DE102008051492A1 - Vorrichtung zum Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen - Google Patents

Vorrichtung zum Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen Download PDF

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Abstract

Vorrichtung zum Schmelzen und/oder Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen, insbesondere von Silicium und Kühlplatte zur Wärmeabfuhr aus einer Schmelze, Verfahren zur Herstellung einer solchen Kühlplatte sowie Verwendung der Vorrichtung zur Herstellung von multikristallinem Silicium, insbesondere für Anwendungen in der Photovoltaik, nach dem vertical gradient freeze-Verfahren.

Description

  • Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Schmelzen und/oder Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen, insbesondere von Silicium. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Kühlplatte zur Wärmeabfuhr aus einer Schmelze, sowie ein Verfahren zur Herstellung einer solchen Kühlplatte. Des Weiteren betrifft die Erfindung eine Verwendung der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Herstellung von multikristallinem Silicium nach dem vertical gradient freeze-Verfahren, insbesondere für Anwendungen in der Photovoltaik.
  • Es ist bekannt, Nicht-Eisen-Metalle, wie Silicium, in Quarzkokillen einzuschmelzen und kristallisieren zu lassen, um multikristalline Siliciumblöcke für die Weiterverarbeitung in der Photovoltaik herzustellen. Während des Kristallisierens und Abkühlens des Nicht-Eisen-Metalls erfolgt eine Wärmeabfuhr durch Abstrahlung von Wärme an den Außenwänden der Kokille und der Oberfläche des Siliciums. Bei diesem Verfahren ist das Silicium möglichst gleichmäßig abzukühlen, da ansonsten starke thermische Spannungen entstehen können, die eine Versetzungsbildung und Versetzungsmultiplikation begünstigen und Risse in dem erstarrten, blockförmigen Silicium verursachen. Des Weiteren würde eine ungleichmäßige Abkühlung eine Rückdiffusion von Fremdstoffen, insbesondere Metallen, aus Randbereichen in das Innere des blockförmigen Siliciums begünstigen. Sowohl die Versetzung als auch die rückdiffundierten Fremdstoffe wirken als Rekombinationszentren und reduzieren den photovoltaischen Wirkungsgrad von Solarzellen.
  • Aus dem deutschen Patent DE 10 2005 013 410 B4 ist eine Vorrichtung und ein Verfahren zum gerichteten Erstarren von Halbleitermaterialien bekannt. Der Behälter zur Aufnahme des flüssigen Halbleitermaterials weist einen Boden auf, wobei ein steuerbares Kühlelement zur Abfuhr von Wärme von dem Boden vorgesehen ist. Zusätzlich ist ein steuerbares Heizelement zur Zufuhr von Wärme zu dem Boden vorgesehen, um ein homogenes Temperaturprofil am Boden zu erhalten. Nachteilig ist, dass ein wesentlicher Teil der durch den Bodenheizer erzeugten Wärme an das Kühlfluid abgegeben wird.
  • Eine Aufgabe der Erfindung besteht darin, eine Kühlplatte so auszugestalten, dass ein vergleichbares Temperaturprofil im Boden bei deutlich verringerter Heizleistung erreicht werden kann.
  • Die Aufgabe wird gelöst durch die Gegenstände der unabhängigen Patentansprüche. In den jeweiligen Unteransprüchen sind bevorzugte Ausführungsformen angegeben. Die erfindungsgemäße Kühlplatte dient zur Wärmeabfuhr aus einer Schmelze, insbesondere einer Schmelze von Nicht-Eisen-Metall, wie beispielsweise Silicium. In der Kühlplatte sind Kühlkanäle angeordnet, welche zur Durchleitung eines Kühlfluids dienen. Die Kühlkanäle sind dabei in mindestens einer ersten Erstreckungsrichtung der Kühlplatte verlaufend angeordnet, im Wesentlichen parallel zueinander. Jeder Kühlkanal weist dabei einen Kanalquerschnitt auf, wobei unter dem Kanalquerschnitt der von dem Kühlfluid in Strömungsrichtung senkrecht durchströmte Querschnitt zu verstehen ist. Die Kanalquerschnitte der Kühlkanäle addieren sich zu einem Gesamtquerschnitt der Kühlplatte. Erfindungsgemäß ist der Gesamtquerschnitt ungleichmäßig über mindestens eine zweite Erstreckungsrichtung der Kühlplatte verteilt. Die Verteilung des Gesamtquerschnitts der Kühlkanäle über die zweite Erstreckungsrichtung der Kühlplatte hinweg könnte in diesem Sinne auch als inhomogen bezeichnet werden. Soweit hier auf Nicht-Eisen-Metallen Bezug genommen wird, soll dies auch Halbleiter mit einschließen.
  • Ein Vorteil der erfindungsgemäßen Kühlplatte liegt darin, dass mit der ungleichmäßigen Verteilung des Gesamtquerschnitts auch die Fähigkeit zur Ableitung von Wärmeenergie aus der Schmelze nicht gleichmäßig über die Fläche der Kühlplatte verteilt ist. Die erfindungsgemäße Kühlplatte ist somit vorteilhaft an die Verhältnisse einer zu kristallisierenden Schmelze anpassbar, deren Wärmeabstrahlung ebenso wenig homogen über einen Boden einer Schmelzkokille verteilt ist. Insgesamt ist so ein vergleichsweise homogenes Temperaturprofil über den Boden erreichbar. Die Schmelzkokille wird auch als Quarzkokille oder Quarzguttiegel bezeichnet.
  • Die Kühlplatte im Sinne der Erfindung weist eine flache Grundform auf, d. h. sie erstreckt sich im Wesentlichen in einer Ebene, welche durch zwei Haupterstreckungsrichtungen der Kühlplatte definiert ist. Die erste Erstreckungsrichtung der Kühlplatte und die zweite Erstreckungsrichtung der Kühlplatte entsprechen im Wesentlichen den Haupterstreckungsrichtungen, d. h. die erste Erstreckungsrichtung ist vorzugsweise senkrecht zu der zweiten Erstreckungsrichtung ausgerichtet. Eine Fläche der Kühlplatte erstreckt sich in der Ebene der zwei Haupterstreckungsrichtungen.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist in einem zentralen Bereich der Kühlplatte ein größerer An teil des Gesamtquerschnitts angeordnet, als in einem Randbereich der Kühlplatte. Unter dem zentralen Bereich der Kühlplatte ist der um einen Mittelpunkt bzw. einen Flächenschwerpunkt der Kühlplatte herum angeordnete Bereich zu verstehen, welcher insbesondere von dem Rand der Kühlplatte beabstandet ist. Der Randbereich im Sinne der Erfindung ist gerade derjenige Bereich der Kühlplattenfläche, welche außerhalb des zentralen Bereichs liegt und sich in der Regel bis an die Ränder der Kühlplatte erstreckt. Der zentrale Bereich und der Randbereich weisen vorzugsweise in etwa vergleichbar große Teiloberflächen der Kühlplattenoberfläche auf. So wird eine verstärkte Wärmeabfuhr in dem zentralen Bereich erreicht, was in der Regel bei der Kristallisation von Schmelzen vorteilhaft ist. Die geometrische Form des zentralen Bereichs ist gegebenenfalls abhängig von der Grundform der jeweiligen Kokille.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung ist der Gesamtquerschnitt ungleichmäßig über die erste Erstreckungsrichtung der Kühlplatte verteilt. Durch eine ungleichmäßige oder inhomogene Verteilung des Gesamtquerschnitts in der ersten und der zweiten Erstreckungsrichtung ergibt sich vorteilhaft eine zweidimensionale, inhomogene Verteilung des Querschnitts und damit der Fähigkeit zur Ableitung von Wärme aus de Schmelze.
  • Gemäß einer besonders bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind Kühlkanäle auch in der zweiten Erstreckungsrichtung der Kühlplatte verlaufend angeordnet. Diese dienen ebenfalls zur Durchleitung des Kühlfluids, wobei sich zwischen den Kühlkanälen der ersten Erstreckungsrichtung und den Kühlkanälen der zweiten Erstreckungsrichtung eine vorzugsweise dünne, den Wärmeübergang wenig behindernde Mate rialbarriere befindet, deren Stärke ausreichend ist, um die jeweiligen Kühlkanäle fluiddicht voneinander zu trennen. Vorzugsweise addieren sich die Kanalquerschnitte der in der zweiten Erstreckungsrichtung verlaufenden Kühlkanäle zu einem Gesamtquerschnitt der zweiten Erstreckungsrichtung, wobei dieser Gesamtquerschnitt der zweiten Erstreckungsrichtung ungleichmäßig über die erste Erstreckungsrichtung der Kühlplatte verteilt ist. Vorteilhafterweise besteht so eine ungleichförmige Verteilung der Kanalquerschnitte in der ersten und in der zweiten Erstreckungsrichtung, also über die Fläche der Kühlplatte. Es wird so vorteilhaft eine Kühlplatte zur Verfügung gestellt, welche eine gezielte ungleichmäßige Verteilung der über sie ableitbaren Wärmemenge aufweist. Die Kühlplatte kann so an die Temperaturverhältnisse einer kristallisierenden Schmelze hinsichtlich deren Flächenverteilung angepasst werden, so dass letztlich ein vergleichsweise homogenes Temperaturprofil im Boden der Schmelzkokille erreicht werden kann.
  • Eine zweidimensionale Verteilung des Gesamtquerschnitts lässt sich alternativ gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung realisieren, worin die Kanalquerschnitte mindestens eines Teils der Kühlkanäle in Strömungsrichtung des Kühlfluids zumindest von dem Randbereich zu dem zentralen Bereich hin anwachsend ausgebildet sind. Auf quer verlaufende, also in der zweiten Erstreckungsrichtung verlaufende Kühlkanäle kann so gegebenenfalls verzichtet werden. Durch eine Veränderung des Kanalquerschnitts entlang seiner Länge kann vorteilhaft auch in dieser Richtung die Wärmeabfuhr eingestellt werden.
  • Eine Verteilung des Gesamtquerschnitts über die erste und/oder die zweite Erstreckungsrichtung der Kühlplatte lässt sich mittels mathematischer Ausdrücke angeben. Im Folgenden wird der Begriff Verteilung des Gesamtquerschnitts und Verteilung der Kanalquerschnitte gleichbedeutend verwendet, da die Verteilung des Gesamtquerschnitts sich aus der Verteilung der Kanalquerschnitte ergibt. Die Verteilung besteht in der ersten Erstreckungsrichtung und/oder in der zweiten Erstreckungsrichtung, ohne dass darauf jeweils im Einzelnen eingegangen wird.
  • Bevorzugt ist ein streng monoton abfallender Verlauf der Verteilung des Kanalquerschnitts von Mitte der Kühlplatte zum Rand der Kühlplatte, besonders bevorzugt ein linearer Verlauf. Der Fachmann erkennt, dass diese Idealisierung mit einer endlichen Mehrzahl von Kühlkanälen nur angenähert erreichbar ist. Tatsächlich wird der Kanalquerschnitt von der Mitte der Kühlplatte zu einem Rand der Kühlplatte hin stets schrittweise abnehmen, vorzugsweise kontinuierlich.
  • Insbesondere ist es bevorzugt, dass die Querschnitte der Kühlkanäle, welche in dem zentralen Bereich angeordnet sind, bzw. durch diesen verlaufen, größer sind, als die Querschnitte derjenigen Kühlkanäle, welche in dem Randbereich angeordnet sind. Besonders bevorzugt nimmt der Querschnitt der Kühlkanäle von der Mitte der Kühlplatte zu ihren Rändern hin schrittweise, bevorzugt kontinuierlich ab. Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform, sind die Querschnitte der Kühlkanäle im Wesentlichen gleich, wobei in dem zentralen Bereich mehr Kühlkanäle angeordnet sind, als in dem Randbereich. Besonders bevorzugt steigt ein Abstand zwischen den Kühlkanälen von der Mitte der Kühlplatte zu den Rändern der Kühlplatte hin schrittweise, bevorzugt kontinuierlich an.
  • Gemäß einer weiteren bevorzugten Ausführungsform der Erfindung sind die Kühlkanäle in einem Gegenstromverfahren durchströmbar. Das bedeutet, dass zumindest ein Teil der Kühlkanäle so ausgebildet ist, dass das Kühlfluid diese in einer entgegengesetzten Richtung durchströmt als andere Kühlkanäle. Dadurch wird die Fähigkeit zur Wärmeaufnahme entlang der Strömungsrichtung des Fluids, bzw. in der Erstreckungsrichtung der Kühlkanäle homogenisiert. Bevorzugt ist eine erste Gruppe der Kühlkanäle in der ersten Erstreckungsrichtung durchströmbar und eine zweite Gruppe der Kühlkanäle entgegen der ersten Erstreckungsrichtung durchströmbar. Zusätzlich oder alternativ ist vorzugsweise eine erste Gruppe der Kühlkanäle in der zweiten Erstreckungsrichtung durchströmbar und eine zweite Gruppe der Kühlkanäle entgegen der zweiten Erstreckungsrichtung durchströmbar.
  • Bevorzugt werden jeweils zwei benachbarte Kühlkanäle in jeweils unterschiedlicher Richtung durchströmt. In der zweiten Erstreckungsrichtung und/oder in der ersten Erstreckungsrichtung ist vorzugsweise jeweils abwechselnd ein Kanal der ersten Gruppe und ein Kanal der zweiten Gruppe angeordnet. Dies kann beispielsweise realisiert werden, indem die einzelnen Kühlkanäle zu einem mäandrierenden Kanal zusammengeschlossen sind. Es ist jedoch bevorzugt, dass das Kühlfluid die Kühlplatte nur einmal durchströmt. Dazu weist die Kühlplatte vorzugsweise geeignete Zuführvorrichtungen an der Eingangsseite der Kühlkanäle und entsprechende Abführvorrichtungen an der Abflussseite der Kühlkanäle auf. Bei Realisierung des Gegenstromverfahrens muss auf jeder Seite der Kühlplatte sowohl eine Zufuhr- als auch eine Abführvorrichtung vorgesehen sein. Als Zuführeinrichtung ist bevorzugt jeweils ein Sammelkanal vorgesehen, wobei der Sammelkanal besonders bevorzugt so groß ausgelegt ist, dass Druckschwankungen ausgeglichen werden und nach Möglichkeit alle an den Sammelkanal angeschlossenen Kühlkanäle gleichermaßen mit Kühlfluid unter entsprechendem Betriebsdruck versorgt werden. Weiterhin bevorzugt erfolgt eine Zuleitung des Kühlfluids zu dem Sammelkanal in dessen mittlerem Bereich, so dass vorteilhaft ein nicht vollständig vermeidbarer Druckabfall über die Länge des Sammelkanals dazu führt, dass die in dem zentralen Bereich angeordneten, bzw. diesen durchströmenden Kühlkanäle mit einem höheren Druck des Kühlfluids versorgt werden, als die in dem Randbereich verlaufenden Kühlkanäle.
  • Das Kühlfluid kann nach dem Durchströmen der Kühlplatte über einen Wärmetauscher geführt werden, um anschließend erneut die Kühlplatte zu durchströmen. Alternativ dazu ist der Kühlfluidkreislauf offen, d. h. die Kühlplatte wird laufend mit neuem Kühlfluid durchströmt, welches nach dem Durchströmen vorzugsweise für eine spätere Wiederverwendung gesammelt wird.
  • Die Kühlkanäle sind bevorzugt im Wesentlichen rechteckig ausgeführt, wobei der umgesetzte hydraulische Durchmesser bestimmt, welche Wärmemenge mit dem bevorzugt gasförmigen Kühlfluid abführbar ist. Die Kühlkanäle unterscheiden sich besonders bevorzugt hinsichtlich ihrer Breite und weisen eine konstante Tiefe auf. Die Kühlplatte ist vorzugsweise aus Graphit hergestellt.
  • Ein weiterer Gegenstand der Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Schmelzen und/oder Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen und/oder Halbleitermaterial, wobei die Vorrichtung eine erfindungsgemäße Kühlplatte aufweist. In der Regel weist eine solche Vorrichtung im Übrigen einen Kessel, eine Isolation, eine Heizeinrichtung zur Zufuhr von Wärme in das Nicht-Eisen-Metall und/oder Halbleitermaterial und ein Tiegelsystem auf, wobei die Kühlplatte unterhalb des Tiegels angeordnet ist.
  • Die Wärmeabfuhr über die Kühlplatte ist bevorzugt steuerbar. Dazu ist bevorzugt der Druck des Kühlfluids bzw. die Durchflussmenge regelbar, beispielsweise mit Hilfe entsprechender Pumpen und/oder Ventile. Das verwendete Kühlfluid ist vorzugsweise gasförmig. Vorzugsweise wird Stickstoff, Argon oder Helium oder ein Gemisch von mindestens zweien dieser Gase verwendet. Während eines Schmelzvorgangs in der erfindungsgemäßen Vorrichtung ist die Kühlplatte vorzugsweise nicht aktiv, d. h. es wird kein Kühlfluid durch die Kühlkanäle zirkuliert. Die Heizeinrichtung weist vorzugsweise keinen sogenannten Bodenheizer unter dem Tiegel auf. Die erfindungsgemäße Kühlplatte kann jedoch durchaus auch mit einem vorhandenen Bodenheizer betrieben werden. Bereits dabei kommt es vorteilhaft zu einer Energieeinsparung.
  • Ein weiterer Gegenstand der Erfindung betrifft ein Herstellungsverfahren für eine erfindungsgemäße Kühlplatte, wobei die Kühlplatte aus mehreren Bauteilen zusammengesetzt wird und wobei die Kühlkanäle in eine erste Platte in der ersten Erstreckungsrichtung eingebracht werden. Das konkrete Herstellungsverfahren ist im Wesentlichen von der Kühlkanalquerschnittsform abhängig. Denkbar sind unter anderem rechteckige, quadratische und runde Kühlkanalquerschnitte, wobei Kühlkanäle mit rundem Querschnitt in der Regel durch Bohren in die Platte eingebracht werden. Unabhängig von der Form der Kühlkanalquerschnitte werden an die erste Platte ein oder mehrere Sammel- und/oder Verteilerkanäle ange setzt, welche zumindest jeweils Gruppen der Kühlkanäle miteinander verbinden.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des Herstellungsverfahrens werden Kanäle aus einer Oberfläche der ersten Platte in der ersten Erstreckungsrichtung herausgearbeitet, vorzugsweise gefräst. Die erste Platte wird mit einer zweiten Platte dann so verbunden, dass die Kanäle bedeckt werden. Durch den beschriebenen Vorgang entstehen bevorzugt Kühlkanäle mit rechteckigem Querschnitt. Die Herstellung ist beispielsweise gegenüber dem Bohren von Kühlkanälen deutlich vereinfacht. Dagegen entfällt bei gebohrten Kühlkanälen der Aufbau mit mehreren, übereinander angeordneten Platten.
  • Die Verbindung der Platten untereinander bzw. mit den Sammel- und/oder Verteilerkanälen kann lösbar oder unlösbar ausgeführt sein. Die Platten werden bevorzugt durch Kraft- und/oder Formschlüssige Verbindungen durch Klebemittel oder mittels Dichtungen und Zug- oder Spannankern fluiddicht zusammengehalten. Auch können Nut- und Federsysteme oder Verschraubungen vorgesehen werden.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens werden aus einer weiteren Oberfläche der ersten Platte und/oder aus einer Oberfläche der zweiten Platte in der zweiten Erstreckungsrichtung Kanäle herausgearbeitet, vorzugsweise gefräst und anschließend die erste Platte und/oder die zweite Platte mit mindestens einer dritten Platte verbunden. Die erste Erstreckungsrichtung ist dabei vorzugsweise senkrecht zu der zweiten Erstreckungsrichtung angeordnet. Die so hergestellte Kühlplatte weist vorteilhaft quer zueinander verlaufende Kühlkanäle in mindestens zwei verschiedenen Ebenen auf. Der Fachmann erkennt, dass im Sinne der Erfindung eine Vielzahl von Ebenen mit Kühlkanälen in einer Kühlplatte realisiert sein kann.
  • Die Erfindung betrifft weiterhin eine Verwendung einer erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Herstellung von multikristallinem Silicium nach dem Vertical Gradient Freeze-Verfahren, insbesondere für Anwendungen in der Photovoltaik.
  • Nachfolgend wird die Erfindung anhand von Zeichnungen näher erläutert. Die Ausführungen betreffen alle Gegenstände der Erfindung. Die dargestellten Ausführungsformen sind beispielhaft und grenzen den allgemeinen Erfindungsgedanken nicht ein.
  • Es zeigen
  • 1 einen grundsätzlichen schematischen Aufbau einer Vorrichtung zum Schmelzen und/oder Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen;
  • 2 und 3 Diagramme zur Erläuterung der Funktion der Vorrichtung gemäß 1;
  • 3 eine schematische Darstellung einer erfindungsgemäßen Kühlplatte;
  • 5a, 5b und 5c schematische Schnittdarstellungen verschiedener Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Kühlplatte.
  • Anhand der 1 wird eine Vorrichtung (10) zum Schmelzen und/oder Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen beschrieben. Im Wesentlichen besteht die Anlage aus einem Kessel (13), einer Isolation (nicht dargestellt), einer Heizeinrichtung (11), einem Tiegel (12) und einer Kühlplatte (1). Der Kessel (13) ist in der Regel aus Edelstahl gefertigt. Es ist jedoch auch möglich, ihn aus Normalstahl herzustellen. Der Kessel besteht aus einem Mittelteil, einem Boden und einem Deckel (nicht dargestellt). Der Kessel kann beispielsweise doppelwandig ausgeführt und wassergekühlt sein. Ein Be- und Entladen des Kessels erfolgt in der Regel über den Boden, welcher abgelassen und herausgefahren werden kann. Innerhalb des Kessels (13) befindet sich eine nicht dargestellte Isolation aus Graphitharzfilz, welche die Kesselwand von der Wärme, die beim Aufschmelzen entsteht, abschirmt und dafür sorgt, dass die eingebrachte Energie während des Aufschmelzens innerhalb der Anlage bleibt. Innerhalb der Isolation sind ein bis drei Heizer der Heizeinrichtung (11) angeordnet, hier beispielsweise ein Decken-, ein Boden- und ein Umfangheizer. Bei den Heizern handelt es sich um widerstandsbeheizte Graphitheizelemente. Die Heizer dienen sowohl zum Aufschmelzen von Nicht-Eisen-Metallen, als auch zur Steuerung der Kristallisation. Die Heizer sind so angeordnet, dass eine möglichst große Gleichmäßigkeit der Temperatur beim Aufschmelzen erreicht werden kann. Gleichzeitig sind die Heizelemente (11) so angeordnet, dass es möglich ist, die Erstarrung durch Herunterfahren der Heizer zu steuern. Die Temperatur wird dabei vorzugsweise linear abgesenkt. Beim Aufschmelzen wird der größte Anteil durch den oben angeordneten Deckenheizer geleistet, da dieser unmittelbar auf das Nicht-Eisen-Metall strahlt. Der Umfangheizer besteht bei viereckigen Tiegeln beispielsweise aus vier Einzelteilen, welche an den Ecken miteinander ver bunden sind. Diese Verbindung ist so ausgeführt, dass es in den Ecken nicht zu einer Verschlechterung des Temperaturprofils kommt.
  • Bei der Erstarrung der Schmelze dient der Umfangheizer dazu, die Kristallisationsfront des Nicht-Eisen-Metalls möglichst eben zu halten. Eine konkave oder konvexe Kristallisationsfront soll vermieden werden, da diese Blockformen zu mehr Abfall bei der Weiterverarbeitung des kristallisierten Blocks führen. Der Bodenheizer ist hier zwischen der Kühlplatte (1) und dem Tiegelboden angeordnet. Beim Aufschmelzen führt der Bodenheizer Wärme durch den Tiegelboden zu und unterstützt damit den Schmelzvorgang. Eine Kühlplatte nach dem Stand der Technik ist beispielsweise eine wassergekühlte Kupferkühlplatte, welche während des gesamten Prozesses Wärme abführt. Dies ist bei der Kristallisation erwünscht, beim Aufschmelzen dagegen sehr nachteilhaft. Die Kristallisationsphase wird eingeleitet, indem der Bodenheizer auf eine Temperatur unterhalb der Erstarrungstemperatur des Nicht-Eisen-Metalls gebracht wird. Silicium beispielsweise beginnt bei 1410°C zu kristallisieren. Bei der Herstellung von Solarsiliciumblöcken ist es entscheidend, diese Temperatur möglichst gleichmäßig über den gesamten Tiegelboden zu erreichen. Im Anschluss an diesen sogenannten Ankeimvorgang wird mit Hilfe des Bodenheizers die Temperatur weiter heruntergefahren. Die bei dem Kristallwachstum frei werdende Wärme wird mit Hilfe der Kühlplatte abgeführt.
  • Das Tiegelsystem der erfindungsgemäßen Vorrichtung besteht aus einem mehrteiligen Stütztiegel und einem Schmelztiegel. Der Schmelztiegel besteht vorzugsweise aus beschichtetem Quarzgut, wodurch ein Anbacken des Siliciums vermieden wird. Der Stütztiegel aus Graphitplatten ist notwendig, da der Schmelztiegel beim Aufschmelzen weich wird.
  • Bei einem Prozess zur Herstellung von Siliciumblöcken für die Herstellung von Solarwafern nach dem sogenannten ”vertical gradient freeze” (VGF) Verfahren handelt es sich prinzipiell um einen Umschmelzprozess, bei dem zunächst der Schmelztiegel mit Rohsilicium befüllt wird. Dieses kann beispielsweise als Granulat oder als Stückgut vorliegen. Nach dem Befüllen des Tiegels wird der Kessel (13) evakuiert und anschließend mit einem Prozessgas beaufschlagt, beispielsweise mit Argon. Das Rohsilicium wird bei einer Temperatur von 1450°C aufgeschmolzen und die Schmelze noch einige Zeit bei dieser Temperatur gehalten, um vorhandene Verunreinigungen an die Oberfläche der Schmelze zu bringen. Um die Kristallisation einzuleiten, wird die Temperatur des Bodenheizers auf 1390°C eingestellt. Es kommt zur Ankeimung und Kristallisation der Schmelze am Boden des Tiegels. Die Temperaturen aller Heizer werden abgesenkt, bis das gesamte Silicium erstarrt ist. Anschließend wird in der Regel die Temperatur noch einmal in einem Temperschritt angehoben.
  • In der 2 ist in einem Diagramm ein Energiefluss der Heizeinrichtung (11, 1) dargestellt. In Schritt (100) wird elektrische Energie in die Heizeinrichtung geleitet. In Schritt (101) wird diese Energie in der Heizeinrichtung induktiv in Wärme umgewandelt. Das Aufschmelzen des Siliciums ist Schritt (102). Anschließend wird in Schritt (103) die Erstarrung eingeleitet. Über die Kühlplatte wird in Schritt (104) die Kristallisationswärme abgeführt, indem die Wärmeenergie auf das Kühlfluid übertragen wird, Schritt (105).
  • In der 3 ist derselbe Energiefluss durch die einzelnen Bauteile aufgezeigt. Die elektrische Energie von einem Netzgerät (106) gelangt über einen Transformator (107) in die Heizeinrichtung (11). Die widerstandsbeheizten Heizer werden dann durch den elektrischen Strom erwärmt und schmelzen das gesamte Silicium auf. Nach dem Aufschmelzen wird durch das Herunterfahren der Heizer die Kristallisation gesteuert, die Kühlplatte (1) führt dann zuletzt die Energie ab.
  • In der 4 ist eine erfindungsgemäße Kühlplatte (1) schematisch dargestellt. Es handelt sich dabei vorzugsweise um eine gasgekühlte Graphitplatte. Die Kühlplatte (1) erstreckt sich in einer Ebene, welche durch eine erste Erstreckungsrichtung x und eine zweite Erstreckungsrichtung y der Kühlplatte (1) aufgespannt wird. In der ersten Erstreckungsrichtung x verlaufen Kühlkanäle (2) durch die Kühlplatte (1), wobei die mit dem Bezugszeichen (21) gekennzeichneten Kühlkanäle in einer entgegengesetzten Richtung durchströmt werden, wie die mit dem Bezugszeichen (20) gekennzeichneten Kühlkanäle. Vorzugsweise weist die Kühlplatte (1) auch in ihrer zweiten Erstreckungsrichtung y Kühlkanäle (2) auf. Hierbei werden die mit dem Bezugszeichen (23) gekennzeichneten Kühlkanäle in entgegengesetzter Richtung durchströmt, wie die mit dem Bezugszeichen (22) gekennzeichneten Kühlkanäle. In der dargestellten Ausführungsform der Kühlplatte (1) ist also sowohl das Gegenstromprinzip zum Wärmetausch verwirklicht, wie auch überkreuzende Kühlkanäle.
  • Die Kanalquerschnitte der einzelnen Kühlkanäle (2) addieren sich zu einem Gesamtquerschnitt, welcher erfindungsgemäß ungleichmäßig über die zweite Erstreckungsrichtung y, bzw. über die zweite Erstreckungsrichtung y und die erste Erstreckungsrichtung x verteilt ist. Der Gesamtquerschnitt bzw. die Kanalquerschnitte haben einen wesentlichen Einfluss auf die mittels der Kühlplatte (1) abführbare Wärmemenge. Die Fähigkeit zur Abführung von Wärme ist daher über die Fläche der Kühlplatte (1) ebenfalls ungleichmäßig verteilt. Auf diese Art und Weise lässt sich die ebenfalls ungleichförmig über die Bodenfläche des Tiegels verteilte Kristallisationswärme so ausgleichen, dass ein homogenes Temperaturprofil entsteht. Durch die erfindungsgemäße Kühlplatte lassen sich Temperaturdifferenzen in der Keimzone von weniger als 10° Kelvin erreichen. Vorzugsweise wird dazu kein Bodenheizer eingesetzt. So lassen sich vorteilhaft höhere Wachstumsraten des Siliciumkristalls von beispielsweise 35 Millimeter pro Stunde erreichen.
  • In einem zentralen Bereich (3), welcher hier durch eine gestrichelte Linie angedeutet ist, fällt eine höhere Wärmemenge an, als in einem Randbereich (4). Die erfindungsgemäße Kühlplatte (1) kann daher in dem zentralen Bereich (3) eine größere Wärmemenge ableiten, als in dem Randbereich (4). Dazu ist ein größerer Anteil des Gesamtquerschnitts in dem zentralen Bereich (3) angeordnet, als in dem Randbereich (4). Bevorzugt ist dies dadurch realisiert, dass der mit dem Bezugszeichen (24) gekennzeichnete Kühlkanal einen größeren Kanalquerschnitt aufweist, als der mit dem Bezugszeichen (25) bezeichnete Kanal, welcher in dem Randbereich (4) liegt. Die zwischen den, mit (24) und (25) bezeichneten Kühlkanälen liegenden Kühlkanäle können beispielsweise den gleichen Kanalquerschnitt wie der Kühlkanal (24) oder der Kühlkanal (25) aufweisen. Bevorzugt wird der Kanalquerschnitt jedoch von innen nach außen schrittweise kleiner, vergleiche 5a.
  • In den 5a, 5b und 5c sind schematisch Querschnitte durch zwei verschiedene Ausführungsformen der erfindungsgemäßen Kühlplatte (1) dargestellt. Wie zuvor beschrieben, nimmt der Querschnitt der Kühlkanäle (2) gemäß 5a von dem mittleren, größten Kühlkanal mit der Breite (26) schrittweise nach außen hin ab, wobei der äußerste Kühlkanal (2) die Breite (27) aufweist, welche deutlich geringer ist, als die Breite (26) des größten Kühlkanals. Die Tiefe der Kühlkanäle wird vorzugsweise nicht variiert. In 5b ist eine alternative Ausführungsform dargestellt, bei der alle Kühlkanäle (2) den gleichen Kanalquerschnitt aufweisen. Der Gesamtquerschnitt ist dennoch ungleichmäßig über die erste Erstreckungsrichtung x bzw. die zweite Erstreckungsrichtung y (siehe 2) verteilt, da Zwischenräume (32) zwischen den Kühlkanälen (2) von innen nach außen hin größer werden. So hat beispielsweise ein in dem zentralen Bereich liegender Abstand die Breite (28), während der äußerste Abstand eine deutlich größere Breite (29) aufweist. In den 5a und 5b ist erkennbar, dass die erfindungsgemäße Kühlplatte (1) aus zwei Graphitplatten (30, 31) besteht, wobei die Kühlkanäle (2) in die erste Platte (30) hineingefräst sind. Die zweite Platte (31) dient zum Abdecken der gefrästen Kühlkanäle (2). In der 5c ist eine Kühlplatte (1) mit Kühlkanälen (2) mit Kreisquerschnitt in der ersten Platte (30) dargestellt, wobei die Kühlkanäle eine vergleichbare Verteilung aufweisen, wie in der
  • 5b.
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - DE 102005013410 B4 [0003]

Claims (14)

  1. Kühlplatte (1) zur Wärmeabfuhr aus einer Schmelze, wobei Kühlkanäle (2) zur Durchleitung eines Kühlfluids in mindestens einer ersten Erstreckungsrichtung (x) der Kühlplatte verlaufend angeordnet sind, wobei jeder Kühlkanal (2) einen Kanalquerschnitt aufweist und die Kanalquerschnitte der Kühlkanäle sich zu einem Gesamtquerschnitt addieren, wobei der Gesamtquerschnitt ungleichmäßig über mindestens einer zweiten Erstreckungsrichtung (y) der Kühlplatte (1) verteilt ist.
  2. Kühlplatte nach Patentanspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass in einem zentralen Bereich (3) der Kühlplatte (1) ein größerer Anteil des Gesamtquerschnitts angeordnet ist, als in einem Randbereich (4) der Kühlplatte.
  3. Kühlplatte nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass der Gesamtquerschnitt ungleichmäßig über die erste Erstreckungsrichtung (x) der Kühlplatte (1) verteilt ist.
  4. Kühlplatte nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass Kühlkanäle (2) zur Durchleitung des Kühlfluids in der zweiten Erstreckungsrichtung (y) der Kühlplatte (1) verlaufend angeordnet sind.
  5. Kühlplatte nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kühlkanäle (2) nach einem Gegenstromprinzip durchströmbar sind.
  6. Kühlplatte nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Querschnitte der Kühlkanäle in dem zentralen Bereich (3) größer sind, als in dem Randbereich (4).
  7. Kühlplatte nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Querschnitte der Kühlkanäle im Wesentlichen gleich sind, wobei in dem zentralen Bereich (3) mehr Kühlkanäle angeordnet sind, als in dem Randbereich (4).
  8. Kühlplatte nach einem der vorhergehenden Patentansprüche, dadurch gekennzeichnet, dass die Kanalquerschnitte mindestens eines Teils der Kühlkanäle (2) in einer Strömungsrichtung des Kühlfluids zumindest von dem Randbereich (4) bis zu dem zentralen Bereich (3) hin anwachsend ausgebildet sind.
  9. Vorrichtung (10) zum Schmelzen und/oder Kristallisieren von Nicht-Eisen-Metallen und/oder Halbleitermaterial, insbesondere Silicium, gekennzeichnet durch eine Kühlplatte (1) zur Wärmeabfuhr aus dem Nicht-Eisen-Metall gemäß einem der vorhergehenden Patentansprüche.
  10. Vorrichtung (10) nach Patentanspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass ein gasförmiges Kühlmittel als Kühlfluid verwendet wird.
  11. Verfahren zur Herstellung einer Kühlplatte gemäß einem der Patentansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die Kühlplatte aus mehreren Bauteilen zusammengesetzt wird, wobei die Kühlkanäle in eine erste Platte (30) in der ersten Erstreckungsrichtung (x) eingebracht werden.
  12. Verfahren zur Herstellung nach Patentanspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass die Kühlkanäle aus einer Oberfläche der ersten Platte (30) in der ersten Erstreckungsrichtung (x) herausgearbeitet werden und die erste Platte mit einer zweiten Platte (31) so verbunden wird, dass die Kühlkanäle bedeckt werden.
  13. Verfahren zur Herstellung nach einem der Patentansprüche 11 oder 12, dadurch gekennzeichnet, dass aus einer weiteren Oberfläche der ersten Platte oder der zweiten Platte Kühlkanäle in der zweiten Erstreckungsrichtung (y) herausgearbeitet werden und die zweite oder erste Platte mit einer dritten Platte so verbunden wird, dass die Kühlkanäle in der zweiten Erstreckungsrichtung (y) bedeckt werden.
  14. Verwendung einer Vorrichtung nach einem der Patentansprüche 9 oder 10, zur Herstellung von multikristallinem Silicium nach dem Vertical Gradient Freeze-Verfahren, insbesondere für Anwendungen in der Photovoltaik.
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