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Die
Erfindung betrifft ein Verfahren zur Gewinnung von Reinstsilizium
zur Solarzellenherstellung („Solar-Grade Silizium” oder „SOG-Si”),
was vorliegend zumindest als 99,9999 prozentiges Silizium verstanden
wird.
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Aus
dem
DDR-Patent 240729 ist
es bekannt, als Ausgangsmaterial Siliziumkörner mit einer
mittleren Korngröße von <40 μm einzusetzen, was in
einer Reinheit von ca. 98 bis 99% vorliegt. In der Schrift wird
vorgeschlagen, anschließend die an der Oberfläche
der Siliziumkörner konzentrierten Verunreinigungen wegzuätzen,
um zu reinem Silizium zu gelangen.
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In
dem Europäischen Patent
EP 0 869 102 B1 wird ein Reinigungseffekt
durch die gerichtete Erstarrung von Silizium unter zusätzlicher
Nutzung von Reaktionsgasen beschrieben. Es findet allerdings anschließend
kein mechanischer Aufschluss des festen Siliziums statt (d. h. mahlen),
sondern der Reinigungseffekt beruht nur auf Prozessen in der Schmelze.
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Im
BRD-Patent 2933164 wird
beschrieben, dass Silizium auf Korngrößen von
20–60 μm zerkleinert und hinterher ausgelaugt
wird. Optional wird auch die zusätzliche Reinigungswirkung
durch Vakuumausdampfung aus der Schmelze, durch gerichtetes Erstarren
mit einer Erstarrungsgeschwindigkeit von 20 bis 40 mm/h und durch
eine Extraktionsschmelze zur Verminderung des Borgehaltes genutzt. Ähnliches
ist aus dem
BRD-Patent 2729464 bekannt,
nur dass dort Erstarrungsgeschwindigkeiten von bis zu 50 cm/h spezifiziert
sind und keine Vakuumausdampfung genuzt wird.
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Im
US-Patent 4,379,777 wird
das Auslaugen bzw. Ätzen von gemahlenem Mahlgut beschrieben. Hierauf
trifft zu, was zum o. g.
DDR-Patent
240729 gesagt wurde. Zusätzlich schließt
sich das Aufschmelzen des Mahlgutes in einem induktiv geheizten
Plasma an. Beim anschließenden Abkühlen zu feinen
Kügelchen läuft eine Erstarrungsfront von außen
nach innen. Eventuelle Ausscheidungen im Inneren werden technologisch
nicht genutzt. Nur diffusiv an die Oberfläche gelangte
Ausscheidungen werden im nächsten Schritt nasschemisch
entfernt.
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Vorliegende
Erfindung hat es sich zur Aufgabe gestellt, den Reinheitsgrad durch
eine geänderte Verfahrensführung und damit einhergehender
Nutzung anderer physikalischer Prozesse zu erhöhen.
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Im
Schritt 1 wird das Ausgangsmaterial in Form von metallurgischem
Silizium in Brockenform bereitgerstellt.
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Im
zweiten Schritt werden die darin enthaltenen, homogen verteilten
Verunreinigungen mittels Aufschmelzen und darauf folgenden Abschreckens auf
sub-Millimeter-Skala gezielt räumlich neu verteilt und
an bestimmten Orten aufkonzentriert. Das Abschrecken stellt in diesem
Falle eine Sonderform des gerichteten Erstarrens dar, denn die (schnelle)
Erstarrung verläuft unidirektional. Dadurch existiert eine
definierte Erstarrungsfront, die bedingt durch Inhomogenitäten
in der Schmelze und im Temperaturgradienten, eine verschieden starke
konstitutionelle Unterkühlung an ihrer Oberfläche
ausbildet und es somit zu einer sich selbst verstärkenden
Zerklüftung der Erstarrungsfront kommt. In den jeweiligen
Gräben der Erstarrungsfront stellen sich – bedingt
durch die Erstarrungskinetik und die lokale Energieminimierung – hohe
Verunreinigungskonzentrationen ein. Im weiteren Verlauf der Abkühlung
erstarren auch diese Gräben und bilden schließlich
die Korngrenzen. Es liegt danach ein polykristalliner Erstarrungskörper vor,
dessen einzelne Einkristall-Körner (Kristallite) einen
ca. 99,9999% reinen Kern und volumenmäßig sehr
ausgeprägte Korngrenzen aufweisen, in welchen beinahe die
gesamte Menge an Verunreinigungselementen konzentriert ist. Die
Verminderung der Gleichverteilung der Verunreinigungselemente und
damit die Erhöhung des Ordnungsgrades im Erstarrungskörper
ist der Kernpunkt dieses Verfahrensschrittes. Sie ist in dieser
Form nur bei Erstarrungsraten möglich, die oberhalb von
denen liegen, die als Stand der Technik in o. g. Patenten angegeben
werden.
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Als
vorteilhaft hat sich eine Verfahrensführung mit Korngrößen
zwischen 100 μm und 1000 μm und insbesondere zwischen
100 μm und 500 μm erwiesen. Die Erstarrungsgeschwindigkeit
liegt oberhalb von 1 cm/min und bevorzugt zwischen 10 cm/min und
100 cm/min und insbesondere zwischen 30 und 70 cm/min. Zur verfahrenstechnischen
Entkopplung des für die Verunreinigungssegregation optimalen
Temperaturgradienten einerseits und der für die Verunreinigungsdiffusion
optimalen Korngröße andererseits kann die Strömungsgeschwindigkeit
an der Phasengrenzfläche (Erstarrungsfront) mit Hilfe magnetohydrodynamischer
Strömungsbeeinflussung manipuliert werden.
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Beim
oder auch nach dem Abkühlvorgang des Slliziumblockes kann
eine eventuell unvollständige Diffusion von Fremdstoffatomen
mit Hilfe eines Nachglühens, also einem längeren
Halten auf hoher Temperatur unterhalb des Schmelzpunktes, vervollständigt
werden.
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Um
eine ausreichende Segregation zu den Korngrenzen bei Stoffen zu
erreichen, die einen Verteilungskoeffizienten nahe 1 aufweisen (und
damit normalerweise schlecht segregieren) und auf die Bandstruktur
des Siliziums großen Einfluss ausüben (wie Bor
und Phosphor) können zusätzliche Elemente zur
Schmelze zugegeben werden, die besser segregierende Bor- bzw. Phosphorverbindungen
bilden. Besonders geeignet sind hierfür Ca und Mn (für Phosphor)
sowie H2O, Al, Ti, C und Fe (für
Bor). Genannte Recktanten bilden im Silizium mit Bor bzw. Phosphor
ternäre oder quartäre Verbindungen mit besseren
Segregationskoeffizienten als das reine Bor bzw. Phosphor. Diese
Recktanten sind bis zu einem gewissen Grade schon im normalen metallurgischen
Silizium in Form von Verunreinigungen vorhanden. Die Zugabe dieser
Elemente in die Schmelze hängt also von der Reinheit des
verwendeten Ausgangsmaterials ab. Zur möglichst vollständigen
chemischen Reaktion der zugegebenen Stoffe muss die Schmelze – abhängig
vom Recktanten – ein bestimmtes Temperaturprofil oberhalb
der Schmelztemperatur durchlaufen.
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In
einem dritten Schritt wird der Erstarrungskörper mechanisch
auf Brocken in der Größenordnung von 10 cm vorzerkleinert.
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Anschließend
erfolgt im vierten Schritt eine Zerkleinerung an den Korngrenzen
bis auf die einzelnen Kristallite hinunter, also entsprechend zu
Körnern mit einer mittleren Größe von
vorzugsweise 100 μm bis 500 μm. Besonders vorteilhaft
ist es, wenn der vierte Schritt durch großflächig
in den Gusskörper eingeleitete Schockwellen realisiert
wird. Dazu werden die Kristallite in eine Kammer eingebracht, in
der zumindest einen Wandteil die Rolle eines Schockwelleneflektors
spielt. Der Reflektor bildet gleichzeitig die erste Elektrode von
einem Elektrodenpaar, über welches ein Lichtbogen gezündet
wird. Die Kammer ist dabei vollständig mit einer geeigneten
Flüssigkeit, wie z. B. Wasser, gefüllt. Innerhalb
der Kammer befindet sich die zweite Elektrode. Zwischen der zweiten
Elektrode und dem Reflektor befindet sich der Brennpunkt bzw. das
Brennpunktgebiet des Reflektors. Um einen Brennpunkt handelt es
sich, wenn die Dimensionen des Reflektors klein gegenüber
dem Elektrodenabstand sind. Es kann dann von einer punktförmigen
Schallquelle und damit einer kugelsymetrischen Ausbreitung der durch
den Lichtbogen entstehenden Schockwelle ausgegangen werden. In diesem
Fall weist der Reflektor zweckmäßigerweise die
Form eines Halbellipsoids auf. Im Gegensatz dazu handelt es sich
um ein Brennpunktgebiet, falls der Elektrodenabstand in derselben
Größenordnung wie die Reflektorabmessungen liegt.
Es kann dann von einer eindimensionalen Schallquelle und einer zylinderförmigen
Ausbreitung der Schockwelle ausgegangen werden. Der Reflektor hat
in diesem Falle zweckmäßigerweise die Kontur einer
auf eine Schräge superponierten Ellipse. Die exakte Kontur
wird in diesem Falle numerisch bestimmt. Für eine solche Konfiguration
aus einer spitzen und einer flachen Elektrode, wobei letztere gleichzeitig
Reflektor ist, sind beide Polaritäten möglich.
Für kleine Kammerabmessungen und damit geringe Elektrodenabstände
ist es vorteilhaft, die spitze Elektrode auf negatives und den Reflektor
auf positives Potential zu legen. Für große Kammerabmessungen
und damit auch größere Elektrodenabstände
ist es bei gleicher Spannung vorteilhaft, die spitze Elektrode auf
positives Potential und den Reflektor auf negatives Potential zu
legen.
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Es
ist aber auch möglich, die erste Elektrode unabhängig
vom Reflektor zu gestalten und sie wie die zweite Elektrode stabförmig
auszuführen. Hier liegt wiederum zwischen beiden Elektroden
der Brennpunkt bzw. das Brennpunktgebiet des Reflektors. Der Reflektor
hat dann keine elektrische Funktion mehr. Die im Wasser erzeugten
Schockwellen breiten sich nach allen Richtungen aus und werden vom
Reflektor zum zweiten Brennpunkt hin fokussiert. In diesem unteren
Teil der Kammer befindet sich der Siliziumblock mit den Kristalliten.
Dieser Block wird mit einer Anzahl von Schockwellen beaufschlagt,
bis sich die Kristallite aus ihrem Verbund gelöst haben.
Die Kristallite besitzen einen Kern von Reinstsilizium im Bereich
von ca. 99,9999% und noch einen Rest an Verunreinigungen und Sauerstoff/Wasserstoff
(aus dem Wasser herrührend) an der Oberfläche
der Körner.
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Diese
mit Verunreinigungselementen hoch angereicherte Schicht wird z.
B. mit Flusssäure (für den Sauerstoff) und z.
B. mit NH4/H2O2- oder HCl/H2O2-Gemischen (für die Verunreinigungen)
in einem fünften Schritt abgetragen.
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Es
hat sich als vorteilhaft herausgestellt, wenn vor dem vierten Schritt
ein Zwischenschritt vorgesehen ist, in welchem der Siliziumblock
in Fraktionen zwischen 0,5 kg und 1,5 kg zerkleinert wird. Dabei
ist jede Methode möglich, die wenig Verunreinigungen einbringt.
Es kommen insbesondere eine Spalttechnik oder der Einsatz eines
Brechers (Backenbrecher) in Frage.
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Weitere
Vorteile und Ausgestaltungen der Erfindung ergeben sich aus der
Beschreibung zweier Ausführungsbeispiele anhand der Figuren.
Dabei zeigen:
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1 das
Ausgangsmaterial,
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2 das
Schmelzbad, in dem das aufgeschmolzene metallurgische Silizium und
zugegebene Segregationsreaktanten in flüssiger Phase vorhanden
sind und aus dem die Schmelze zum Erstarren extrahiert wird,
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3 einen
Erstarrungskörper wie er vorliegt, nachdem das Ausgangsmaterial
aus dem Schmelzbad extrahiert und einem raschen, gerichteten Erstarren
(Abschrecken) unterzogen wurde,
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4 den
in mehrere Fraktionen zerschlagenen Siliziumblock,
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5 eine
elektrohydraulische Zerkleinerungsvorrichtung gefüllt mit
den Fraktionen nach 4 und
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6 ein Ätzbad
mit den nach 5 zu Kristalliten zerkleinerten
Si-Fraktionen.
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In
der 1 ist metallurgisches Silizium als das Grund-
oder Ausgangsmaterial für vorliegendes Verfahren gezeigt.
Das Silizium hat teilweise eine mikrokristalline Struktur, während
es ansonsten amorph ist. Die durchschnittliche Reinheit des gesamten
Brockens beträgt ca. 98% bis 99,5%.
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Gemäß der 2 wird
ca. 5–10 kg metallurgisches Silizium (2) in einem
Vakuumbehälter (27) unter einer Niederdruck-Argon-Atmosphäre
aufgeschmolzen. Über den Einleitungsstutzen (23)
wird zusätzlich H2O als Reaktant
in die Schmelze eingeblasen. In Form einer kontinuierlichen Prozessführung
wird ein Stab (6) aus der Schmelze extrahiert und sofort
in ein Wasserbecken (3) geleitet, so dass eine gute Wärmeabführung
aus der Erstarrungszone stattfindet. Die aus der Schmelze extrahierte
Siliziummenge wird kontinuierlich in Form von Brocken aus metallurgischem
Silizium nachgefüllt. Die erstarrten Siliziumstäbe
(7) in 3 haben auf makroskopischer
Skala dieselbe mittlere Reinheit wie das oben zugegebene metallurgische
Silizium aus 1. Sie besitzen aber auf mikroskopischer
Skala durch die verfahrenstechnisch hervorgerufene Segregation der Verunreinigungen
an die Korngrenzen (11) eine starke Inhomogenität
der Verteilung. Während im Kern der Kristallite (10)
eine Reinheit von ca. 99,9999% vorherrscht, reichern sich an den
Korngrenzen (11) Verunreinigungen bis zum eutektischen
Punkt und darüber hinaus an (d. h. im ein- und zweistelligen Prozentbereich).
Der Erstarrungskörper 3 besteht
nun aus Kristalliten (8) mit einer Ausdehnung zwischen
100 und 1000 μm und wird im nächsten Schritt,
wie in 4 gezeigt, vorzerkleinert, damit er gemäß 5 mit
Hilfe einer korngrenzenselektiven Zerkleinerungstechnik so zerkleinert
werden kann, dass sämtliche Korngrenzen freigelegt werden.
Hierzu wird eine elektrohydraulische Zerkleinerungsanlage 5 verwendet.
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Sie
besteht vorzugsweise aus einem Deckelteil (12), der mit
einem Basisteil (18) lösbar verbunden ist. Beide
Teile (12) und (18) sind hohl ausgeführt
und bilden eine Kavität (13), in welche die Fraktionen
(9) eingebracht werden. Der restliche Raum der Kavität
(13) wird mit Wasser gefüllt. Das Deckelteil (12)
weist einen die Kavität (13) begrenzenden Wandteil
auf, der im Querschnitt der 6 die Kontur
einer auf eine schräge superponierten Ellipse aufweist.
Er fungiert als Schockwellenreflektor. Der Brennpunktbereich dieser
Kontur liegt dabei zwischen dem Reflektor (12) und der
Elektrode (14). Sie bildet zum Reflektor (12)
die Gegenelektrode.
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Dieses
Elektrodenpaar (12) und (14) ist an eine Stoßstromversorgung
(15) angeschlossen, wie sie prinzipiell zur Schockwellenerzeugung,
z. B. auf dem Gebiet der Lithotripsie zur Anwendung kommt. Die Stoßstromversorgung
ist in Form einer ”Pulsed Power-Schaltung” aufgebaut
und erzeugt kurze, sehr intensive Stoßentladungen im Wasser
(13). Die elektrische Leistung während der Entladung
liegt im Megawatt-Bereich. Um dies zu bewerkstelligen, befinden
sich in der Stoßstromversorgung (15) Stoßkondensatoren,
die während der elektrischen Entladung annähernd
im Kurzschluss entladen werden. Ihre einzige Last ist die Funkenstrecke
zwischen den Elektroden (12) und (14) sowie die
(ungewollte) Selbstinduktivität des Stromkreises. Die in
den Kondensatoren gespeicherte Entladungsenergie liegt zwischen
1 und 20 kJ. Während der kurzen Entladungsphase, die im
Mikrosekunden-Bereich liegt, entsteht durch Verdampfungs- und Dissoziationsprozesse
im Arbeitsmedium (Wasser (13)) eine expandierende Gas-
bzw. Plasmablase, die eine Schockwelle emittiert. Man bezeichnet
dieses Phänomen als „Elektrohydraulischen Effekt”.
Die Schockwelle trifft auf das vorzerkleinerte Silizium (17)
und bewirkt dort eine Zertrümmerung an den fragilen Grenzen
(Korngrenzen) der Kristallite (10). Dieses Zertrümmerungsverfahren
bezeichnet man allgemein als „Elektrohydraulische Zerkleinerung”.
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Die
Selektivität der Zertrümmerung auf die Korngrenzen
hat zwei hauptsächliche Ursachen:
- i)
Die Schockwellen pflanzen sich im Silizium weiter fort. Diese Schalltransmission
wird aber an den Korngrenzen durch die Unterbrechung der Homogenität
gehemmt. Es findet an den Korngrenzen durch die verschiedenen akustischen
Impedanzen von Korn und Korngrenze eine teilweise Schallreflexion
mit Phaseninversion statt. Durch die rücklaufende negative
Druckwelle entsteht eine Zugspannung an der Korngrenze, die bei
spröden Materialien mit guter Effizienz zum Bruch führt.
Dies ist bekannt als „Hopkinson-Effekt” und wird
in der technischen Anwendung als Spallation bezeichnet. Weitere
Bruchmechanismen wie der Bruch durch reine Kompression und Bruch
durch unterschiedliche Druckbelastung aufgrund der verschiedenen
Wellenlaufzeiten bei verschiedenen akustischen Impedanzen spielen anscheinend
eine eher untergeordnete Rolle.
- ii) Im Gegensatz zu einer mechanischen Zerkleinerung erfolgt
auch kein punktueller, sondern ein flächenmäßig
gleich verteilter Energieeintrag. Damit bilden sich Frakturen zuverlässig
an den mechanisch instabilsten Punkten, also den Korngrenzen aus
und nicht an Punkten von zufällig hohem Energieeintrag.
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Oben
genannte Punkte treffen allerdings nur zu, solange die Siliziumbrocken
Dimensionen in der Größenordnung der Ausdehnung
der Stoßfront haben (ca. 1 mm). Danach erfolgt die weitere
Zerkleinerung primär durch Kavitation und nicht länger
durch Spallation. Trotzdem unterscheidet sich das elektrohydraulische
Zerkleinern deutlich von der (auf den ersten Blick ähnlichen)
Ultraschallmahlung, die auch auf dem Kavitationsprinzip basiert.
Durch die geringe Leistungsdichte bei der Ultraschallmahlung (Schallquellenleistung
max. 10 kW im Vergleich zu 10–100 MW bei der elektrohydraulischen
Zerkleinerung) ist die Kaviationswirkung bedeutend geringer und
es wird aufgrund der kleineren Kavitationsblasen sehr viel feineres
Mahlgut produziert (unterer Mikrometer- bis Nanometerbereich). Im
Gegensatz dazu erzeugt die elektrohydraulische Zerkleinerung Mahlgut
im Größenordnungsbereich von 100 μm.
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Der
Aufschlussgrad der Kristallkörner kann bei der elektrohydraulischen
Zerkleinerung durch die folgenden Parameter variiert werden:
- a) Energieeintrag pro Entladung. Als eingebrachte Energie
wird die in den Kondensatoren gespeicherte Entladungsenergie angesetzt.
- b) Anzahl der Entladungen.
- c) Die Entladungsspannung.
- d) Der Abstand der Elektroden 15, 25. Dies
bewirkt eine Änderung der Länge des erzeugten Plasmakanals.
- e) Die Anstiegsgeschwindigkeit der Entladungsspannung an den
Elektrodenspitzen. Damit kann eine Selektivität bezüglich
des Durchbruchswegs der Entladung erreicht werden. Dazu muss die Kammer
voll gefüllt oder um 180° gedreht werden (Mahlgut
liegt dann in der Mulde des Reflektor (12)). Dann erfolgt
der elektrische Durchbruch je nach Anstiegsgeschwindigkeit der Spannung
entweder durch das Wasser oder durch das Silizium bzw. entlang der
enthaltenen Verunreinigungskanäle.
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Als
letzter Schritt werden die so aufgeschlossenen Si-Kristallite (20)
in eine Ätzlösung (21) eingebracht, wo
die an den Korngrenzen konzentrierten Verunreinigungen sowie die
durch die elektrohydraulische Zerkleinerung entstandenen Sauerstoff-Verbindungen
entfernt werden. Dies geschieht z. B. mit NH4/H2O2- und HCl/H2O2-Gemischen bzw.
mit Flusssäure. Anschließend kann eine Wärmebehandlung integriert
werden, bei der der absorbierte Wasserstoff abgedampft wird. Als
Ergebnis liegt Silizium mit einer Reinheit vor, die nahe an die
Reinheit des Kristallitkerns von 99,9999% heranreicht.
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Für
das zweite Verfahrensbeispiel sind die folgenden Abbildungen beigefügt:
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7:
Schmelzbad mit Extrahiervorrichtung auf eine gekühlte Walze
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8:
durch die Erstarrung auf der gekühlten Walze erhaltene
Si-Flacons
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Das
Ausgangsmaterial 1 wird in das Schmelzbad (2)
in 7 zugegeben. Von dort wird es in Form einer 200–500 μm
dünnen Schicht auf eine Erstarrungswalze (26)
gegeben. Die Walze ist gekühlt und somit erstarrt das Silizium
wiederum gerichtet von unten her in Form dünner Flacons
(25) auf der Walze, da die Wärmeabgabe in die
Gasatmosphäre nach oben bedeutend geringer ist als nach
unten hin zur thermisch gut leitenden und gekühlten Walze
(26). Die Segregationsprozesse sind dieselben wie im ersten
Ausführungsbeispiel, nur dass in diesem Falle, durch die
dünne Erstarrungsschicht bedingt, nur eine zweidimensionale
Korngrenzenstruktur vorliegt. In der dritten Dimension, der Materialdicke,
sind annähernd keine Korngrenzen mehr zu finden – das
Material ist in dieser Raumrichtung einkristallin. Dies wird durch
die dünne Ausführung der Flacons erreicht. Damit
erleichtert sich die Zerkleinerung außerordentlich, da
die Flaconstücke (28) damit unter Beibehaltung
der Materialdicke nur noch flächig zerbrochen werden müssen
um die Korngrenzen (30) freizulegen. Auch bei unvollständig
freigelegten Korngrenzen sind letztere gut chemisch angreifbar und
können aufgelöst werden. Damit sinkt die benötigte
Mahlenergie um eine Potenz und genauso auch die Verweilzeit in der
Zerkleinerungsanlage und die daraus resultierenden Verunreinigungen.
Der weitere Verfahrensweg ist derselbe wie beim ersten Anwendungsbeispiel.
Durch die ausgeprägt mechanische Instabilität
der Korngrenzen bei den erzeugten Flacons eignen sich in diesem
Falle aber auch konventionelle mechanische Zerkleinerungsverfahren.
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- 1
- Ausgangsmaterial
- 2
- Schmelze
- 3
- Kühlflüssigkeit
- 4
- Heizung
- 5
- Spule
zur magnetischen Halterung der austretenden Schmelze
- 6
- erstarrtes
Silizium
- 7
- Erstarrungskörper
- 8
- Kristallite
- 9
- vorzerkleinerter
Erstarrungskörper
- 10
- Kristallite
- 11
- mit
Verunreinigungselementen hochangereicherte Korngrenzen
- 12
- obere
Elektrode
- 13
- mit
Wasser gefüllte und permanent gespülte Kavität
- 14
- untere
Elektrode
- 15
- Stoßstromversorgung
- 16
- Schalter
- 17
- vorzerkleinerte
Brocken des Erstarrungskörpers
- 18
- Basisteil
der Zerkleinerungsanlage
- 20
- Kristallite
- 21
- Ätzchemikalien
- 22
- Ätzbad
- 23
- Einleitungsstutzen
für Wasserdampf
- 24
- Schmelztiegel
- 25
- Silizium-Flacons
- 26
- gekühlte
Erstarrungswalze
- 27
- Vakuumgefäß
- 28
- Si-Flacon-Stücken
- 29
- Kristallite
- 30
- mit
Verunreinigungselementen hochangereicherte Korngrenzen
-
ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
-
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-
Zitierte Patentliteratur
-
- - DD 240729 [0002, 0005]
- - EP 0869102 B1 [0003]
- - DE 2933164 [0004]
- - DE 2729464 [0004]
- - US 4379777 [0005]