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Die
Erfindung betrifft eine Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
zur Ausleuchtung eines Objektfelds mit Beleuchtungslicht mit einem
ersten Facettenspiegel mit einer Mehrzahl erster Facetten und einem
zweiten Facettenspiegel mit einer Mehrzahl zweiter Facetten, wobei
Facettenpaare aus jeweils einer Facette des ersten und einer Facette
des zweiten Facettenspiegels eine Mehrzahl von Ausleuchtungskanälen
zur Ausleuchtung des Objektfelds vorgeben. Ferner betrifft die Erfindung
ein Beleuchtungssystem mit einer derartigen Beleuchtungsoptik, eine
Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem,
ein Verfahren zur Herstellung eines mikro- bzw. nanostrukturierten
Bauteils mithilfe einer derartigen Projektionsbelichtungsanlage
und ein mit diesem Herstellungsverfahren hergestelltes mikro- bzw.
nanonstrukturiertes Bauteil.
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Eine
derartige Projektionsbelichtungsanlage ist bekannt aus der
WO 2006/111319 A2 und
aus der
US 6,859,328 .
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Es
ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Beleuchtungsoptik
der eingangs genannten Art derart weiterzubilden, dass eine Beleuchtung des
Objektfelds resultiert, die eine hohe Strukturauflösung
einer nachgelagerten Abbildung gewährleistet.
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Die
Aufgabe ist erfindungsgemäß gelöst durch
eine Beleuchtungsoptik, bei der zumindest einige der Ausleuchtungskanäle
jeweils ein zugeordnetes Polarisationselement zur Vorgabe eines
individuellen Polarisationszustands des im jeweiligen Ausleuchtungskanal
geführten Beleuchtungslichts aufweisen.
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Erfindungsgemäß wurde
erkannt, dass die Möglichkeit der Vorgabe vom Ausleuchtungskanal abhängiger
individueller Polarisationszustände die Flexibilität
bei der Ausleuchtung des Objektfelds um den Freiheitsgrad der Polarisation
des Beleuchtungslichts erweitert. Über die den Ausleuchtungskanälen zugeordneten
Polarisationselemente lässt sich beispielsweise beleuchtungsrichtungsabhängig und/oder
ortsabhängig auf dem Objektfeld ein Polarisationszustand
bzw. eine Überlagerung von Polarisationszuständen
des auf die Objektfeldpunkte treffenden Beleuchtungslichts vorgeben.
Die Polarisation des Beleuchtungslichts kann dann auf die Art und
die Verteilung der im Objektfeld vorliegenden, abzubildenden Strukturen
abgestimmt werden. Bestimmte Strukturen in einem ersten Abschnitt
des Objektfelds können dann mit Beleuchtungslicht einer
ersten Polarisation und bestimmte Strukturen in einem anderen Abschnitt
des Objektfelds mit Beleuchtungslicht einer von dieser verschiedenen
zweiten Polarisation beleuchtet werden. Strukturabhängig
lässt sich auf diese Weise eine Verbesserung der Abbildung
von im Objektfeld vorliegenden Strukturen, die mit der Beleuchtungsoptik
beleuchtet werden, erreichen.
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Polarisationselemente,
die auch bei Projektionsbelichtungsanlagen zum Einsatz kommen können,
sind bekannt aus der
EP
1 306 665 A2 , der
DE 103
27 963 A1 und der
US 2006/0221453 A1 .
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Die
Polarisationselemente können die Polarisation des Beleuchtungslichts
auf dem ersten Facettenspiegel beeinflussen. In diesem Fall sind
die Polarisationselemente im Strahlengang vor den ersten Facettenspiegeln
oder direkt auf den ersten Facettenspiegeln angeordnet.
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Die
Polarisationselemente können mit den ersten Facetten verbunden
sein. In diesem Fall können die Polarisationselemente beispielsweise
gleichzeitig mit den ersten Facetten verstellt werden. Eine Relativjustage
der Polarisationselemente zu den ersten Facetten ist dann nicht
möglich, aber auch nicht erforderlich.
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Die
Polarisationselemente können die Polarisation des Beleuchtungslichts
auf dem zweiten Facettenspiegel beeinflussen. In diesem Fall sind
die Polarisationselemente im Strahlengang des Beleuchtungslichts
vor dem zweiten Facettenspiegel oder direkt auf dem zweiten Facettenspiegel
angeordnet. Je näher die Polarisationselemente im Strahlengang des
Beleuchtungslichts dem Objektfeld zugeordnet sind, desto geringer
ist die Gefahr, dass ein mit den Polarisationselementen eingestellter
Polarisationszustand auf dem Weg zwischen dem Polarisationselement
und dem Objektfeld noch gestört wird.
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Die
Polarisationselemente können mit den zweiten Facetten verbunden
sein. Die Vorteile einer solchen Verbindung entsprechen denen, die
vorstehend in Bezug auf die Verbindung der Polarisationselemente
mit den ersten Facetten erläutert wurden.
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Zumindest
einige der Polarisationselemente können als Drahtgitter
ausgeführt sein. Ein Drahtgitter stellt ein effektiv wirkendes
Polarisationselement dar. Über den Abstand benachbarter
Einzeldrähte des Drahtgitters lässt sich ein derartiges
Polarisationselement in seiner Wirkung an die Wellenlänge des
Beleuchtungslichts anpassen. Ein Drahtgitter kann beispielsweise
auch zur Einstellung eines Polarisationszustands von Beleuchtungslicht
dienen, das in Form von EUV-Strahlung mit einer Wellenlänge zwischen
5 nm und 30 nm vorliegt.
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Zumindest
einige der Polarisationselemente können eine Variation
der Polarisationswirkung über den Querschnitt des ihnen
zugeordneten Ausleuchtungskanals aufweisen. Hierüber lässt
sich gezielt eine entsprechende Variation der Beleuchtungswirkung
herbeiführen. Diese Variation kann je nach der Anordnung
eines solchen Polarisationselements im Strahlengang der Beleuchtungsoptik
abhängig vom Ort auf dem Objektfeld und/oder abhängig
vom Beleuchtungswinkel auf einen Objektfeldpunkt wirken.
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Die
Polarisationselemente oder zumindest einige hiervon können
um eine zur Beleuchtungsrichtung parallele Richtung schwenkbar oder
drehbar angeordnet sein. Auf diese Weise lässt sich beispielsweise
dann, wenn die Polarisationselemente eine lineare Polarisation des
Beleuchtungslichts erzeugen, eine Richtung dieser linearen Polarisation
einstellen. Durch Verschwenken der Polarisationselemente ist ein
Wechsel zwischen verschiedenen Polarisationszuständen möglich.
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Die
Polarisationselemente oder zumindest einige hiervon können
um eine zur Beleuchtungsrichtung senkrechte Richtung verkippbar
angeordnet sein. In diesem Fall lässt sich eine Feinabstimmung der
Wirkung der Polarisationselemente beispielsweise auf die Wellenlänge
des verwendeten Beleuchtungslichts herbeiführen.
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Das
Polarisationselement kann als polarisierender Strahlteiler ausgeführt
sein. In diesem Fall kann sowohl das vom Polarisationselement reflektierte
als auch das vom Polarisationselement hindurchgelassene Beleuchtungslicht
für eine Objektfeldbeleuchtung genutzt werden.
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Das
Polarisationselement kann mehrere Spiegelelemente zur geometrischen
Drehung der Polarisation aufweisen. Hierdurch ist eine verlustarme
Polarisationsdrehung möglich. Über die Spiegelelemente
lässt sich zudem eine Feinjustage der Strahlrichtung des
Beleuchtungslichts herbeiführen.
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Zumindest
ein Polarisationselement kann einer Gruppe von Facetten zugeordnet
sein. Ein derartiges Polarisationselement kann mit größerer
beaufschlagbarer Fläche ausgeführt sein, was dessen Herstellung
oftmals vereinfacht. In der Beleuchtungsoptik können Polarisationselemente
vorhanden sein, die Facettengruppen zugeordnet sind und zudem Polarisationselemente,
die individuellen Facetten zugeordnet sind.
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Die
Anzahl der zweiten Facetten kann größer sein als
die Anzahl der ersten Facetten, wobei die ersten Facetten zur Ausleuchtung
verschiedener zweiter Facetten und entsprechender Vorgabe unterschiedliche
Ausleuchtungskanäle umschaltbar sind. Auf diese Weise lassen
sich unterschiedliche Beleuchtungssettings realisieren. Über
die Polarisationselemente lassen sich dann für das jeweilige
Beleuchtungssetting entsprechende Polarisationszustände
vorgeben.
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Den
zweiten Facetten, zwischen denen durch Umschalten erster Facetten
gewechselt werden kann, können dann Polarisationselemente
mit unterschiedlicher polarisierender Wirkung zugeordnet sein. Auf
diese Weise kann beispielsweise bei einem ersten Beleuchtungssetting
eine tangentiale Polarisation und bei einem anderen Beleuchtungssetting
eine radiale Polarisation eingestellt werden.
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Der
erste Facettenspiegel kann als Feldfacettenspiegel und der zweite
Facettenspiegel kann als Pupillenfacettenspiegel ausgeführt
sein. Eine derartige Anordnung hat sich in der Praxis zur Vorgabe einer
definierten Objektfeldbeleuchtung insbesondere im Zusammenhang mit
der Verwendung von EUV-Strahlung als Beleuchtungslicht bewährt.
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Der
zweite Facettenspiegel kann als spekularer Reflektor ausgeführt
sein. Eine derartige Anordnung ist beispielsweise bekannt aus der
US 2006/0132747 A1 .
Diese Anordnung ermöglicht es, mit dem zweiten Facettenspiegel
sowohl die Beleuchtungswinkelverteilung als auch die Intensitätsverteilung
des Beleuchtungslichts über das Objektfeld vorzugeben.
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Der
erste Facettenspiegel kann als facettierter Kollektorspiegel ausgeführt
sein. Eine solche Anordnung hat sich insbesondere im Zusammenhang mit
dem Einsatz eines spekularen Reflektors bewährt.
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Die
Polarisationselemente können so angeordnet sein, dass das
Objektfeld mit tangentialer Polarisation ausleuchtbar ist. Für
eine Reihe von Strukturanordnungen im Objektfeld hat sich eine derartige Polarisationsvorgabe
als zur Erreichung einer hohen Auflösung wertvoll herausgestellt.
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Das
Polarisationselement kann als freistehende Membran ausgeführt
sein. Ein derartiges Polarisationselement kann beispielsweise auch EUV-Strahlung
mit hohem Polarisations grad und gleichzeitig ordentlicher Transmission
polarisieren. Ein solches Polarisationselement kann auch als polarisierender
Strahlteiler eingesetzt werden.
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Das
Polarisationselement kann eine Mehrlagenstruktur aufweisen. Dies
begünstigt zum einen einen hohen Polarisationsgrad, der
erreicht werden kann, und zum anderen ist hierüber auch
ein hoher Reflexionsgrad und/oder Transmissionsgrad des Polarisationselements
erreichbar.
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Das
Polarisationselement kann eine Mehrzahl von Bilayern, also Doppellagen,
aus Molybdän und Silizium aufweisen. Eine solche Materialkombination
und Anordnung hat sich zur Erreichung eines hohen Polarisationsgrades
bei gleichzeitig guten Transmissionseigenschaften, insbesondere
bei der Verwendung von EUV-Strahlung als Beleuchtungslicht als besonders
geeignet herausgestellt.
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Zumindest
einige der Ausleuchtungskanäle können jeweils
ein zugeordnetes Abschwächungselement zum Abschwächen
des im jeweiligen Ausleuchtungskanals geführten Beleuchtungslichts
aufweisen. Derartige Abschwächungselemente können zur
Intensitätsbeeinflussung des Beleuchtungslichts im jeweiligen
Ausleuchtungskanal herangezogen werden. Dies kann zur gezielten
Vorgabe einer Intensitätsverteilung über die Ausleuchtungskanäle
und insbesondere zur Kompensation einer beispielsweise durch die
Polarisationselemente herbeigeführten Intensitätsinhomogenität über
die Ausleuchtungskanäle herangezogen werden.
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Es
können mehrere Typen von Polarisationselementen vorgesehen
sein, die typenspezifische Polarisationszustände des Beleuchtungslichts
erzeugen, wobei jedem Typ von Polarisationselement ein Typ eines
Abschwächungselements zugeordnet ist. Dies verringert den
Herstellungsaufwand der Beleuchtungsoptik, da die Polarisationselemente
einerseits und die Abschwächungselemente andererseits auf
eine bestimmte Anzahl von Grundtypen reduziert werden.
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Die
Abschwächungselemente können die Intensität
des Beleuchtungslichts auf dem ersten Facettenspiegel beeinflussen.
Hierdurch ist beispielsweise auch eine über das Objektfeld
variierende Wirkung der Abschwächungselemente möglich.
In diesem Fall sind die Abschwächungselemente im Strahlengang
vor dem ersten Facettenspiegel oder direkt am ersten Facettespiegel
angeordnet.
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Die
Abschwächungselemente können mit den ersten Facetten
verbunden sein. Dies erzwingt eine gemeinsame Verlagerung der Abschwächungselemente
und der zugehörigen ersten Facetten.
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Die
Abschwächungselemente können die Intensität
des Beleuchtungslichts auf dem zweiten Facettenspiegel beeinflussen.
In diesem Fall sind die Abschwächungselemente im Strahlengang
des Beleuchtungslichts vor dem zweiten Facettenspiegel oder direkt
am zweiten Facettenspiegel angeordnet.
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Die
Abschwächungselemente können mit den zweiten Facetten
verbunden sein. Dies erzwingt eine gemeinsame Verstellung der Abschwächungselemente
und der zugehörigen zweiten Facetten.
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Die
eingangs genannte Aufgabe ist weiterhin erfindungsgemäß gelöst
durch eine Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie zur
Ausleuchtung eines Objektfelds mit Beleuchtungslicht mit mindestens
einem Spiegel, wobei auf dem mindestens einen Spiegel ein Polarisationselement
in Form eines direkt aufgebrachten Drahtgitters vorhanden ist.
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Die
Vorteile eines Drahtgitters wurden vorstehend bereits erläutert.
Die Drahtgitter auf den Facetten können mit unterschiedlicher
Orientierung der Einzeldrähte, mit unter schiedlichen Abstandsverläufen
der Einzeldrähte oder auch mit unterschiedlicher Stärke
der Einzeldrähte ausgeführt sein. Es ergibt sich
auf diese Weise eine große Variationsbandbreite von Einflussmöglichkeiten
auf den Polarisationszustand des Beleuchtungslichts, welches auf
die Facetten des Facettenspiegels trifft.
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Zumindest
einer der Spiegel der Beleuchtungsoptik kann als Facettenspiegel
ausgeführt sein, wobei zumindest einige der Facetten ein
Polarisationselement in Form eines direkt auf die Facetten aufgebrachten
Drahtgitters aufweisen.
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Der
Drahtgitter-Spiegel kann um eine zu einer Reflexionsfläche
des Spiegels senkrechte Achse schwenkbar sein. Dies ermöglicht
eine Abstimmung insbesondere der Polarisationswirkung entsprechend
dem, was vorstehend schon ausgeführt wurde.
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Die
eingangs genannte Aufgabe ist zudem gelöst durch eine Beleuchtungsoptik
für die Mikrolithografie zur Ausleuchtung eines Objektfelds
mit Beleuchtungslicht mit einem ersten Facettenspiegel mit einer
Mehrzahl erster Facetten und einem zweiten Facettenspiegel mit einer
Mehrzahl zweiter Facetten, wobei Facettenpaare aus jeweils einer
Facette des ersten und einer Facette des zweiten Facettenspiegels
eine Mehrzahl von Ausleuchtungskanälen zur Ausleuchtung
des Objektfelds vorgeben, wobei zumindest einige der Ausleuchtungskanäle
ein zugeordnetes Polarisationselement zur innerhalb des Objektfelds
variierenden Vorgabe eines Polarisationszustands des im jeweiligen
Ausleuchtungskanal geführten Beleuchtungslichts aufweisen.
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Die
Vorteile entsprechen denen, die vorstehend im Zusammenhang mit der über
das Objektfeld variierenden Vorgabe eines Polarisationszustands bereits
erläutert wurden. Bei diesem Aspekt der Beleuchtungsoptik
muss nicht zwingend ein individueller Polarisationszustand des im
jeweiligen Ausleuchtungskanal geführten Beleuchtungslichts
generiert werden. Es ist auch möglich, alle Ausleuchtungskanäle
in gleicher Weise über das Objektfeld variierend zu beeinflussen.
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Die
eingangs genannte Aufgabe ist bei einem weiteren Aspekt der Erfindung
gelöst durch eine Beleuchtungsoptik für die Mikrolithografie
zur Ausleuchtung eines Objektfelds mit Beleuchtungslicht mit einem
als freistehende Membran ausgeführten Polarisationselement
zur Vorgabe eines Polarisationszustands des Beleuchtungslichts.
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Die
Vorteile einer solchen freistehenden Membran wurden bereits erläutert.
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Die
Vorteile eines Beleuchtungssystems mit einer EUV-Strahlungsquelle
zur Erzeugung eines Beleuchtungslicht-Bündels und einer
erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik und die Vorteile
einer Projektionsbelichtungsanlage mit einem derartigen Beleuchtungssystem
und einer Projektionsoptik zum Projizieren eines Objektfelds auf
ein Bildfeld entsprechen denen, die vorstehend im Zusammenhang mit der
erfindungsgemäßen Beleuchtungsoptik bereits diskutiert
wurden. Entsprechendes gilt für die Vorteile einer Projektionsoptik
mit einem derartigen Polarisationselement, das insbesondere als
freistehende Membran oder auch als Drahtgitter ausgebildet sein kann
und für die Vorteile eines EUV-Polarisationselements zum
Einsatz in einer Beleuchtungsoptik bzw. einer Projektionsoptik einer
EUV-Projektionsbelichtungsanlage.
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Auch
innerhalb der Projektionsoptik können die verschiedenen
Varianten der erfindungsgemäßen Polarisationelemente
zum Einsatz kommen. Insbesondere dann, wenn die Projektionsoptik
bildseitig eine numerische Apertur derart hat, dass objektfeld- oder
bildfeldseitige Abbildungsstrahlengänge unter einem deutlich
von Null verschiedenen Einfallswinkel, also schräg, verlaufen,
führt eine Polarisationsbeeinflussung des Abbildungslichts
zu einer entsprechenden Beeinflussung der Abbildungsqualität
der Projektionsoptik.
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Auch
für ein Verfahren zur Herstellung eines mikrostrukturierten
Bauteils mit folgenden Verfahrensschritten:
- – Bereitstellen
eines Retikels,
- – Bereitstellen eines Wafers mit einer für
das Beleuchtungslicht lichtempfindlichen Beschichtung,
- – Projizieren zumindest eines Abschnitts des Retikels
auf den Wafer mithilfe der erfindungsgemäßen Projektionsbelichtungsanlage,
- – Entwickeln der mit dem Beleuchtungslicht belichteten
lichtempfindlichen Schicht auf dem Wafer,
und für
ein mit einem derartigen Verfahren hergestellten mikro- bzw. nanostrukturiertes
Bauteil gelten Vorteile entsprechend dem, was vorstehend im Zusammenhang
mit der Beleuchtungsoptik bereits ausgeführt wurde. Bei
einem derartigen Bauteil kann es sich um ein Halbleiterbauelement
in Form eines integrierten Schaltkreises, also in Form beispielsweise eines
Mikrochips, handeln.
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Ausführungsbeispiele
der Erfindung werden nachfolgend anhand der Zeichnung näher
erläutert. In dieser zeigen:
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1 schematisch
in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage für
die Mikrolithografie mit einer Beleuchtungsoptik und einer Projektionsoptik;
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2 schematisch
und jeweils in einer Aufsicht einen Feldfacettenspiegel sowie einen
Pupillenfacettenspiegel der Beleuchtungsoptik nach 1, wobei
Ausleuchtungskanälen der Beleuchtungsoptik zugeordnete
Polarisationszustände einer Nutzstrahlung der Projektionsbelichtungsanlage,
die sich zu ei ner tangentialen Gesamtpolarisationbeleuchtung überlagern,
durch unterschiedliche Schraffuren angedeutet sind;
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3 und 4 verschiedene
Varianten von Feldfacetten des Feldfacettenspiegels nach 2 mit
als Drahtgitter ausgeführten, unterschiedlich polarisierend
wirkenden Polarisationselementen;
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5 vier
verschiedene Varianten von Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels
nach 2 mit als Drahtgitter ausgeführten, unterschiedlich
polarisierend wirkenden Polarisationselementen;
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6 und 7 zwei
Dipol-Konfigurationen beleuchteter Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels
nach 2 mit zugeordneten, wiederum durch unterschiedliche
Schraffuren angedeuteten, Polarisationszuständen;
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8 in
einer zu 2 ähnlichen Darstellung
den Feldfacettenspiegel und den Pupillenfacettenspiegel mit einer
alternativen Ausleuchtskanal-Zuordnung der Feldfacetten zu den Pupillenfacetten, wobei
Abschnitte des Feldfacettenspiegels mit benachbarten Feldfacetten
zur Erzeugung gleicher Polarisationszustände der Nutzstrahlung
der Projektionsbelichtungsanlage, die sich zu einer Gesamtpolarisation
der Objektfeldausleuchtung ergänzen, ausgeführt
sind;
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9 ein
Ausführungsbeispiel eines Polarisationselements zur Ausleuchtung
des Feldfacettenspiegels entsprechend der abschnittsweisen Polarisationszuordnung
nach 8;
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10 eine
weitere Ausführung eines Polarisationselements zur Ausleuchtung
des Feldfacettenspiegels mit der abschnittsweisen Polarisationszuordnung
nach 8;
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11 eine
weitere Ausführung eines Polarisationselements, das einer
einzelnen Facette des Feldfacettenspiegels oder des Pupillenfacettenspiegels
zugeordnet ist;
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12 eine
weitere Ausführung einer Beleuchtungsoptik der Projektionsbelichtungsanlage nach 1 mit
einem spekularen Reflektor;
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13 schematisch
die Wirkung einer Ausleuchtungskanälen des spekularen Reflektors
zugeordneten Verteilung verschiedener Poarisationszustände
auf eine Objektfeldausleuchtung mit der Beleuchtungsoptik nach 12;
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14 in
einer zu 2 ähnlichen Darstellung
die Wirkung einer Intensitätskorrektur auf den Feldfacetten
des Feldfacettenspiegels mithilfe zugeordneter Abschwächungselemente
zur Kompensation einer Intensitätsbeeinflussung durch nicht
dargestellte Polarisationselemente;
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15 eine
weitere Ausführung eines Polarisationselements zur Erzeugung
eines Polarisationszustands der Nutzstrahlung in einer perspektivischen
Darstellung;
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16 das
Polarisationselement nach 15 in
einer Seitenansicht;
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17 eine
Ausschnittsvergrößerung aus 16;
und
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18 eine
Ansicht des Polarisationselements nach 15 mit
zur Strahlrichtung der Nutzstrahlung paralleler Blickrichtung.
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1 zeigt
schematisch in einem Meridionalschnitt eine Projektionsbelichtungsanlage 1 für
die Mikrolithografie. Ein Beleuchtungssystem 2 der Projektionsbelichtungsanlage 1 hat
neben einer Strahlungsquelle 3 eine Beleuchtungsoptik 4 zur
Belichtung eines Objektfeldes 5 in einer Objektebene 6. Das
Objektfeld 5 kann rechteckig oder bogenförmig mit
einem x/y-Aspektverhältnis von beispielsweise 13/1 gestaltet
sein. Belichtet wird hierbei ein im Objektfeld 5 angeordnetes
und in der 1 nicht dargestelltes Retikel,
das eine mit der Projektionsbelichtungsanlage 1 zur Herstellung
mikro- bzw. nanostrukturierter Halbleiter-Bauelemente zu projizierende Struktur
trägt. Eine Projektionsoptik 7 dient zur Abbildung
des Objektfeldes 5 in ein Bildfeld 8 in einer
Bildebene 9. Abgebildet wird die Struktur auf dem Retikel
auf eine lichtempfindliche Schicht eines im Bereich des Bildfeldes 8 in
der Bildebene 9 angeordneten Wafers, der in der Zeichnung
nicht dargestellt ist.
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Bei
der Strahlungsquelle 3 handelt es sich um eine EUV-Strahlungsquelle
mit einer emittierten Nutzstrahlung im Bereich zwischen 5 nm und
30 nm. Es kann sich dabei um eine Plasmaquelle, beispielsweise um
eine GDPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch Gasentladung, Gas Discharge
Produced Plasma), oder um eine LPP-Quelle (Plasmaerzeugung durch
Laser, Laser Produced Plasma) handeln. Auch andere EUV-Strahlungsquellen,
beispielsweise solche, die auf einem Synchrotron basieren, sind
möglich.
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EUV-Strahlung
10,
die von der Strahlungsquelle
3 ausgeht, wird von einem
Kollektor
11 gebündelt. Ein entsprechender Kollektor
ist beispielsweise aus der
EP
1 225 481 A bekannt. Nach dem Kollektor
11 propagiert
die EUV-Strahlung
10 durch eine Zwischenfokusebene
12,
bevor sie auf einen Feldfacettenspiegel
13 trifft. Der
Feldfacettenspiegel
13 ist in einer Ebene der Beleuchtungsoptik
4 angeordnet,
die zur Objektebene
6 optisch konjugiert ist.
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Die
EUV-Strahlung 10 wird nachfolgend auch als Nutzstrahlung,
Beleuchtungslicht oder als Abbildungslicht bezeichnet.
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Nach
dem Feldfacettenspiegel 13 wird die EUV-Strahlung 10 von
einem Pupillenfacettenspiegel 14 reflektiert. Die EUV-Strahlung 10 trifft
auf die beiden Facettenspiegel 13, 14 unter einem
Einfallswinkel auf, der kleiner oder gleich 25° ist. Die
beiden Facettenspiegel werden also im Bereich eines normal incidence-Betriebs
mit der EUV-Strahlung 10 beaufschlagt. Der Pupillenfacettenspiegel 14 ist
in einer Ebene der Beleuchtungsoptik 4 angeordnet, die
eine Pupillenebene der Projektionsoptik 7 darstellt bzw.
zu einer Pupillenebene der Projektionsoptik 7 optisch konjugiert
ist. Mithilfe des Pupillenfacettenspiegels 14 und einer
abbildenden optischen Baugruppe in Form einer Übertragungsoptik 15 mit
in der Reihenfolge des Strahlengangs für die EUV-Strahlung 10 bezeichneten
Spiegeln 16, 17 und 18 werden Feldfacetten 19 (vgl. 2)
des Feldfacettenspiegels 13 einander überlagernd
in das Objektfeld 5 abgebildet. Der letzte Spiegel 18 der Übertragungsoptik 15 ist
ein Spiegel für streifenden Einfall („Grazing
incidence Spiegel”). Die Übertragungsoptik 15 wird
zusammen mit dem Pupillenfacettenspiegel 14 auch als Folgeoptik
zur Überführung der EUV-Strahlung 10 vom Feldfacettenspiegel 13 hin
zum Objektfeld 5 bezeichnet.
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Zur
Erleichterung der Erläuterung von Lagebeziehungen wird
nachfolgend ein kartesisches xyz-Koordinatensystem verwendet. Die
x-Achse verläuft in der 1 senkrecht
zur Zeichenebene auf den Betrachter zu. Die y-Achse verläuft
in der 1 nach rechts. Die z-Achse verläuft in
der 1 nach oben.
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Das
Retikel, das von einem nicht dargestellten Retikelhalter gehalten
ist, und der Wafer, der von einem nicht dargestellten Waferhalter
gehalten ist, werden beim Betrieb der Projektionsbelichtungsanlage 1 synchron
in der y-Richtung gescannt.
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In
ausgewählten der nachfolgenden Figuren ist ein lokales
xyz-Koordinatensystem eingezeichnet, wobei die x-Achse parallel
zur x-Achse nach der 1 verläuft und die
y-Achse mit dieser x-Achse die optische Fläche des jeweiligen
optischen Elements aufspannt.
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2 zeigt
schematisch die Anordnung der Feldfacetten 19 auf dem Feldfacetten 13 sowie
die Anordnung von Pupillenfacetten 20 auf dem Pupillenfacettenspiegel 14.
Die Feldfacetten 19 sind rechteckig und haben ein x/y-Aspektverhältnis,
das dem x/y-Aspektverhältnis des Objektfelds 5 entspricht. Die
Pupillenfacetten 20 sind rund. Dargestellt sind auf dem
Feldfacetten 13 siebenunddreißig Feldfacetten 19,
die den ebenfalls dargestellten Pupillenfacetten 20 des
Pupillenfacettenspiegels 14 zugeordnet sind, sodass auf
jeweils eine der Feldfacetten 19 treffende Anteile der
Nutzstrahlung 10 über die zugeordnete Pupillenfacette 20 weiter
zum Objektfeld 5 geführt werden. Durch die beiden
Facettenspiegel 13, 14 ist daher eine Mehrzahl
von Ausleuchtungskanälen definiert, die die Nutzstrahlung 10 kanalweise
hin zum Objektfeld 5 führen. Insgesamt liegen
bei der in der 2 dargestellten Ausführung
siebenunddreißig derartige Ausleuchtungskanäle
vor. Auf den Pupillenfacetten 20 wird in jedem der Ausleuchtungskanäle
die Strahlungsquelle 3 abgebildet.
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Ingesamt
liegen auf dem Feldfacettenspiegel 13 vier verschiedene
Typen von Feldfacetten 19a, 19b, 19c, 19d vor,
die aufgrund von nachfolgend noch erläuterten Polarisationselementen
unterschiedlich auf die Polarisation der einfallenden Nutzstrahlung 10 wirken,
die also unterschiedliche Polarisationszustände bei der
Reflexion der Nutzstrahlung 10 an den Feldfacetten 19 erzeugen.
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Auf
dem Feldfacettenspiegel 13 liegt eine Feldfacette des Typs 19a vor,
die keinen Einfluss auf den Polarisationszustand der unpolarisiert
auf den Feldfacettenspiegel 13 treffenden Nutzstrahlung 10 hat,
sodass die Nutzstrahlung 10 nach der Feldfacette des Typs 19a weiterhin
unpolarisiert vorliegt.
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Auf
dem Feldfacettenspiegel 13 liegen insgesamt vierzehn Feldfacetten
des Typs 19b vor, die statistisch über den Feldfacettenspiegel 13 verteilt sind.
Die Feldfacetten des Typs 19b erzeugen aus der unpolarisiert
einfallenden Nutzstrahlung 10 linear in x-Richtung polarisierte,
also x-polarisierte Nutzstrahlung 10. Dieser Polarisationszustand
x-Pol ist rechts in der 2 angedeutet.
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Der
Feldfacettenspiegel 13 hat weiterhin insgesamt vierzehn
Feldfacetten des Typs 19c, die aus der unpolarisiert einfallenden
Nutzstrahlung 10 linear in y-Richtung, also y-polarisierte
Nutzstrahlung 10 erzeugen. Auch dieser Polarisationszustand
y-Pol ist in der 2 rechts angedeutet.
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Der
Feldfacettenspiegel 13 hat weiterhin acht Feldfacetten
des Typs 19d, die aus der unpolarisiert eintreffenden Nutzstrahlung 10 unter
45° zur x- und zur y-Achse linear polarisierte Nutzstrahlung
erzeugen. Vier der Feldfacetten des Typs 19d erzeugen dabei
einen linearen Polarisationszustand „xy” der zwischen
dem II. und IV. Quadranten des xy-Koordinatensystems schwingt, und
vier Feldfacetten des Typs 19d erzeugen einen Polarisationszustand „yx”,
der zwischen dem I. und III. Quadranten des xy-Koordinatensystems
schwingt. Diese beiden Polarisationszustände werden nachfolgend
als xy-Polarisation oder als yx-Polarisation bezeichnet und sind ebenfalls
in der 2 rechts dargestellt.
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Auch
die Feldfacetten der Typen 19c und 19d sind statistisch über
den Feldfacettenspiegel 13 verteilt angeordnet.
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Zur
Erzeugung der Polarisationszustände „x-polarisiert”, „y-polarisiert”, „xy-polarisiert” und „yx-polarisiert” dienen
Polarisationselemente 21, 22, 23, 24 auf
den Feldfacetten der Typen 19b bis 19d. Die Polarisationselemente 21 bis 24 sind
als entsprechend dem jeweiligen Polarisationszustand orientierte
Drahtgitter aus äquidistanten Einzeldrähten 25 aus geführt.
Bei den Polarisationselementen 21 bis 24 handelt
es sich also um Drahtpolarisatoren. Diese können entsprechend
dem Aufsatz von H. Tamada et. al. „Al Wire-grid
polarizer using the s-polarization resonance effect at the 0,8 μm
wavelength band", Opticsletters, Vol. 22, No. 6, 1999,
S. 419 ff., ausgeführt sein.
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Die
Polarisationselemente 21 bis 24 beeinflussen die
Polarisation der Nutzstrahlung 10 auf dem Feldfacettenspiegel 13.
Die Polarisationselemente 21 bis 24 sind mit dem
Feldfacettenspiegel 13 verbunden.
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Bei
den Feldfacetten des Typs 19b sind die Einzeldrähte 25 des
Polarisationselements 21 zur Erzeugung der x-Polarisation äquidistant
nebeneinander und in y-Richtung orientiert angeordnet. Bei den Feldfacetten
des Typs 19b sind die Einzeldrähte 25 des
Polarisationselements 22 zur Erzeugung der y-Polarisation äquidistant
nebeneinander und in x-Richtung orientiert angeordnet. Bei den die
xy-Polarisation erzeugenden Feldfacetten des Typs 19d sind
die Einzeldrähte 25 des Polarisationselement 23 unter
einem Winkel von +45° zur x-Achse, also in der 3 von
links unten nach rechts oben verlaufend, und äquidistant
zueinander angeordnet. Bei den die yx-Polarisation erzeugenden Feldfacetten
des Typs 19d sind die Einzeldrähte 25 des
Polarisationselements 24 unter einem Winkel von –45° zur
x-Achse, also in der 3 von links oben nach rechts
unten verlaufend, und äquidistant zueinander angeordnet.
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Die
Einzeldrähte 25 verlaufen bei den Polarisationselementen 21 bis 24 also
jeweils senkrecht zum Schwingungsvektor des hiermit eingestellten Polarisationszustands.
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Entsprechend
den Polarisationszuständen, die von den Feldfacetten der
Typen 19a bis 19d des Feldfacettenspiegels 13 nach 2 erzeugt
wurden, sind auf den über die Ausleuchtungskanäle
zugeordneten Pupillenfacetten 20 entsprechende individuelle Polarisationszustände
gegeben. Die Feldfacette des Typs 19a lenkt ihren Anteil
der Nutzstrahlung 10 auf die zentrale Pupillenfacette 20 um,
die nachfolgend auch als Pupillenfacette 20a bezeichnet
ist. Die Feldfacetten des Typs 19b lenken ihren Anteil
der Nutzstrahlung 10 auf vierzehn einen y-Dipol aufspannenden
Pupillenfacetten 20 um, die nachfolgend auch als Pupillenfacetten
des Typs 20b bezeichnet werden. Die Feldfacetten des Typs 19b lenken
ihren Anteil der Nutzstrahlung 10 auf vierzehn einen x-Dipol
aufspannenden Pupillenfacetten 20 um, die nachfolgend auch
als Pupillenfacetten des Typs 20c bezeichnet werden. Diejenigen
Feldfacetten des Typs 19d, die xy-Polarisation erzeugen,
lenken ihren Anteil der Nutzstrahlung 10 auf Pupillenfacetten 20,
die zwischen den Dipol-Pupillenfacetten der Typen 20b und 20c im
I. und III. Quadranten des Pupillenfacettenspiegels 14 angeordnet
sind. Diese Pupillenfacetten werden nachfolgend auch als Pupillenfacetten
des Typs 20d bezeichnet. Diejenigen Feldfacetten des Typs 19d,
die yx-Polarisation erzeugen, lenken ihren Anteil der Nutzstrahlung 10 auf
Pupillenfacetten 20, die zwischen den Dipol-Pupillenfacetten
der Typen 20b und 20c im II. und IV. Quadranten
des Pupillenfacettenspiegels 14 angeordnet sind. Auch diese
Pupillenfacetten werden als Pupillenfacetten des Typs 20d bezeichnet.
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Insgesamt
wird auf dem Pupillenfacettenspiegel 14 also eine zu einem
Zentrum des Pupillenfacettenspiegels 14 tangentiale Anordnung
der linearen Polarisationszustände der einzelnen Anteile
der Nutzstrahlung 10 erzeugt.
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Die
Verteilung der Polarisationszustände auf den Pupillenfacetten 20 des
Pupillenfacettenspiegels 14, die in der 2 dargestellt
ist, kann alternativ auch durch den Pupillenfacetten 20 zugeordnete
Polarisationselemente 26 bis 29 erzeugt werden,
die beispielhaft in der 5 dargestellt sind. Soweit derartige
Polarisationselemente 26 bis 29 vorgesehen sind,
die die Polarisation der Nutzstrahlung 10 auf dem Pupillenfacettenspiegel 14 beeinflussen,
kann auf mit den Feldfacetten 19 verbundene Polarisationselemente
verzichtet werden.
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Für
den Fall einer den Pupillenfacetten 20 zugeordneten Polarisationsbeeinflussung
bleibt die zentrale Pupillenfacette 20a unverändert,
da sie gerade keine Polarisationsbeeinflus sung erzeugen soll, die
unpolarisiert vom Feldfacettenspiegel 13 einfallende Nutzstrahlung 10 also
unpolarisiert reflektieren soll.
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Die
vierzehn in Form eines y-Dipols angeordneten Pupillenfacetten des
Typs 20b tragen die Polarisationselemente 26,
deren Einzeldrähte 25 parallel äquidistant
zueinander in der y-Richtung verlaufen. Die vierzehn in Form eines
x-Dipols angeordneten Pupillenfacetten des Typs 20c tragen
die Polarisationselemente 27, deren Einzeldrähte 25 parallel äquidistant
zueinander in der x-Richtung verlaufen. Diejenigen Pupillenfacetten
des Typs 20d, die zu xy-polarisierten Ausleuchtungskanälen
gehören, tragen die Polarisationselemente 28 mit
einem Verlauf parallel zueinander angeordneter Einzeldrähte 25 mit
einem Winkel von +45° zur x- und zur y-Achse, in der 5 also
von links unten nach rechts oben. Diejenigen Pupillenfacetten des
Typs 20d, die zu yx-polarisierten Ausleuchtungskanälen
gehören, tragen die Polarisationselemente 29 mit
einem Verlauf parallel zueinander angeordneter Einzeldrähte 25 mit
einem Winkel von –45° zur x- und zur y-Achse,
in der 5 also von links oben nach rechts unten.
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Die
beiden vorstehend erläuterten Varianten von Anordnungen
der Polarisationselemente 21 bis 24 auf den Feldfacetten 19 und
von Anordnungen der Polarisationselemente 26 bis 29 auf
den Pupillenfacetten 20 erzeugen jeweils die gleiche tangentiale Gesamtpolarisation
der Nutzstrahlung 30, mit der dann das Objektfeld 5 ausgeleuchtet
wird.
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Die
Einzeldrähte 25 können direkt auf den optischen
Flächen der Feldfacetten 19 und/oder der Pupillenfacetten 20 aufgebracht
sein.
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4 zeigt
am Beispiel einer Feldfacette 19 eine weitere Variante
eines Polarisationselements 30. Dieses hat eine Mehrzahl
von Einzeldrähten 25 entsprechend den Ausführungen
der Polarisationselemente 21 bis 24. Die Einzeldrähte 25 des
Polarisationselements 30 sind jedoch nicht äquidistant
zueinander angeordnet, sondern beim Polarisationselement 30 mit
in der 4 von links nach rechts kontinuierlich zunehmendem
Abstand zueinander. Die Einzeldrähte 25 verlaufen
beim Polarisationselement 30 parallel zueinander in der
y-Richtung. Aufgrund der Abstandsvariation der Einzeldrähte 25 des
Polarisationselements 30 resultiert eine entsprechende kontinuierliche
Variation des erzeugten Polarisationszustands x-Pol in der x-Richtung.
Beispielsweise kann der durch das Polarisationselement 30 erzeugte
Polarisationszustand in der 4 am linken
Rand zu einem hohen Anteil linear x-polarisiert sein, während
dieser Anteil der linearen x-Polarisation in der 4 nach
rechts hin kontinuierlich abnimmt, wobei beispielsweise am rechten
Rand der Feldfacette 19 der 4 nur noch
gering linear x-polarisiertes Licht oder sogar unpolarisierte Nutzstrahlung 10 vorliegen kann.
Entsprechend wird das Objektfeld 5 von der Feldfacette 19 mit
dem Polarisationselement 30 mit in x-Richtung variierender
Polarisation der Nutzstrahlung 10 beleuchet.
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Alternativ
zur vorstehend erläuterten, direkten Aufbringung der Einzeldrähte 25 auf
den Feldfacetten 19 und den Pupillenfacetten 20 können
die Polarisationselemente 21 bis 24 sowie 26 bis 30 auch als
von den Facetten 19, 20 separate Bauelemente ausgeführt
sein. Die Polarisationselemente 21 bis 24 bzw. 26 bis 30 können
dann als selbsttragende Drahtgitterpolarisatoren ausgeführt
sein.
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Derartige,
von den Facetten 19, 20 separate Polarisationselemente
können um eine zur Beleuchtungsrichtung, also zur z-Richtung
in der 2, parallele Richtung schwenkbar angeordnet sein,
sodass über derartige Polarisationselemente die Richtung der
linearen Polarisation beispielsweise von einer x-Polarisation zu
einer reinen y-Polarisation kontinuierlich vorgegeben werden kann.
Mit derartigen Polarisationselementen kann beispielsweise der tangentiale
Gesamt-Polarisationszustand bei der Ausleuchtung des Pupillenfacettenspiegels 14 nach 2 hin zu
einem radialen Polarisationszustand verändert werden, bei
dem die Ausleuchtungskanäle zu den Pupillenfacetten des
Typs 20b in y-Richtung polarisiert sind, die Pupillenfacetten
des Typs 20c in x-Richtung polarisiert sind und die Pupillenfacetten des
Typs 20d in xy-Richtung bzw. in yx-Richtung polarisiert
sind, sodass die linearen Polarisationsrichtungen der Ausleuchtungskanäle
aller Pupillenfacetten 20 jeweils in etwa in radialer Richtung
verlaufen.
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Wenn
die Polarisationselemente 21 bis 24 oder 26 bis 30 als
zu den Facetten 19, 20 separate Komponenten ausgebildet
sind, kann eine derartige Komponente auch mehreren der Facetten 19, 20 zugeordnet
sein. So ist es beispielsweise möglich, dass eines der
Polarisationselemente 21 bis 24 oder 30 den
beiden in der 2 beim Feldfacettenspiegel 13 rechts
unten dargestellten Feldfacetten des Typs 19b zugeordnet
ist. Soweit ein solches, mehreren Facetten 19, 20 zugeordnetes
separates Polarisationselement vorgesehen ist, kann dies ebenfalls
zur Änderung des Polarisationszustands verschwenkbar sein, wobei
dann die Polarisationszustände aller diesem Polarisationselement
zugeordneter Ausleuchtungskanäle in gleicher Weise verstellt
werden.
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Derartige
separate Polarisationselemente können als freitragende
Drahtgitter oder auch als auf einem Träger aufgebrachte
Drahtgitter ausgeführt sein, wobei es sich bei dem Träger
um einen für die Nutzstrahlung 10 transmissiven
oder um einen für die Nutzstrahlung 10 reflektiven
Träger handeln kann.
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Wenn
die Polarisationselemente als zu den Feldfacetten 19 bzw.
zu den Pupillenfacetten 20 separate Komponenten ausgeführt
sind, können Polarisationselemente nach Art der Polarisationselemente 21 bis 24 sowie 26 bis 30 auch
in einer Wechselhalter-Anordnung vorgesehen sein. Dies ist in der 1 angedeutet.
Benachbart zum Pupillenfacettenspiegel 13 ist ein Polarisationselement-Wechselhalter 30a angeordnet,
in dessen Gehäuse Polarisationselemente 21 bis 24 sowie 30 untergebracht
sind. Wie durch einen Doppelpfeil angedeutet, kann ein aktuell aktives
Polarisationselement vor dem Feldfacettenspiegel 13, welches
in der 1 gestrichelt wiedergegeben ist, durch eines der
im Polarisationselement-Wechselhalter 30a untergebrachten
Polarisationselemente 21 bis 24, 30 ausgetauscht
werden.
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Alternativ
und zusätzlich kann auch benachbart zum Pupillenfacettenspiegel 14 ein
Polarisationselement-Wechselhalter vorhanden sein, wie in der 1 bei 30b angedeutet.
Die Funktion des dem Pupillenfacettenspiegel 14 zugeordneten
Polarisations-Wechselhalters 30b entspricht derjenigen,
die vorstehend im Zusammenhang mit dem Polarisations-Wechselhalter 30a erläutert
wurde, der dem Feldfacettenspiegel 13 zugeordnet ist. Im
Polarisations-Wechselhalter 30b, der dem Pupillenfacettenspiegel 14 zugeordnet
ist, können Polarisationselemente nach Art der vorstehend
beschriebenen Polarisationselemente 26 bis 29 in
einer Wechselhalter-Anordnung vorgesehen sein.
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6 und 7 zeigen
weitere mögliche Anordnungen von Pupillenfacetten 20 auf
einem Pupillenfacettenspiegel 14. Komponenten, die denjenigen
entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 5 erläutert
wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals im
Einzelnen diskutiert.
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Bei
der Anordnung nach 6 liegt eine x-Dipolanordnung
aus insgesamt vierzehn Pupillenfacetten 20 vor. Es handelt
sich dabei um eine Anordnung, die derjenigen der Pupillenfacetten
des Typs 20c bei der Ausführung nach 2 entspricht.
Die Nutzstrahlung 10 in den zugehörigen Ausleuchtungskanälen
ist in der y-Richtung polarisiert.
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Bei
der Anordnung nach 7 liegt eine y-Dipolanordnung
aus insgesamt vierzehn Pupillenfacetten 20 vor. Es handelt
sich dabei um eine Anordnung, die derjenigen der Pupillenfacetten
des Typs 20b bei der Ausführung nach 2 entspricht.
Die Nutzstrahlung 10 in den zugehörigen Ausleuchtungskanälen
ist in der x-Richtung polarisiert.
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Prinzipiell
ist es bei einer Ausführung der Beleuchtungsoptik
4 auch
möglich, zwischen den ausgeleuchteten Pupillenfacetten-Konfigurationen
nach den
6 und
7 umzuschalten.
Hierzu können die Feldfacetten
19 des Feldfacettenspiegels
13,
die den Pupillenfacetten
20 zugeordnet sind, zwischen verschiedenen
Kippstellungen umgeschaltet werden, wie dies beispielsweise aus
der
US 6,658,084 B2 bekannt
ist. Die zugehörigen Feldfacet ten
19 sind dann um
eine zu einer Reflexionsfläche des Feldfacettenspiegels
13 senkrechte
Achse schwenkbar. Der Pupillenfacettenspiegel
14 hat dann
sowohl die Pupillenfacetten
20, die die x-Dipolkonfiguration
nach
6 erzeugen, als auch die Pupillenfacetten
20,
die die y-Dipolkonfiguration nach
7 erzeugen.
Bei einer Kippstellung der Feldfacetten
19 werden die Pupillenfacetten
20 in
der Konfiguration nach
6 und in der anderen Kippstellung
der Feldfacetten
19 die Pupillenfacetten
20 in
der Konfiguration nach
7 mit der Nutzstrahlung
10 beaufschlagt.
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Zusätzlich
können natürlich noch weitere Pupillenfacetten
für andere Ausleuchtungskonfigurationen vorgesehen sein.
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Beim
Umschalten der Feldfacettenspiegel 19 zur Ausleuchtung
einer vorgegebenen Konfiguration von Pupillenfacettenspiegeln 20 kann
gleichzeitig, soweit separate, den Ausleuchtungskanälen
zugeordnete Polarisationselemente vorgesehen sind, der Polarisationszustand
jedes Ausleuchtungskanals individuell oder gruppenweise vorgegeben
werden. Beim Umschalten der vierzehn Feldfacetten 19 zum Wechseln
zwischen den Pupillenfacetten-Ausleuchtungskonfigurationen nach
den 6 und 7 wird zusätzlich durch
Drehen der entsprechenden separaten Polarisationselemente zwischen
der y-Polarisation der Konfiguration nach 6 und der
x-Polarisation der Konfiguration nach 7 gewechselt.
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8 zeigt
eine weitere Polarisationskonfiguration der Ausleuchtungskanäle
in einer zu 2 ähnlichen Darstellung.
Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme
auf die 1 bis 7 bereits
erläutert wurden, haben die gleichen Bezugsziffern und
werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
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Beim
Feldfacettenspiegel 13 in der Polarisationskonfiguration
nach 8 liegen drei Feldfacettenspiegelabschnitte 31, 32, 33 zu
jeweils mehreren nebeneinander liegenden Facettenzeilen vor.
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Der
in der 8 oben dargestellte erste Feldfacettenspiegelabschnitt 31 hat
insgesamt sechs Zeilen von Feldfacetten 19, die in drei
Facettenspalten angeordnet sind, wobei die beiden obersten Facettenzeilen
durch Feldfacetten 19 gebildet sind, die lediglich in der
mittleren Facettenspalte angeordnet sind. Ein in der 8 in
der Mitte des Feldfacettenspiegels 13 dargestellter zweiter
Feldfacettenspiegelabschnitt 32 weist drei Feldfacettenzeilen
auf, die nach Art versetzter Mauersteine angeordnet sind. Der in
der 8 unten dargestellte dritte Feldfacettenabschnitt 33 stellt
ein Spiegelbild des oberen Feldfacettenabschnitts 31 dar,
gespiegelt um eine zur xz-Ebene parallele Ebene, die den Mittelpunkt
der optisch wirksamen Fläche des Feldfacettenspiegels 13 enthält.
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Im
oberen Feldfacettenspiegelabschnitt 31 liegt, bedingt durch
den Einsatz von Polarisationselementen 22, eine y-Polarisation
vor. Im mittleren Feldfacettenabschnitt 32 liegen Ausleuchtungskanäle vor,
in denen keine Polarisationsbeeinflussung der unpolarisiert eintreffenden
Nutzstrahlung 10 erfolgt. Im unteren Feldfacettenabschnitt 33 liegt,
bedingt durch den Einsatz von Polarisationselementen 21, eine
x-Polarisation der Nutzstrahlung 10 vor.
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Die
Zuordnung der Feldfacetten 19 zu den Pupillenfacetten 20 ist
bei der Anordnung nach 8 so, dass die in der 8 beim
Pupillenfacettenspiegel 14 angegebene Polarisationskonfiguration
vorliegt. In Bezug auf die x-Dipolkonfiguration und die y-Dipolkonfiguration
stimmen die Polarisationskonfigurationen des Pupillenfacettenspiegels 14 nach
den 8 und 2 überein. Diejenigen
Pupillenfacetten 20, die bei der Konfiguration nach 2 den
Pupillenfacettentypen 20a und 20d zugeordnet waren, sind
bei der Konfiguration nach 8 allesamt
unpolarisiert ausgeleuchtet.
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Polarisationselemente
zum Polarisieren der Nutzstrahlung 10, die die Feldfacettenspiegelabschnitte 31 bis 33 ausleuchtet,
können benachbart zum Feldfacettenspiegel 13 so
angeordnet sein, dass einzelne Polarisationselemente gleichzeitig
die Polarisation aller Feldfacetten 19 eines der Feldfacettenspiegelabschnitte 31 und 33 beeinflussen.
Beispiele derartiger Polarisationselemente werden nachfolgend beschrieben.
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9 zeigt
schematisch einen Ausschnitt des Strahlengangs der Nutzstrahlung 10,
die durch Strahlen 34, 35, 36 angedeutet
ist, zwischen der Zwischenfokusebene 12 und dem Feldfacettenspiegel 13.
Der in der 9 obere Strahl 34 und
in der 9 mittlere Strahl 35 geben zwei Randstrahlen
vor, die gerade noch auf ein Polarisationselement 37 in
Form eines polarisierenden Strahlteilers treffen, dessen genauerer
Aufbau nachfolgend noch erläutert wird. Die Nutzstrahlung 10 ist
vor dem Polarisationselement 37 unpolarisiert. Das Polarisationselement 37 ist
so ausgeführt, dass p-polarisierte, also parallel zur Zeichenebene
der 9 polarisierte Strahlen durchgelassen und s-polarisierte,
also senkrecht zur Zeichenebene der 9 polarisierte
Strahlen reflektiert werden. Die durchgelassenen Strahlen werden
nachfolgend mit dem Index d und die reflektierten Strahlen mit dem
Index r bezeichnet.
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Die
Strahlen 34d und 35d, die y-polarisiert sind,
treffen auf den Feldfacettenspiegel 13 im Bereich des Feldfacettenspiegelabschnitts 31.
Die vom Polarisationselement reflektierten Strahlen 34r, 35r, die
x-polarisiert sind, werden von einem weiteren Umlenkspiegel 38 reflektiert
und treffen anschließend auf den Feldfacettenspiegelabschnitt 33.
Zwischen dem Polarisationselement 37 und dem Umlenkspiegel 38 hindurchgehende
unpolarisierte Nutzstrahlung 10 (vergleiche den Strahl 36)
trifft direkt ohne weitere Umlenkung von der Zwischenfokusebene 12 auf
den Feldfacettenspiegel 13 im Bereich des Feldfacettenspiegelabschnitts 32.
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Von
den in der 9 nicht näher dargestellten
Feldfacetten des Feldfacettenspiegels 13 aus werden die
Strahlen 34d, 35d, 36, 34r, 35r hin
zu den Pupillenfacetten des Pupillenfacettenspiegels 14 reflektiert.
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Als
polarisierende Strahlteiler ausgeführte Polarisationselemente
können auch einzelnen der Facetten 19, 20 zugeordnet
sein, wobei ein derartiges Polarisationselement in der Re gel zumindest zwei
Facetten und damit zwei Ausleuchtungskanälen zugeordnet
ist, nämlich dem Ausleuchtungskanal, der mit der Nutzstrahlung 10 beaufschlagt
wird, der vom polarisierenden Strahlteiler durchgelassen wird, und
der Ausleuchtungskanal, der mit Nutzstrahlung beaufschlagt wird,
die vom polarisierenden Strahlteiler reflektiert wird. Derartige
individuelle polarisierende Strahlteiler können in Form
eines Polarisationselement-Arrays vor dem Feldfacettenspiegel 13 oder vor
dem Pupillenfacettenspiegel 14 angeordnet sein.
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10 zeigt
eine weitere Ausführung zur Ausleuchtung einer Polarisationskonfiguration
des Feldfacettenspiegels 13 nach 8. Ein Polarisationselement 39 hat
dabei drei Spiegel 40, 41, 42 zur geometrischen
Drehung einer einfallenden Polarisation der Nutzstrahlung 10.
In der 10 von links in positiver z-Richtung
einfallende Nutzstrahlung 10, von der zunächst
zwei einzelne Strahlen 44, 45 dargestellt sind,
wird zunächst von einem y-Polarisator 43 in y-Richtung
linear polarisiert. Der in der 10 untere
Strahl 45 trifft dann ohne weitere Umlenkung auf den Feldfacettenspiegelabschnitt 31 des
Feldfacettenspiegels 13. Der Spiegel 40 ist als
Strahlteiler ausgeführt. Der einfallende, in der 10 obere Strahl 44 trifft
auf den Spiegel 40. Der vom Spiegel 40 durchgelassene
Anteil des Strahls 44, 44d, durchtritt anschließend
einen Depolarisator 46 und trifft unpolarisiert auf den
mittleren Feldfacettenspiegelabschnitt 32 des Feldfacettenspiegels 13.
Der vom Spiegel 40 reflektierte Anteil des Strahls 44, 44r wird vom
Spiegel 40 zunächst in positiver y-Richtung umgelenkt,
hierdurch ändert sich die Polarisationsrichtung, sodass
der Strahl 44r zwischen den Spiegeln 40 und 41 z-polarisiert
ist. Anschließend wird der Strahl 44r vom Spiegel 41 in
positive x-Richtung umgelenkt, wobei die z-Polarisation erhalten
bleibt. Anschließend wird der Strahl 44r vom Spiegel 42 wieder in
positive z-Richtung umgelenkt, wodurch die z-Polarisation in eine
x-Polarisation überführt wird. Der so x-polarisierte
Strahl 44r trifft dann auf den Feldfacettenspiegelabschnitt 33 des
Feldfacettenspiegels 13.
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11 zeigt
schematisch die Wirkung eines Polarisationselements 47,
das genau zwei Ausleuchtungskanälen zugeordnet ist. Die
einfallende Nutzstrahlung 10 ist in Form eines unpolarisiert
einfallenden Strahls 48 dargestellt. Das Polarisationselement 47 ist
als polarisierender Strahlteiler ausgeführt. Der einfallende
Strahl 48 wird zum Teil vom Polarisationselement reflektiert
(48r) und ist dann s-polarisiert. Der vom Polarisationselement 47 durchgelassene
Anteil des Strahls 48 (48d) ist p-polarisiert.
Der durchgelassene Anteil 48d wird anschließend
von einem Umlenkspiegel 49 umgelenkt. Durch entsprechende
Einstellung der Kippungen des Polarisationselements 47 einerseits
und des Umlenkspiegels 49 andererseits lassen sich die
Strahlrichtungen der Strahlen 48r, 48d unabhängig
voneinander auf vorgegebene Facetten 19, 20 des
Feldfacettenspiegels 13 oder des Pupillenfacettenspiegels 14 lenken.
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12 zeigt
eine alternative Ausgestaltung der Beleuchtungsoptik 4 der
Projektionsbelichtungsanlage 1. Komponenten, die denjenigen
entsprechen, die vorstehend unter Bezugnahme auf die 1 bis 11 bereits
erläutert wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und
werden nicht nochmals im Einzelnen diskutiert.
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Von
der Strahlungsquelle 3, die ebenfalls als LPP-Quelle ausgebildet
sein kann, ausgehende Nutzstrahlung 10 wird zunächst
von einem ersten Kollektor 50 gesammelt und trifft dann
auf einen Freiformkollektor 51 mit einem zeilen- und spaltenweise angeordneten
Array aus insbesondere ellipsoidal ausgeformten Kollektorfacetten 52.
Bei dem Kollektor 50 kann es sich um einen Parabolspiegel
handeln, der die Strahlungsquelle 3 in die Zwischenfokusebene 12 abbildet
bzw. das Licht der Strahlungsquelle 3 auf den Zwischenfokus
in der Zwischenfokusebene 12 fokussiert. Der Kollektor 50 kann
so betrieben werden, dass er vor der Nutzstrahlung 10 mit
Einfallswinkeln nahe 0° beaufschlagt wird. Der Kollektor 50 wird
dann nahe der senkrechten Inzidenz (normal incidence) betrieben
und daher auch als normal incidence-(NI-)Spiegel bezeichnet.
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Dem
Freiformkollektor 51 ist ein spekularer Reflektor 53 nachgeordnet.
Dieser weist ein zeilen- und spaltenweise angeordnetes Array aus
Spekularfacetten 54 auf. Der spekulare Reflektor 53 ist
in einem Bereich zwischen einer konjugierten Pupillenebene und einer
konjugierten Feldebene der Projektionsoptik 7 angeordnet,
die dem Objektfeld 5 im Strahlengang der Nutzstrahlung 10 nachfolgt.
Die Kollektorfacetten 52 sind den Spekularfacetten 54 jeweils
individuell zugeordnet, sodass auf jeweils eine der Kollektorfacetten 52 treffende
Anteile der Nutzstrahlung 10 über die zugeordnete
Spekularfacette 54 weiter zum Objektfeld 5 in
der Objektebene 6 geführt werden. Auch durch die
beiden Facettenspiegel 51, 53 ist somit eine Mehrzahl
von Ausleuchtungskanälen entsprechend der Beleuchtungsoptik 4 bei
der Ausführung aus den 1 bis 11 definiert,
die die Nutzstrahlung 10 kanalweise hin zum Objektfeld 5 führen.
Anders als bei der Beleuchtungsoptik 4 nach den 1 bis 11 werden
die Ausleuchtungskanäle im Objektfeld 5 nicht überlagert,
sondern leuchten das Objektfeld 5 aneinander angrenzend
aus.
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Das
Prinzip des spekularen Reflektors ist bekannt aus der
US 2006/0132747 A1 .
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Sowohl
den Kollektorfacetten 52 als auch den Spekularfacetten 54 können
Polarisationselemente entsprechend denjenigen, die vorstehend im Zusammenhang
mit den 1 bis 11 erläutert wurden,
zugeordnet sein. Dies ist nachfolgend anhand der 13 beispielhaft
erläutert. Der spekulare Reflektor 53 hat in der
schematischen Darstellung nach 13 insgesamt
fünfundzwanzig Spekularfacetten 54, die zeilen-
und spaltenweise in einem 5×5-Raster angeordnet sind. Die
Spekularfacetten 54 der ersten, in der 13 obersten
Zeile und der letzten, in der 13 untersten
Zeile gehören zu Ausleuchtungskanälen, denen Polarisationselemente
beispielsweise nach Art des Polarisationselements 21 nach 3 zugeordnet
sind, die zu einer x-Polarisation der Nutzstrahlung 10 führen.
Die zweite und die vierte Zeile der Spekularfacetten 54 gehören
zu Ausleuchtungskanälen, die über Polarisationselemente
beispielsweise nach Art des Polarisationselements 22 nach 3 eine
y-Polarisation der Nutzstrahlung 10 erzeugen. Die mittlere
Zeile der Spekularfacetten 54 gehört zu unpolarisierten
Ausleuchtungskanälen.
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Die
Anordnung der derart polarisationskonfigurierten Spekularfacetten 54 ist
derart, dass in einer Pupillenebene der Beleuchtungsoptik 4 nach 12 eine
Polarisationskonfiguration resultiert, die in der 13 rechts
dargestellt ist. Gezeigt sind fünf ausgewählte
Teilbereiche einer Pupille 55. In einem Zentralbereich 56 liegt
unpolarisierte Nutzstrahlung vor. In einem oberen Bereich 57 und
in einem unteren Bereich 58 liegt x-polarisierte Nutzstrahlung 10 vor.
In einem rechten Bereich 59 und in einem linken Bereich 60 liegt
y-polarisierte Nutzstrahlung 10 vor. Auch hier resultiert
daher eine angenähert tangentiale Polarisationskonfiguration
bei der Ausleuchtung des Objektfelds, wobei diese Ausleuchtung aus
Teilfeldbeleuchtungen 61 zusammengesetzt ist, wie beispielsweise
in der 13 unten schematisch angedeutet.
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14 zeigt
eine weitere Ausführung eines Feldfacettenspiegels und
eines Pupillenfacettenspiegels in einer zu 2 ähnlichen
Darstellung. Komponenten, die denjenigen entsprechen, die vorstehend unter
Bezugnahme auf die 1 bis 13 bereits erläutert
wurden, tragen die gleichen Bezugsziffern und werden nicht nochmals
im Einzelnen diskutiert.
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Entsprechend
der im Zusammenhang mit der 8 bereits
erläuterten Unterteilung des Feldfacettenspiegels 13 in
drei Feldfacettenspiegelabschnitte 31, 32, 33 weisen
die diesen Abschnitten 31 bis 33 zugeordneten
Feldfacetten 19 bei der Ausführung nach 14 Abschwächungselemente 62 zum individuellen
Abschwächen von Nutzstrahlung 10 auf, die über
den Feldfacetten 19 zugeordnete Ausleuchtungskanäle
geführt wird. Der in der 14 unten
dargestellte Feldfacettenspiegelabschnitt 33 hat dabei
keine Abschwächungselemente. Die Feldfacetten 19 des
mittleren Feldfacettenabschnitts 32 tragen jeweils Abschwächungselemente 62 eines
ersten Typs 62a. Diese Abschwächungselemente 62 sind
als rechteckige Blendenkörper ausgeführt, die sich über
die gesamte Breite der Feldfacetten 19 in x-Richtung erstrecken.
Die Abschwächungselemente vom Typ 62a erstrecken
sich in y-Richtung in etwa über 1/3 der gesamten y-Erstreckung
der Feldfacetten 19. Die Abschwächungselemente 62 können
als Absorber, als Reflektoren oder auch als Graufilter ausgeführt
sein.
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In
den drei Facettenzeilen des Feldfacettenabschnitts 32 liegen
die Abschwächungselemente vom Typ 62a an verschiedenen
y-Positionen auf den jeweiligen Feldfacetten 19 vor. In
der obersten Feldfacettenzeile des Feldfacettenspiegelabschnitts 32 schwächen
die Abschwächungselemente 62a das oberste Drittel
der Feldfacetten 19, in der mittleren Zeile das mittlere
Drittel und in der unten Zeile das untere Drittel der Feldfacetten 19.
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Im
Feldfacettenspiegelabschnitt 31, der in der 14 oben
dargestellt ist, liegen ebenfalls als rechteckige Blendenkörper
ausgeführte Abschwächungselemente des Typs 62b vor,
die sich ebenfalls über die gesamte x-Erstreckung der Feldfacetten 19 erstrecken,
jedoch im Unterschied zu den Abschwächungselementen vom
Typ 62a in etwa die Hälfte der y-Erstreckung der
Feldfacetten 19 abschwächen. Die genaue Position
des geschwächten y-Abschnitts der gesamten y-Erstreckung
der jeweiligen Feldfacetten 19 ist dabei statistisch über
die Feldfacetten 19 des Feldfacettenabschnitts 31 verteilt.
Manche der Feldfacetten 19 im Feldfacettenabschnitt 31 werden
im in der 14 oberen Bereich abgeschwächt,
manche im unteren Bereich und manche in einem mittleren Bereich.
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Mit
den Abschwächungselementen 62 wird ein Lichtverlust
in den Ausleuchtungskanälen kompensiert, der über
die Einstellung einer Polarisationskonfiguration nach Art der in 8 dargestellten Konfiguration
kompensiert wird. Dies wird nachfolgend unter der Annahme erläutert,
dass bei der Herstellung einer bestimmten Polarisationskonfiguration Nutzstrahlung 10,
die auf den Feldfacettenspiegelabschnitt 33 trifft, zwei
Umlenkungen mehr erfährt, als Nutzstrahlung 10,
die auf den Feldfacettenspiegelabschnitt 31 trifft und
eine Umlenkung mehr erfährt, als Nutzstrahlung 10,
die auf den Feldfacettenspiegelabschnitt 32 trifft. Der
zusätzliche Lichtverlust aufgrund der Umlenkungen wird
durch Einführen eines Lichtverlusts über die Abschwächungselemente 62 so kompensiert,
dass alle Ausleuchtungskanäle zur Beleuchtung des Objektfelds 5 mit
der gleichen Stärke der Nutzstrahlung 10 beitragen.
Dies ist schematisch in der 14 rechts
dargestellt, die die Ausleuchtungsintensität der Pupillenfacetten 20 des
Pupillenfacettenspiegels 14 bei über die Abschwächungselemente 62 realisierter
Intensitätskompensation darstellt. Alle Pupillenfacetten 20 des
Pupillenfacettenspiegels 14 werden aufgrund der Kompensation
mit der gleichen Intensität ausgeleuchtet. Es resultiert eine
entsprechend gleichmäßige Ausleuchtung des Objektfelds 5 über
alle Ausleuchtungskanäle.
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Die
Abschwächungselemente 62 können, damit
eine in x-Richtung über das Objektfeld 5 abhängige
Intensitätsbeeinflussung erfolgt, auch von einer Rechteckform
abweichen und längs der x-Richtung eine Konturierung aufweisen.
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Je
nach Zuordnung der Abschwächungselemente verschiedener
Typen, beispielsweise der Typen 62a, 62b, zu den
Ausleuchtungskanälen lässt sich weiterhin eine
bestimmte Beleuchtungsparameter beeinflussende Wirkung der Abschwächungselemente
gezielt erzeugen oder vermeiden. Beispiele für derartige
Beleuchtungsparameter sind die Elliptizität sowie die Telezentrie
der Beleuchtung des Objektfelds 5.
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Entsprechende
Abschwächungselemente zur Beeinflussung der Intensität
der Nutzstrahlung 10 in den Ausleuchtungskanälen
können auch an anderer Stelle der jeweiligen Ausleuchtungskanäle
vorgesehen sein, beispielsweise am Pupillenfacettenspiegel 14.
Dort können als Abschwächungselemente ringförmige
Blenden, die einzelnen Pupillenfacetten 20 zugeordnet sind,
vorgesehen sein. Dies kann insbesondere zur Korrektur von Inhomogenitäten
der Intensitätsverteilung bei der Ausleuchtung der Pupillenfacetten 20 herangezogen
werden.
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Anhand
der 15 bis 18 wird
nachfolgend die Ausführung eines als polarisierender Strahlteiler
ausgeführten Polarisationselements 63 beschrieben,
das beispielsweise als das Polarisationselement 37 nach 9 oder
als das Polarisationselement 47 nach 11 eingesetzt
werden kann. Das Polarisationselement 63 ist als freistehende Membran
mit einer Mehrlagenstruktur ausgeführt. Nähere
Details zum Mehrlagenaufbau des Polarisationselements 63 ergeben
sich aus der vergrößerten Schnittdarstellung der 17.
Die Membran ist aufgebaut aus einer Mehrzahl von Bilayern aus Molybdän
einerseits und Silizium andererseits, wobei beispielsweise dreißig
derartiger Bilayer aufeinander folgen können. Jeder der
Bilayer hat eine Gesamtstärke d, die sich aus der Summe
der Stärken der beiden den Bilayer aufbauenden Lagen aus
Molybdän einerseits und Silizium andererseits zusammensetzen, von
10 nm, sodass die gesamte Membran mit den dreißig Bilayer
eine Stärke d von etwa 300 nm hat.
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Eine
Schichtspannung in der freistehenden Membran, also in dem freistehenden
Multilayer, kann über ein Schichtdickenverhältnis
der Molybdänschicht einerseits zur Siliziumschicht andererseits
innerhalb eines Bilayers, also innerhalb einer Periode, eingestellt
werden. Dieses Schichtdickenverhältnis wird auch bezeichnet
als
wobei gilt:
- Δ(Mo):
- Schichtdicke der Molybdänlage
des Bilayers;
- Δ(Si):
- Schichtdicke der Siliziumlage
des Bilayers.
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Es
gilt zudem: Δ(Mo) + Δ(Si) = d.
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Das
Polarisationselement 63 wird von der Nutzstrahlung 10 unter
einem Einfallswinkel α von etwa 45° durchstrahlt.
Das Polarisationselement 63 hat einen Einfallswinkelbereich
von etwa 2°, innerhalb dem eine Transmission s-polarisierter
Nutzstrahlung 10 von unter 0,1% vorliegt, wohingegen p-polarisierte
Nutzstrahlung 10 eine Transmission von etwa 20% aufweist.
Ein linearer Polarisationsgrad liegt daher bei über 99%.
Durch Änderung des Einfallswinkels α kann das
Polarisationselement 63 in seiner linear polarisierenden
Wirkung auf eine Änderung der Wellenlänge der
einfallenden Nutzstrahlung 10 abgestimmt werden.
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Da
das Polarisationselement 63 extrem dünn ist, führt
eine Verkippung des Polarisationselements 63 zur Anpassung
der polarisierenden Wirkung (vergleiche Doppelpfeil 64 in der 16)
nicht zu einer Richtungsänderung oder zu einem Versatz
der durchgehenden Nutzstrahlung 10d.
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Durch
eine Verschwenkung des Polarisationselements 63 um die
Strahlrichtung der Nutzstrahlung 10 (vergleiche Doppelpfeil 65 in
der 18) kann die lineare Polarisationsrichtung der
durchgelassenen Nutzstrahlung 10d eingestellt werden. Gleichzeitig ändert
sich sowohl die Polarisationsrichtung als auch die Strahlrichtung
der reflektierten Nutzstrahlung 10r.
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Die
Mehrlagenstruktur mit den beispielsweise dreißig Bilayern
kann freistehend ausgeführt sein, kann auf eine Membran
beispielsweise aus Silizium oder Siliziumnitrid aufgebracht sein
oder kann auf ein Stützgitter oder auf eine Kombination
einer Membran mit einem Stützgitter aufgebracht sein. Eine
freistehende Mehrlagenanordnung kann erzeugt werden, indem die Mehrlagenstruktur
zunächst auf eine Membran aufgedampft wird und Letztere
dann durch einen Ätzprozess entfernt wird.
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Soweit
weniger hohe Anforderungen an die polarisierende Wirkung des Polarisationselements 63 gestellt
werden, kann dieses auch aus einer geringeren Anzahl von Bilayern,
beispielsweise aus achtzehn Bilayern, gefertigt werden.
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Abschwächungselemente
nach Art der Abschwächungselemente 62 können
auch bei einer Beleuchtungsoptik 4 mit einem spekularen
Reflektor nach Art der Beleuchtungsoptik nach 12 zum Einsatz
kommen.
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Polarisationselemente
und insbesondere Drahtgitter-Polarisatoren nach Art derjenigen,
die vorstehend beispielsweise unter Bezugnahme auf die 3 bis 5 erläutert
wurden, sind nicht auf den Einsatz auf Facetten eines Facettenspiegels
und auch nicht auf den Einsatz in der Beleuchtungsoptik 4 beschränkt.
Derartige Drahtgitter-Polarisatoren können auch auf nicht
in Facetten unterteilten Spiegeln der Beleuchtungsoptik 4 und/oder
der Projektionsoptik 7 vorgesehen sein. Auch derartige,
nicht unterteilte Drahtgitter-Spiegel können zur Vorgabe
der Polarisationsrichtung verdrehbar gelagert sein.
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Auch
die Anwendung der freistehenden Membran 63 ist nicht auf
den Strahlengang der Nutzstrahlung 10 innerhalb der Beleuchtungsoptik 4 beschränkt.
Die freistehende Membran 63 kann auch beispielsweise innerhalb
der Projektionsoptik 7 im Abbildungsstrahlengang der Nutzstrahlung 10 zwischen
dem Objektfeld 5 und dem Bildfeld 8 vorgesehen
sein.
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ZITATE ENTHALTEN IN DER BESCHREIBUNG
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Patent- bzw. Gebrauchsmusteranmeldung. Das DPMA übernimmt
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-
Zitierte Patentliteratur
-
- - WO 2006/111319
A2 [0002]
- - US 6859328 [0002]
- - EP 1306665 A2 [0006]
- - DE 10327963 A1 [0006]
- - US 2006/0221453 A1 [0006]
- - US 2006/0132747 A1 [0021, 0115]
- - EP 1225481 A [0063]
- - US 6658084 B2 [0097]
-
Zitierte Nicht-Patentliteratur
-
- - H. Tamada
et. al. „Al Wire-grid polarizer using the s-polarization
resonance effect at the 0,8 μm wavelength band”,
Opticsletters, Vol. 22, No. 6, 1999, S. 419 ff [0076]
