DE102008037419A1 - Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts - Google Patents

Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts Download PDF

Info

Publication number
DE102008037419A1
DE102008037419A1 DE102008037419A DE102008037419A DE102008037419A1 DE 102008037419 A1 DE102008037419 A1 DE 102008037419A1 DE 102008037419 A DE102008037419 A DE 102008037419A DE 102008037419 A DE102008037419 A DE 102008037419A DE 102008037419 A1 DE102008037419 A1 DE 102008037419A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
holder
leg
ccd sensors
wafer
shaped object
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Withdrawn
Application number
DE102008037419A
Other languages
English (en)
Inventor
Ulrich Pohlmann
Gert Weniger
Frank Rennicke
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
KLA Tencor MIE Jena GmbH
Original Assignee
Vistec Semiconductor Systems Jena GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Vistec Semiconductor Systems Jena GmbH filed Critical Vistec Semiconductor Systems Jena GmbH
Priority to DE102008037419A priority Critical patent/DE102008037419A1/de
Priority to US12/556,175 priority patent/US8125653B2/en
Publication of DE102008037419A1 publication Critical patent/DE102008037419A1/de
Withdrawn legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67005Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/67242Apparatus for monitoring, sorting or marking
    • H01L21/67259Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection
    • H01L21/67265Position monitoring, e.g. misposition detection or presence detection of substrates stored in a container, a magazine, a carrier, a boat or the like
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/677Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations
    • H01L21/67739Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for conveying, e.g. between different workstations into and out of processing chamber
    • H01L21/67742Mechanical parts of transfer devices

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Bestimmen der Position eines scheibenförmigen Objektes, insbesondere eines Wafers (10). Dabei ist auf einem beweglichen Trägerelement (13) ein Halter (14) zum Halten der einen Sensoreinrichtung vorgesehen.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes, insbesondere eines Wafers, nach dem Oberbegriff von Anspruch 1. Weiterhin betrifft die Erfindung ein Verfahren zum Erkennen der Position eines scheibenförmigen Objektes, insbesondere eines Wafers, mit den Merkmalen des Oberbegriffs von Anspruch 10. Die Erfindung betrifft darüber hinaus einen Halter zum Halten einer Sensoreinrichtung nach dem Oberbegriff von Anspruch 16.
  • Bei der industriellen Fertigung von Chips für die Halbleiterindustrie werden integrierte Schaltungen auf scheibenförmigen Objekten durch mehrere aufeinander folgende Verfahrensschritte hergestellt. Im Rahmen dieser Fertigung ist es erforderlich, dass die einzelnen scheibenförmigen Träger, im Folgenden auch Wafer genannt, von einer Bearbeitungsstation zu einer anderen Bearbeitungsstation oder einer Inspektionsstation transportiert werden müssen. Üblicherweise wird hierzu ein so genannter Roboterarm eingesetzt, der den Wafer aus einem Stapel vereinzelt und beispielsweise einer Einrichtung zur Inspektion des Wafers zuführt. Ein derartiges Handhabungssystem für Wafer mit einem zugehörigen Roboterarm ist beispielsweise aus der US 2003/0031537 A1 bekannt. Das dort beschriebene Handhabungssystem weist auch einen Roboterarm auf, mit dessen Hilfe die Wafer von einer Ladestation an eine Inspektionsstation übergeben werden.
  • Bei der Übergabe in die Inspektionseinrichtung ist es wichtig zu gewährleisten, dass der Wafer möglichst definiert, insbesondere zentriert in einer Bearbei tungsstation eingelegt wird. Hierzu ist beispielsweise aus der US 2006/187445 A1 eine Aufnahmeeinrichtung zum Halten eines Wafers bekannt, die vier Kontaktelemente aufweist, auf denen der Wafer abgelegt wird. Zur weiteren Verbesserung wurde in der DE 10 2007 010 223 bereits ein Verfahren zur Bestimmung geometrischer Parameter eines Wafers vorgeschlagen. Dabei wird der Wafer von einem Roboterarm in eine Aufnahmeeinrichtung eingelegt, die mindestens drei mechanische Kontaktelemente aufweist, auf denen der Wafer zum Liegen kommt. Eines der Kontaktelemente ist beweglich ausgestaltet. Die Kontaktelemente sind auf der Aufnahmeeinrichtung so verteilt, dass sie eine geometrische Figur aufspannen, die derart ausgestaltet ist, dass der Mittelpunkt des Wafers innerhalb der geometrischen Figur zu liegen kommt. Die Position eines jeden Kontaktelements wird ermittelt. Aus der Position der Kontaktelemente wird dann der jeweilig gewünschte geometrische Parameter des Wafers berechnet.
  • Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, eine Vorrichtung und ein Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes bereitzustellen, sowie einen hierzu geeigneten Halter vorzuschlagen, wobei die Zuverlässigkeit der Positionierung des scheibenförmigen Objektes verbessert werden kann.
  • Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch eine Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes mit den Merkmalen gemäß Anspruch 1 gelöst. Im Hinblick auf das Verfahren wird die Aufgabe durch ein Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes mit den Merkmalen gemäß Anspruch 10 gelöst. In Bezug auf den Halter wird die Aufgabe durch einen Halter mit den Merkmalen gemäß Anspruch 16 gelöst.
  • Demgemäß wird mit der vorliegenden Erfindung eine Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes vorgeschlagen, wobei das Objekt insbesondere ein Wafer sein kann. Die Vorrichtung weist ein bewegliches Trägerelement und einen Halter zum Aufnehmen einer Sensoreinrichtung auf. Die Sensoreinrichtung ist bevorzugt in den Halter eingebracht oder auf diesen aufgebracht, wobei der Halter mit dem Trägerelement verbunden ist und das Trägerelement beweglich ausgestaltet ist.
  • Eine häufige Einsatzmöglichkeit einer derartigen Vorrichtung ist eine Ausführung, bei der das Trägerelement ein Roboterarm eines End Efektor Moduls ist. Der Roboterarm kann dabei insbesondere gabelförmig ausgestaltet sein, wobei der Halter auf dem gabelförmigen Roboterarm befestigt ist.
  • In einer bevorzugten Ausführungsform der Erfindung wird die Sensoreinrichtung als optische Sensoreinrichtung, insbesondere als eine Mehrzahl von CCD-Sensoren ausgestaltet. Damit kann berührungslos die Position eines auf dem Halter liegenden Objekts über die Abdeckung der CCD-Sensoren erkannt werden.
  • Weiterhin wird der Halter bevorzugt so ausgeführt, dass er einen ersten und einen zweiten Schenkel aufweist. Dabei sind die CCD-Sensoren jeweils paarweise auf je einem der Schenkel angeordnet, so dass ein erstes Paar der CCD-Sensoren auf dem ersten Schenkel und ein zweites Paar der CCD-Sensoren auf dem zweiten Schenkel positioniert ist. Die CCD-Sensoren auf dem ersten Schenkel und/oder auf dem zweiten Schenkel können zueinander in Richtung der Achse des Schenkels versetzt angeordnet sein. Damit ergibt sich eine einfache Möglichkeit, den Mittelpunkt oder andere geometrische Daten eines auf dem Halter liegenden scheibenförmigen Objektes zu berechnen.
  • Der Halter kann so ausgestaltet sein, dass er einen Verbindungsarm zum einfachen Verbinden des Halters mit dem Trägerelement sowie eine Sensorplatte aufweist. Die Sensoreinrichtung nimmt dabei die Sensorelemente auf.
  • Zur Bestimmung der Lage des scheibenförmigen Objektes wird das scheibenförmige Objekt auf dem Trägerelement so positioniert, dass es zumindest teilweise den Halter überdeckt, wobei der Halter an dem beweglichen Trägerelement befestigt ist. Mit einer auf dem Halter vorgesehenen Sensoreinrichtung wird ein Signal erzeugt. Aus dem Signal werden dann Daten ermittelt, die auf geometrische Größen, insbesondere die Lage des Randes oder des Mittelpunktes des scheibenförmigen Objektes schließen lassen.
  • In einer besonders bevorzugten Ausführungsform des erfindungsgemäßen Verfahrens wird als Sensoreinrichtung eine Mehrzahl optischer Elemente, insbesondere CCD-Sensoren, verwendet. So kann der Halter mit dem scheibenförmigen Objekt in eine Messposition gebracht werden, wo dann eine Beleuchtung erfolgt. Damit kann ermittelt werden, ob und gegebenenfalls welche Teile der optischen Elemente durch das scheibenförmigen Objekt bei Beleuchtung abgeschattet werden. Damit kann berührungslos der Rand des Objektes ebenso ermittelt werden wie dessen Mittelpunkt.
  • Sobald die geometrischen Daten ermittelt sind kann weiterhin geprüft werden, ob das Objekt richtig, d. h. im Rahmen eines vorgegebenen Wertebereichs für die ermittelten geometrischen Daten positioniert ist. Sollte dies nicht der Fall sein, kann das Objekt wieder abgelegt und/oder eine Fehlermeldung ausgegeben werden. Ebenso ist es möglich, das Objekt nach dem Ablegen erneut aufzunehmen, um die Position auf dem Trägerelement zu korrigieren, wobei die bereits ermittelten geometrischen Daten über die Positionierung des Objekts berücksichtigt werden können.
  • Der erfindungsgemäße Halter zum Aufnehmen einer Sensoreinrichtung weist eine optische Sensoreinrichtung, insbesondere CCD-Sensoren, auf. Beim Ablegen des scheibenförmigen Objektes auf dem Halter werden diese zumindest teilweise abgedeckt.
  • Besonders bevorzugt ist eine Ausgestaltung des Halters, in der er einen ersten Schenkel und einen zweiten Schenkel aufweist. Auf jedem der Schenkel ist jeweils ein Paar der CCD-Sensoren angeordnet. Von besonderem Vorteil ist dabei eine Ausgestaltung, bei der die auf dem ersten Schenkel angeordneten CCD-Sensoren in Richtung der Schenkelachse zueinander versetzt sind und/oder die auf dem zweiten Schenkel angeordneten CCD-Sensoren in Richtung der Schenkelachse zueinander versetzt sind. Damit lässt sich die Positionierung des scheibenförmigen Objektes auf dem Halter besonders exakt und berührungsfrei ermitteln, denn die geometrischen Daten ergeben sich aus der unterschiedlichen Abdeckung der CCD-Sensoren, sowie deren Abstand und Versatz zueinander, wobei beide Daten für die Ausgestaltung des Halters konstant und bekannt sind.
  • Weitere Vorteile und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der nachfolgenden Figuren sowie deren Beschreibungsteile. Dabei bezeichnen in den Figuren identische Bezugszeichen identische oder im Wesentlichen gleich wirkende Elemente oder Funktionsgruppen.
  • Es zeigen im Einzelnen:
  • 1 eine schematische Darstellung einer Handhabungseinrichtung zum Handhaben von Wafern mit einem Roboterarm;
  • 2 eine schematische Darstellung der erfindungsgemäßen Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes;
  • 3 eine Draufsicht auf einen Halter, der eine Mehrzahl von CCD-Sensoren aufweist;
  • 4 eine schematische Darstellung zum Einbringen eines scheibenförmigen Objektes in eine Messposition;
  • 5 eine schematische Darstellung des Ablaufs zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes.
  • In 1 ist schematisch eine Handhabungseinrichtung 10 zum Handhaben von Wafern 12 mit einem Roboterarm 22 dargestellt. Die Handhabungseinrichtung 10 wird in der Halbleiterfertigung üblicherweise als End Efektor Module (EFEM) bezeichnet. Eine Mehrzahl von Wafern 12 ist in einer Ladestation 24 untergebracht. Von dieser wird jeweils ein einzelner Wafer 12 mit dem Roboterarm 22 entnommen und in eine Bearbeitungs- oder Inspektionsstation 15 übergeführt. In der Bearbeitungs- oder Inspektionsstation 15 wird der Wafer 12 üblicherweise in einer Aufnahmeeinheit gehalten, wie sie beispielsweise aus der US 2006/187445 bekannt ist. Um nun die Ablagegenauigkeit des Wafers in der Bearbeitungs- oder Inspektionsstation 15 zu verbessern, ist es vor teilhaft, die Position des Wafers 12 auf dem Roboterarm 22 bereits beim Herausnehmen aus der Ladestation 24 zu bestimmen und gegebenenfalls zu korrigieren. Damit wird eine sichere Ausgangsposition erreicht und der Vorgang des Ablegens des Wafers im Hinblick auf die exakte Positionierung verbessert.
  • Entsprechend zeigt die schematische Darstellung in 2 die erfindungsgemäße Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes anhand eines ebenfalls schematisch dargestellten Wafers 12. Die Vorrichtung ist dabei so ausgeführt, dass ein Halter 14 auf einem Trägerelement angeordnet ist, wobei das Trägerelement im vorliegenden Beispiel als gabelförmiger Roboterarm 22 ausgestaltet ist. Mit dem beweglichen Roboterarm 22 kann ein Wafer 12 aus der Ladestation 24 (1) entnommen werden. Der Halter 14 ist als zusätzliches Element auf dem Roboterarm 22 aufgebracht und dient zum Aufnehmen wenigstens einer Sensoreinrichtung 11. Die Sensoreinrichtung 11 ist dazu geeignet, die Positionierung eines auf dem Roboterarm 22 liegenden Wafers 12 zu ermitteln. Im dargestellten Beispiel überdeckt der Wafer 12 die beiden Sensoreinrichtungen 11 zum Teil, so dass Teile des Randes 32 des Wafers 12 geometrisch durch die Sensoreinrichtung 11 verlaufen. Aus dem Grad der Überdeckung der Sensoreinrichtungen 11 lässt sich die Positionierung des Wafers 12 auf dem Roboterarm 22 ermitteln. Beispielsweise kann die Sensoreinrichtung 11 als optisches Element ausgeführt sein, das Licht abstrahlt oder das in der Lage ist, einfallendes Licht zu erkennen. Mit einem derartigen optischen Element kann bereits über die Intensität des einfallenden Lichts ein Rückschluss auf den Grad der Abdeckung des optischen Elements gezogen werden, woraus sich wiederum die Positionierung des Wafers 12 auf dem Roboterarm 22 ermitteln lässt. Strahlt das optische Element Licht ab, so kann die Positionierung des Wafers 12 auf dem Roboterarm 22 dadurch ermittelt werden, dass mit einem geeignet positionierten Empfänger ermittelt wird, wie viel Licht und/oder von welchen Orten Licht vom Halter 14 empfangen wird, denn dies wird durch die Abdeckung des Sensorelements 11 durch den Wafer 12 bestimmt.
  • Eine bevorzugte Ausgestaltung eines Halters 14, der eine Mehrzahl von CCD-Sensoren 16a, 16b, 16c, 16d aufweist, ist in 3 näher dargestellt. Der Halter 14 ist hufeisenförmig ausgeführt. Erweist einen Verbindungsarm 28 zum Befestigen des Halters 14 an dem Roboterarm 22 auf. Weiterhin weist der Halter 14 eine Sensorplatte 26 auf. Die Sensorplatte 26 und damit der Halter 14 weisen einen ersten Schenkel 18 und einen zweiten Schenkel 20 auf, die sich jeweils entlang einer Schenkelachse 19 erstrecken. An den Enden der Schenkel 18 und 20 sind jeweils ein Paar CCD-Sensoren 16a, 16b, und 16c, 16d angeordnet. Jedes der CCD-Sensoren weist eine Mehrzahl von lichtempfindlichen Elementen auf. Bevorzugt ist jedes Paar CCD-Sensoren 16a, 16b, und 16c, 16d in Richtung der Schenkelachse 19 versetzt zueinander angeordnet. Wird nun ein Wafer 12 auf dem Roboterarm 22 abgelegt, so überdeckt der Wafer typischerweise jeden der CCD-Sensoren, wobei der Rand 32 des Wafers 12 die CCD-Sensoren 16a, 16b, 16c, 16d an unterschiedlichen Positionen durchläuft. Aus dem relativen Versatz der CCD-Sensorpaare 16a, 16b, und 16c, 16d zueinander und dem Grad der Überdeckung der einzelnen CCD-Sensoren 16a, 16b, 16c, 16d können geometrische Größen wie beispielsweise der Verlauf des Randes 32 des Wafers 12 oder die Lage seines Mittelpunkts bestimmt werden, welche die Ablageposition des Wafers 12 auf dem Roboterarm 22 charakterisieren. Zur Ermittlung dieser Größen aus den Sensorsignalen kann auf dem Halter 14 eine Auswerteeinrichtung 30 vorgesehen werden, die beispielsweise als elektronischer Schaltkreis oder als Recheneinheit ausgestaltet sein kann.
  • Zur Positionsbestimmung ist es in dieser Ausgestaltung der Erfindung erforderlich, dass die CCD-Sensoren beleuchtet werden. Wie in 4 schematisch dargestellt, wird daher ein Wafer 12 von dem Roboterarm 22 aus der Ladestation 24 so entnommen, dass er zum Teil auch auf dem Halter 14 zum Liegen kommt. Der Roboterarm 22 fährt dann in eine Messposition, in der eine Beleuchtung 34 aktiviert wird. So kann über die oben beschriebenen CCD-Sensoren 16a, 16b, 16c, 16d die Lage des Wafers auf dem Roboterarm 22 ermittelt werden, wobei die Abdeckung der CCD-Sensoren ausgewertet wird. Ist die Ablage auf dem Roboterarm 22 hinreichend korrekt, d. h. liegen die ermittelten geometrischen Werte im Rahmen vorgegebener Toleranzwerte, so kann der Wafer zur Bearbeitungs- oder Inspektionsstation 15 weiter transportiert werden. Ist dies nicht der Fall, so kann der Wafer 12 wieder in der Ladestation 24 abgelegt und erneut vom Roboterarm 22 in einer verbesserten Positionierung entnommen werden.
  • In 5 ist der Ablauf des erfindungsgemäßen Verfahrens anhand eines Ablaufdiagramms schematisch dargestellt. Am Startpunkt 36 des Verfahrens ist der Roboterarm 22 vor der Ladestation 24 positioniert. Hier kann im Prüfungsschritt 38 ermittelt werden, ob eine Ablagemessung überhaupt erforderlich ist. Ist dies nicht der Fall, wird im Schritt 40 ein Wafer 12 ohne Messung entnommen, im Schritt 64 vollständig herausgezogen und der Vorgang im Schritt 70 beendet.
  • Vor einer Messung ist zu berücksichtigen, dass vor der Messung die aktuelle Position des Wafers 12 auf dem Endefektor definiert werden muss. Die Nulllage kann hierzu beispielsweise in einem Anlernvorgang definiert werden. Danach können die gegebenenfalls ermittelten Ablagekorrekturwerte immer auf diese Position bezogen werden. Die physikalische Nulllage muss als aktuelle Nulllage wieder herstellbar sein, was bevorzugt über einen Button in der Software erfolgt.
  • Soll eine Ablagemessung durchgeführt werden, so startet das Messverfahren im Schritt 42. Zur Messung wird zunächst im Schritt 44 ein Wafer 12 aus der Ladestation 24 entnommen und in eine Messposition bewegt. Dort wir im Schritt 46 die Beleuchtung eingeschaltet. Danach kann im Schritt 48 die eigentliche Messung der Position des Wafers 12 auf dem Roboterarm 22 begonnen werden. Hierzu werden im Schritt 50 zunächst die Zeilen der CCD-Sensoren ausgelesen und anhand der ermittelten Signale die geometrischen Werte der Ablageposition des Wafers 12 ermittelt. Nachdem die Berechnung abgeschlossen ist, können die ermittelten Ergebnisse oder gegebenenfalls die sich aus der Berechnung ergebenden Fehler beispielsweise in Form von Fehlercodes im Schritt 52 übergeben werden. Im Schritt 54 wird daher auf diese Ergebnisse gewartet.
  • Die ermittelten Ablagewerte können in Bezug auf eine zuvor definierte oder angelernte Nulllage und eine physikalische, d. h. kalibrierte Nulllage, gesetzt werden. Abhängig davon wird entschieden, ob eine Korrektur der Positionierung erforderlich ist oder nicht. Diese Daten können auch in ein Log-File geschrieben werden.
  • Fehler können dann auftreten, wenn die Sensorüberdeckung zu groß oder zu gering ist, so dass eine Messung nicht möglich ist. Weiterhin kann im Rahmen einer Initialisierung festgestellt werden, dass die oder einer der verwendeten Sensoren defekt oder nicht kalibrierbar sind. Ebenso ist es möglich, einen allgemeinen oder unbekannten Fehler zu übermitteln.
  • Nachdem das Ergebnis übermittelt wurde, wird im Schritt 56 die Beleuchtung abgeschaltet. Anschließend wird im Schritt 58 geprüft, ob die Messung erfolgreich war. Dies ist insbesondere dann nicht der Fall, wenn ein Fehler übermittelt wurde. Für diesen Fall wird im Schritt 60 der Wafer 12 wieder in der Ladestation 24 abgelegt und der Entnahmevorgang im Schritt 72 abgebrochen.
  • Ergibt sich, dass die Messung erfolgreich war, so erfolgt im Schritt 62 eine Prüfung daraufhin, ob die ermittelte Position bzw. der ermittelte geometrische Wert außerhalb einer vorgegeben Toleranz liegt. Ist dies nicht der Fall, so kann der Wafer 12 im Schritt 64 vollständig aus der Ladestation 24 entnommen werden und an die Bearbeitungs- oder Inspektionsstation 15 übergeben werden.
  • Wurde der zulässige Toleranzwert hingegen überschritten, so ist der Wafer 12 auf dem Roboterarm 22 so falsch positioniert, dass eine Weitergabe an die Bearbeitungs- oder Inspektionsstation 15 nicht sicher erfolgen kann. Der Wafer 12 wird im Schritt 66 wieder in der Ladestation abgelegt und der Fehler im Schritt 68 korrigiert. Die Korrektur kann durch ein erneutes Aufnehmen des Wafers mit dem Roboterarm unter Berücksichtigung von Korrekturwerten oder durch einen Bediener per Hand erfolgen. Im Schritt 70 ist die Entnahme des Wafers 12 beendet.
  • Die Erfindung wurde in Bezug auf besondere Ausführungsformen beschrieben. Es ist dennoch für einen Fachmann selbstverständlich, dass Abwandlungen und Änderungen der Erfindung gemacht werden können ohne dabei den Schutzbereich der nachstehenden Ansprüche zu verlassen.
  • 10
    EFEM
    11
    Sensoreinrichtung
    12
    Wafer
    13
    Trägerelement
    14
    Halter
    15
    Bearbeitungs- oder Inspektionsstation
    16
    CCD-Sensor
    16a
    CCD-Sensor
    16b
    CCD-Sensor
    16c
    CCD-Sensor
    16d
    CCD-Sensor
    18
    Schenkel
    19
    Schenkelachse
    20
    Schenkel
    22
    Roboterarm
    24
    Ladestation
    26
    Sensorplatte
    28
    Verbindungsarm
    30
    Auswerteeinrichtung
    32
    Waferrand
    34
    Beleuchtungseinrichtung
    36
    Start
    38
    Prüfung Ablage erforderlich
    40
    Aufnahme ohne Messung
    42
    Aufnahme mit Messung
    44
    Verfahren in Messposition
    46
    Beleuchtung ein
    48
    Start Ablagemessung
    50
    Auslesen der CCD-Zeilen
    52
    Ergebnisübermittlung
    54
    Warten auf Ergebnis
    56
    Beleuchtung aus
    58
    Prüfung ob Messung erfolgreich
    60
    Ablegen Wafer in Ladestation
    62
    Prüfung ob Ablagetoleranz überschritten
    64
    Wafer vollständig entnehmen
    66
    Ablegen Wafer in Ladestation
    68
    Korrektur
    70
    Entnahme beendet
    72
    Entnahme abgebrochen
  • ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
  • Diese Liste der vom Anmelder aufgeführten Dokumente wurde automatisiert erzeugt und ist ausschließlich zur besseren Information des Lesers aufgenommen. Die Liste ist nicht Bestandteil der deutschen Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt keinerlei Haftung für etwaige Fehler oder Auslassungen.
  • Zitierte Patentliteratur
    • - US 2003/0031537 A1 [0002]
    • - US 2006/187445 A1 [0003]
    • - DE 102007010223 [0003]
    • - US 2006/187445 [0023]

Claims (18)

  1. Vorrichtung zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes, insbesondere eines Wafers (10), mit einem beweglichen Trägerelement (13) und einem Halter (14) zum Halten einer Sensoreinrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter (14) eine Sensoreinrichtung aufweist und der Halter (14) an dem beweglichen Trägerelement (13) vorgesehen ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter (14) eine optische Sensoreinrichtung, insbesondere CCD-Sensoren (16), aufweist.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass wenigstens vier CCD-Sensoren (16a, 16b, 16c, 16d) auf dem Halter (14) vorgesehen sind.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter (14) einen ersten Schenkel (18) und einen zweiten Schenkel (20) aufweist und ein erstes Paar der CCD-Sensoren (16a, 16b) auf dem ersten Schenkel (18) und ein zweites Paar der CCD-Sensoren (16c, 16d) auf dem zweiten Schenkel (20) angeordnet sind.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die auf dem ersten Schenkel (18) angeordneten CCD-Sensoren (16a, 16b) in Richtung der Schenkelachse (19) zueinander versetzt sind.
  6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, dass die auf dem zweiten Schenkel (20) angeordneten CCD-Sensoren (16c, 16d) in Richtung der Schenkelachse (19) zueinander versetzt sind.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass das Trägerelement (13) ein gabelförmiger Roboterarm (22) eines End Efektor Moduls (24) ist.
  8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter (14) einen Verbindungsarm (28) zum Verbinden des Halters (14) mit dem Trägerelement (13) und eine Sensorplatte (26) aufweist, auf der die Sensoreinrichtung aufgenommen ist.
  9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter (14) eine Auswerteeinrichtung (30) aufweist, mit der eine Auswertung der Lage des Wafers (10) auf dem Halter (14) erfolgen kann.
  10. Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objektes, insbesondere eines Wafers (10), auf einem Trägerelement (13), dadurch gekennzeichnet, dass – das scheibenförmige Objekt auf dem Trägerelement (13) positioniert wird, wobei ein Halter (14) an einem beweglichen Trägerelement (13) vorgesehen ist, – mit einer auf dem Halter (14) vorgesehenen Sensoreinrichtung ein Signal erzeugt wird, – aus dem Signal Daten ermittelt werden, die auf geometrische Größen, insbesondere die Lage des Randes oder des Mittelpunktes des scheibenförmigen Objektes schließen lassen.
  11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, dass als Sensoreinrichtung eine Mehrzahl optischer Elemente, insbesondere CCD-Sensoren (16a, 16b, 16c, 16d), verwendet werden.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, dadurch gekennzeichnet, dass das Signal dadurch erzeugt wird, dass der Halter (14) mit dem scheibenförmigen Objekt in eine Messposition fährt, in der eine Beleuchtung der optischen Elemente erfolgt.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, dass aus dem Signal durch eine Auswertung ermittelt wird, ob und/oder welche Teile der optischen Elemente durch das scheibenförmige Objekt bei Beleuchtung abgeschattet werden.
  14. Verfahren nach einem der Ansprüche 10 bis 14, dadurch gekennzeichnet, dass die ermittelten geometrischen Daten daraufhin untersucht werden, ob sie in einem vorgegebenen Wertebereich liegen.
  15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, dass das scheibenförmige Objekt wieder abgelegt und/oder ein Fehler ausgegeben wird, wenn die ermittelten geometrischen Daten außerhalb des vorgegebenen Wertebereichs liegen.
  16. Halter (14) zum Halten einer Sensoreinrichtung, dadurch gekennzeichnet, dass der Halter (14) eine optische Sensoreinrichtung, insbesondere CCD-Sensoren, aufweist, die beim Ablegen eines scheibenförmigen Objektes, insbesondere eines Wafers, auf dem Halter (14) zumindest teilweise abgedeckt werden.
  17. Halter (14) nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, dass er einen ersten Schenkel (18) und einen zweiten Schenkel (20) aufweist und ein erstes Paar der CCD-Sensoren (16a, 16b) auf dem ersten Schenkel (18) und ein zweites Paar der CCD-Sensoren (16c, 16d) auf dem zweiten Schenkel (20) angeordnet ist.
  18. Halter (14) nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, dass die auf dem ersten Schenkel (18) angeordneten CCD-Sensoren (16a, 16b) in Richtung der Schenkelachse (19) zueinander versetzt sind und/oder die auf dem zweiten Schenkel (20) angeordneten CCD-Sensoren (16c, 16d) in Richtung der Schenkelachse (19) zueinander versetzt sind.
DE102008037419A 2008-10-07 2008-10-07 Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts Withdrawn DE102008037419A1 (de)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008037419A DE102008037419A1 (de) 2008-10-07 2008-10-07 Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts
US12/556,175 US8125653B2 (en) 2008-10-07 2009-09-09 Apparatus and method for the determination of the position of a disk-shaped object

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE102008037419A DE102008037419A1 (de) 2008-10-07 2008-10-07 Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE102008037419A1 true DE102008037419A1 (de) 2010-04-08

Family

ID=41794711

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE102008037419A Withdrawn DE102008037419A1 (de) 2008-10-07 2008-10-07 Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts

Country Status (2)

Country Link
US (1) US8125653B2 (de)
DE (1) DE102008037419A1 (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP6118044B2 (ja) * 2012-07-19 2017-04-19 株式会社Screenホールディングス 基板処理装置および基板処理方法
JP2014093420A (ja) * 2012-11-02 2014-05-19 Toyota Motor Corp ウェハを支持ディスクに接着する治具、および、それを用いた半導体装置の製造方法
US9111979B2 (en) * 2013-05-16 2015-08-18 Kevin P Fairbairn System and method for real time positioning of a substrate in a vacuum processing system
JP6309756B2 (ja) * 2013-12-26 2018-04-11 川崎重工業株式会社 エンドエフェクタ装置
US11813757B2 (en) 2020-10-13 2023-11-14 Applied Materials, Inc. Centerfinding for a process kit or process kit carrier at a manufacturing system

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20030031537A1 (en) 2001-08-01 2003-02-13 Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. Load port, wafer processing apparatus, and method of replacing atmosphere
US20060187445A1 (en) 1998-09-22 2006-08-24 Kla-Tencor Corporation Backside contamination inspection device
DE102007010223A1 (de) 2007-02-28 2008-10-30 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Verfahren zur Bestimmung geometrischer Parameter eines Wafers und Verwendung des Verfahren bei der optischen Inspektion von Wafern

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2008216054A (ja) * 2007-03-05 2008-09-18 Hitachi High-Technologies Corp 被検査物の検査装置及び被検査物の検査方法

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20060187445A1 (en) 1998-09-22 2006-08-24 Kla-Tencor Corporation Backside contamination inspection device
US20030031537A1 (en) 2001-08-01 2003-02-13 Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc. Load port, wafer processing apparatus, and method of replacing atmosphere
DE102007010223A1 (de) 2007-02-28 2008-10-30 Vistec Semiconductor Systems Gmbh Verfahren zur Bestimmung geometrischer Parameter eines Wafers und Verwendung des Verfahren bei der optischen Inspektion von Wafern

Also Published As

Publication number Publication date
US8125653B2 (en) 2012-02-28
US20100085582A1 (en) 2010-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE19750949B4 (de) Testhandhabungsvorrichtung für horizontalen Transport
DE112007002538T5 (de) Verbesserte Kalibrierung eines Substrathandhabungsroboters
DE102008037419A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Bestimmung der Position eines scheibenförmigen Objekts
DE4320173A1 (de) Diagnoseverfahren für Kraftfahrzeuge zum Überprüfen elektronisch gesteuerter Systeme
EP1892057B1 (de) Verfahren zur Werkzeugvermessung mit einem Messgerät sowie Messvorrichtung mit einem Messgerät zur Werkzeugvermessung
EP2859538A1 (de) Verfahren und vorrichtung für die bearbeitung von wertdokumenten
DE19507959C1 (de) Vorrichtung zur Strommessung an einer Hauptstromleitung eines Fahrzeug-Bordnetzes
DE2704983C3 (de) Vorrichtung zum Erkennen von Fehlern in der Oberfläche oder den Abmessungen eines Objektes sowie zum Erkennen der Lage des Objektes mit Hilfe einer Fotodiodenzeile
DE102016206980B4 (de) Verfahren zur Handhabung eines Körpers und Handhabungsvorrichtung
DE102011112532B4 (de) Prüfeinrichtung und Verfahren zum Prüfen von Batteriezellen
DE102006005990B4 (de) Werkstückvermessung für 3-D Lageerkennung in mehreren Multi-Roboter-Stationen
DE102018113989B4 (de) Fertigungsvorrichtung und verfahren
WO2019206922A1 (de) Verfahren zum einfügen eines gegenstands in eine gegenstandsaufnahme mittels eines robotermanipulators
DE102012200734B4 (de) System und verfahren zum erzeugen von bauelementen umfassend ein halbleiterteil und ein nichthalbleiterteil
DE102016000611A1 (de) Anordnung und Verfahren für die automatisierte Erfassung und Entnahme von Werkstücken aus ungeordneter Ansammlung
EP0306653A1 (de) Einrichtung zur Positionierung von IC-Bausteinen auf einem Substrat
DE102014114156A1 (de) Aufsetzungsüberwachung für individuelle Dies eines Halbleiter-Wafers
EP1876879B1 (de) Klassifizierung von aufgenommenen Bauelementen bei der Bestückung von Bauelementeträgern
DE102017003683A1 (de) Verfahren zum Überführen eines zu prüfenden Bauteils und Roboter zur Durchführung dieses Verfahrens
DE19506388C1 (de) Verfahren zum Erkennen von systematischen Fehlern, insbesondere zur automatischen Störungserkennung bei Qualitätskontrollen, mittels mit Meßsensoren ausgestatteten Meßgeräten
DE19959623A1 (de) Verfahren und Anordnung zum Lokalisieren von zylinderförmigen Objekten
DE10256692A1 (de) Test-Gerät, Test-System und Test-Verfahren, insbesondere zum Testen der Kontaktierung zwischen einem Halbleiter-Bauelement und einem Carrier
DE19610124C2 (de) Einrichtung zur Überprüfung von elektrischen Bauteilen, insbesondere integrierten Schaltungen
DE3605110C2 (de)
EP2446285A1 (de) Verfahren zur messung eines leistungsbauelements

Legal Events

Date Code Title Description
R005 Application deemed withdrawn due to failure to request examination