 1 und das Bildfeld 4 sind auf der optischen Achse oA zentriert (on-axis).
Im Abbildungsstrahlengang zwischen dem Objektfeld 2 und dem Bildfeld 4 ist dem Spiegel M2 ein diffraktives optisches Element 11 in Form einer Zonenplatte nachgeordnet. Die Zonenplatte 11 sorgt gemeinsam mit der Spiegelgruppe M1, M2 für die Abbildung des Objektfeldes 2 in das Bildfeld 4.
Die Bildebene 4 stellt im Abbildungsstrahlengang der Abbildungsoptik 1 die nach dem Objektfeld 2 erste Feldebene der abbildenden Optik 1 dar. Die abbildende Optik 1 hat also kein Zwischenbild.
Ein räumlicher Abstand A zwischen den dem Bildfeld 4 räumlich nächstliegenden Spiegel M1 der Spiegelgruppe M1, M2 und dem Bildfeld 4 ist kleiner als ein räumlicher Abstand B zwischen dem diffraktiven optischen Element 11 und dem Bildfeld 4. Bei der Ausführung nach 1 beträgt das Verhältnis A/B etwa 1/9. Auch andere Abstandsverhältnisse A/B im Bereich zwischen 1/1,1 und 1/20, insbesondere von 1/1,5, 1/2, 1/3, 1/4, 1/5, 1/6, 1/7, 1/8, 1/10, 1/12 oder 1/15 oder Zwischenwerte sind möglich.
Die abbildende Optik 1 ist ausgelegt auf eine Betriebswellenlänge von 13,5 nm.

Optische Daten der abbildenden Optik 1 nach 1 werden nachfolgend anhand einer Tabelle wiedergegeben. Diese Tabelle zeigt in der Spalte „Radius” jeweils den Krümmungsradius der Spiegel M1 und M2. Die dritte Spalte (Dicke) beschreibt den Abstand, ausgehend von der Objektebene 3, jeweils zur nachfolgenden Oberfläche in z-Richtung. Soweit es sich bei den nachfolgenden Zahlenangaben um Längenangaben handelt und nichts anderes angegeben ist, ist jeweils die Einheit mm zu verwenden.

Fläche	Radius	Dicke	Betriebsmodus
Objekt	Unendlich	169,519947
Aperturblende	Unendlich	818,402049
M1	–818,07818	–695,553966	REFL
M2	–5,06502	257,631970	REFL
Zonenplatte	Unendlich	500,000000
Bild	Unendlich	0,000

Bei der Zonenplatte 11 kommt die erste Beugungsordnung der Abbildungsstrahlen zum Einsatz.
Die Anordnung der diffraktiven Strukturen auf der Zonenplatte 11 lässt sich anhand einer Beschreibung modellieren, die von der Interferenz zweier Kugelwellen ausgeht. Eine entsprechende Modellbeschreibung ist offenbart im Code V 10.2 Reference Manual, Seiten 4-135 bis 4-138. Zur Realisierung der Zonenplatte 11 sind in die dort gegebene Beschreibung folgende Parameterwerte einzusetzen:
HV1: VIR
HV2: REA
HOR: 1,000000
HX1 = HY1 = HX2 = HY2 = 0
HZ1: –0,674846E+02
HZ2: –0,10000E–21
HWL: 13,50
HCT: R
BLT: Ideal
Die bei der Modellbeschreibung verwendete Phasenfunktion hat die Gestalt eines rotationssymmetrischen (geraden) Polynoms entsprechend folgender Formel:
Bei dieser Formel sind lediglich die Koeffizienten C₂, C₃ und C₄ von Null verschieden und haben folgende Werte:
C₂: 7,0454E–06
C₃: -2,1503E–05
C₄: 1,7167E–05
Die Aperturblende 10 ist gegenüber der optischen Achse oA in der x-Richtung nicht und in der y-Richtung um den Wert –23,903602 versetzt angeordnet.
Die genaue Oberflächenform der Reflexionsflächen des Spiegels M1 wird durch folgende Asphärengleichung für die Pfeilhöhe z(h) beschrieben:
h stellt hierbei den Abstand zur optischen Achse, also zur Normalen 9, der abbildenden Optik 1 dar. Es gilt also h² = x² + y². Für c wird in die Gleichung der Kehrwert von „Radius” eingesetzt.
Bei der asphärischen Flächenbeschreibung der Reflexionsfläche des Spiegels M1 ist lediglich die konische Konstante K von Null verschieden und hat den Wert K = –0,028827.
Eine Baulänge T, also ein Abstand zwischen der Objektebene 3 und der Bildebene 5, beträgt 1 050 mm.
Eine Feldgröße in der Objektebene 3 beträgt 20 μm × 20 μm. Innerhalb dieser Feldgröße ist das Objektfeld 2 also abbildungsfehlerkorrigiert. Entsprechend ist das Bildfeld 4 dann innerhalb eines Radius von 15 mm abbildungsfehlerkorrigiert.
Die abbildende Optik 1 ist also Teil eines Metrologiesystems 12 (vgl. 3). Zu diesem Metrologiesystem 12 gehören noch eine Lichtquelle 13 sowie eine Beleuchtungsoptik zur Ausleuchtung eines Retikels 14 innerhalb des Objektfeldes 2 und der im Zusammenhang mit dem Bildfeld 4 schon angesprochene CCD-Chip 15, der Teil einer Detektionseinrichtung des Metrologiesystems ist. Das Retikel 14 stellt das mit dem Metrologiesystem 12 zu untersuchende Objekt dar.
Als Lichtquellen kommen die auch für Lithografiesysteme üblichen EUW-Lichtquellen 13 in Frage, also beispielsweise Laser-Plasma-Quellen (LPP; laser produced plasma) oder auch Entladungsquellen (DPP; discharge produced plasma).
Anhand der 2 wird nachfolgend eine weitere Ausführung einer abbildenden Optik 16 beschrieben, die anstelle der abbildenden Optik 1 nach 1 zum Einsatz kommen kann. Komponenten und Funktionen, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bereits erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
Bei der abbildenden Optik 16 sind das Objektfeld 2 und das Bildfeld 4 in Bezug auf die optische Achse 9 dezentriert (off-axis) angeordnet. Eine Felddezentrierung y_DE des Objektfeldes 2 hat bei der abbildenden Optik 16 einen Absolutwert von 50 μm. Auch die abbildende Optik 16 hat einen vergrößerten Abbildungsmaßstab β von 750. Eine Felddezentrierung y_DE des Bildfeldes 4 beträgt bei der abbildenden Optik 16 also 37,5 mm.

Die optischen Daten der abbildenden Optik 16 nach 2 werden nachfolgend anhand einer Tabelle wiedergegeben, die vom Aufbau her der Tabelle der abbildenden Optik 1 nach 1 entspricht.

Fläche	Radius	Dicke	Betriebsmodus
Objekt	Unendlich	192,483390
Aperturblende	Unendlich	847,51610
M1	–859,07424	–726,972232	REFL
M2	–9,70337	390,313565	REFL
Zonenplatte	Unendlich	500,000000
Bild	Unendlich	0,000

Bei der Zonenplatte 11 kommt die erste Beugungsordnung der Abbildungsstrahlen zum Einsatz.
Die Anordnung der diffraktiven Strukturen auf der Zonenplatte 11 lässt sich anhand einer Beschreibung modellieren, die von der Interferenz zweier Kugelwellen ausgeht. Eine entsprechende Modellbeschreibung ist offenbart im Code V 10.2 Reference Manual, Seiten 4-135 bis 4-138. Zur Realisierung der Zonenplatte 11 sind in die dort gegebene Beschreibung folgende Parameterwerte einzusetzen:
HV1: VIR
HV2: REA
HOR: 1,000000
HX1 = HY1 = HX2 = HY2 = 0
HZ1: –0,460981E+02
HZ2: –0,10000E+21
HWL: 13,50
HCT: R
BLT: Ideal
Die bei der Modellbeschreibung verwendete Phasenfunktion hat die Gestalt eines rotationssymmetrischen (geraden) Polynoms entsprechend folgender Formel:
Bei dieser Formel sind lediglich die Koeffizienten C₂, C₃ und C₄ von Null verschieden und haben folgende Werte:
C₂: -2,813E–06
C₃: 1,1379E–07
C₄: –2,5442E–09
Bei der abbildenden Optik 16 ist die Aperturblende 10 um einen y-Wert von –27,191627 dezentriert angeordnet.
Auch bei der abbildenden Optik 16 ist der Spiegel M1 ein konisch asphärischer konkaver Spiegel, dessen Reflexionsfläche wiederum mit der vorstehend bereits angegebenen Asphärengleichung beschrieben werden kann. Außer der konischen Konstante K sind zur Flächenbeschreibung des Spiegels M2 in der abbildenden Optik 16 wiederum alle anderen Konstanten Null. Die konische Konstante K hat bei der Flächenbeschreibung des Spiegels M1 der abbildenden Optik 16 den Wert K = –0,028923.

In der nachfolgenden Tabelle werden noch einige Parameter der beiden abbildenden Optiken 1 und 16 zusammengefasst dargestellt.

	Abbildende Optik 1	Abbildende Optik 16
Baulänge [mm]	1050	1203
NAO	0.125	0.125
Abbildungsmaßstab	750	750
CRAO [°]	8	8
Feldgröße [μm × μm]	20 × 20	20 × 20
Felddezentrierung [μm]	0	50
Durchmesser M1 [mm]	240	251
Durchmesser M2 [mm]	0.86	1.67
Durchmesser ZPL [mm]	1.61	1.31
Asphärizität M1 [μm]	7.2	7.7
Radius M2 [mm]	5.1	9.7
Wellenfrontfehler rms [mλ]	2.2	8.9
Verzeichnung [μm]	< 1	< 1

CRAO bezeichnet den Hauptstrahlwinkel, ausgehend vom Objektfeld 2. Der Wert ”Feldgröße” gibt die Größe des jeweiligen Objektfelds 2 an. Die Felddezentrierung betrifft das jeweilige Objektfeld 2 und ist gemessen in der y-Richtung. Die Durchmesserwerte für die Spiegel M1, M2 geben die Durchmesser der optisch genutzten Reflexionsfläche an. Der Wert ”Durchmesser ZPL” gibt den optisch genutzten Durchmesser der Zonenplatte 11 an.
Der Wert Asphärizität beschreibt die maximale Formabweichung einer asphärischen Fläche von einer bestpassenden sphärischen Fläche. Diese Größe hängt dann von den Asphärenparametern, also auch von der konischen Konstante ab, jedoch ebenso von dem optisch genutzten Bereich der Fläche.
Die Werte „Wellenfrontfehler” und „Verzeichnung” beziehen sich auf das gesamte jeweilige Objektfeld 2.
Die Baulänge 5 der jeweilig abbildenden Optik 1, 16 bezieht sich immer auf eine ungefaltete Ausgestaltung der abbildenden Optik 1, 16, also auf eine Ausgestaltung ohne rein umlenkend wirkende zwischengeschaltete Planspiegel. Die Baulänge 5 wird entweder durch den Abstand zwischen dem Objektfeld 2 und dem Bildfeld 4, durch den Abstand zwischen dem Objektfeld und der zu diesem entferntesten optischen Komponente oder durch den Abstand zwischen dem Bildfeld und der von diesem entferntesten optischen Komponente definiert.
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Zitierte Patentliteratur

DE 10220815 A1 [0002, 0022]
DE 10220816 A1 [0002, 0022]
US 6894837 B2 [0002]

Zitierte Nicht-Patentliteratur

”Two magnification steps EUV microscopy with a Schwarzschild objective and an adapted zone plate lens”, L. Juschkin et al., Proceedings of SPIE, Volume 7360, 736005-1 bis -8 [0002]
”Microscopy of extreme ultraviolet lithography masks with 13.2 nm tabletop laser illumation”, F. Brizuela et al., Optics Letters 2009, Volume 34, No. 3, Seiten 271 bis 273 [0002]
Code V 10.2 Reference Manual, Seiten 4-135 bis 4-138 [0039]
Code V 10.2 Reference Manual, Seiten 4-135 bis 4-138 [0054]

Claims

Vergrößernde abbildende Optik (1; 16) – mit mindestens einer Spiegelgruppe (M1, M2) mit mindestens zwei Spiegeln (M1, M2) und mindestens einem diffraktiven optischen Element (11) zur Abbildung eines Objektfeldes (2) in einer Objektebene (3) in ein Bildfeld (4) in einer Bildebene (5), – wobei die Bildebene (5) die nach dem Objektfeld (3) erste Feldebene der abbildenden Optik (1; 16) darstellt.
Vergrößernde abbildende Optik (1; 16) – mit mindestens einer Spiegelgruppe (M1, M2) mit mindestens zwei Spiegeln (M1, M2) und mindestens einem diffraktiven optischen Element (11) zur Abbildung eines Objektfeldes (2) in einer Objektebene (3) in ein Bildfeld (4) in einer Bildebene (5), – wobei das diffraktive optische Element (11) der Spiegelgruppe (M1, M2) im Strahlengang zwischen dem Objektfeld (2) und dem Bildfeld (4) nachgeordnet ist, – wobei ein räumlicher Abstand (A) zwischen einem dem Bildfeld (4) räumlich nächstliegenden Spiegel (M1) der Spiegelgruppe (M1, M2) und dem Bildfeld (4) kleiner ist als ein räumlicher Abstand (B) zwischen dem diffraktiven optischen Element (11) und dem Bildfeld (4).
Vergrößernde abbildende Optik (1; 16) nach Anspruch 1 und 2.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das diffraktive optische Element (11) als Zonenplatte ausgeführt ist.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 4, gekennzeichnet durch einen Abbildungsmaßstab, der größer ist als 500.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 5, gekennzeichnet durch eine objektseitige numerische Apertur von mindestens 0,0625.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 6, gekennzeichnet durch einen objektseitigen Hauptstrahlwinkel von mindestens 6°.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Objektfeld (2) und das Bildfeld (4) in Bezug auf eine optische Achse (oA) der abbildenden Optik (1) zentriert angeordnet sind.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Objektfeld (2) und das Bildfeld (4) in Bezug auf eine optische Achse (oA) der abbildenden Optik (16) dezentriert angeordnet sind.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 9, gekennzeichnet durch eine Größe des Objektfeldes (2) von mindestens 5 μm × 5 μm.
Abbildende Optik nach einem der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass ein im Strahlengang dem Objektfeld (2) nachgeordneter erster Spiegel (M1) der Spiegelgruppe (M1, M2) als asphärischer Spiegel gestaltet ist.
Metrologiesystem für die Untersuchung von Objekten – mit einer abbildenden Optik (1; 16) nach einem der Ansprüche 1 bis 11, – mit einer Lichtquelle (13) zur Ausleuchtung des Objektfeldes (3), – mit einer das Bildfeld (4) erfassenden ortsauflösenden Detektionseinrichtung (15).