DE102007038704B4 - Substratbelichtungsvorrichtung - Google Patents
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Abstract
Description
- Hintergrund der Erfindung
- Die vorliegende Erfindung betrifft eine Substratbelichtungsvorrichtung. Eine Substratbelichtungsvorrichtung mit den Merkmalen des Oberbegriffs des Patentanspruchs ist aus der
US 2005/0219493 A1 - Das vorherige Vorgehen zur Aufbringung eines Musters auf eine gedruckte Leiterplatte, das TFT-Substrat oder Farbfiltersubstrat einer Flüssigkristallanzeige oder das Substrat einer Plasmaanzeige durch Belichtung bestand darin, eine Maske herzustellen, die die Druckvorlage bzw. den Master des Musters bildet, und das Substrat mit der Maskenbelichtungsvorrichtung unter Verwendung dieser Mastermaske zu belichten. Jedoch verursachte die Herstellung einer Maske für jedes Substrat Probleme, zum Beispiel, dass es lange Zeit dauerte, um das beabsichtigte Produkt zu erhalten. Als Lösung für diese Probleme wird jetzt immer mehr das angewandt, was als die Direkt-belichtungsmaschine (DE) bekannt ist, die ein gewünschtes Muster (durch Belichtung) direkt aufzeichnen kann, indem ein zweidimensionaler räumlicher Lichtmodulator, der zu einer zweidimensionalen Lichtmodulation imstande ist, eingesetzt wird, wie etwa eine Flüssigkristallanzeige oder eine Digitalspiegelvorrichtung (DMD) (siehe
JP 2004-039871 A JP 2004-039871 A - Zusammenfassung der Erfindung
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11 zeigt eine Draufsicht auf einen zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulator. - In einer DMD sind quadratische Anzeigebildelemente (Mikrospiegel; nachstehend einfach als „Spiegel“ bezeichnet) in einer Anordnung von Nx Säulen in Querrichtung (der x-Richtung) bzw. Ny Reihen in Längsrichtung (der y-Richtung) angeordnet. Normalerweise beträgt das Verhältnis zwischen Nx und Ny ungefähr 4:3.
- Die vorherige Praxis bestand darin, die gesamte Ebene der optischen Modulation (die Fläche Nx x Ny, wenn die Lücken zwischen benachbarten Spiegeln unbeachtet gelassen und die Länge des Spiegels als Einheit verwendet wird; nachstehend wird die Ebene der optischen Modulation auch als DMD bezeichnet) mit Licht zu bestrahlen und die Spiegel entsprechend dem zu zeichnenden Muster ein- und auszuschalten.
- In den letzten Jahren wurde entdeckt, dass dort, wo die zugeführte optische Energie dieselbe ist, die Belichtungsgeschwindigkeit erhöht werden konnte, indem eine bestrahlte Fläche zu einem Rechteck geformt wurde (Hx x Hy), dessen kürzere Seiten sich in Bewegungsrichtung des Substrats befinden, und der Wert Hx/Hy dann durch Bestrahlen der gesamten DMD-Fläche erhöht wurde, deren Verhältnis Nx/Ny aufgrund der Eigenschaften der DMD 4:3 beträgt. Somit kann selbst in der DMD, in der Nx x Ny Spiegel angeordnet sind, die Belichtungsgeschwindigkeit beschleunigt werden, indem nur die Spiegel in der Fläche Hx x Hy in der Veranschaulichung bewegt werden. In der folgenden Beschreibung wird, da Hx = Nx, wobei eine DMD von Nx x Ny verwendet wird, die Anzahl der Spiegel in x-Richtung als Hx anstatt Nx bezeichnet. Außerdem ist es zur Vereinheitlichung der Lichtintensität zur Bestrahlung der DMD bevorzugt, mindestens fünf (bevorzugter sieben) Stablinsen auf jeder Seite des Integrators anzuordnen.
- Dort, wo die Fläche Hx x Hy zu bestrahlen ist, kann durch Bündelung von Stablinsen im Voraus so, dass das Längenverhältnis der Stablinsen Hx/Hy, ähnlich der bestrahlten Fläche, gemacht wird und der Abschnitt des Integrators zur bestrahlten Fläche (das heißt in denselben Zahlen in den xy-Richtungen) gemacht wird, Formen des Lichts , das auf diesen Integrator einfallen gelassen werden soll, im Wesentlichen zu einem Kreis und Verdichten des Lichts, das aus den Stablinsen ausgetreten ist, mit einer drehsymmetrischen Kondensorlinse, die Fläche Hx x Hy gleichmäßig bestrahlt werden, aber auf diese Weise ist eine große Anzahl von Stablinsen notwendig.
- Da weiterhin der Divergenzwinkel in dem Licht, das die Fläche Hx x Hy bestrahlt, in weitem Umfang unterschiedlich ist, unterscheidet sich die Linienbreite zwischen Linien in x-Richtung und Linien in y-Richtung, was es unmöglich macht, eine Belichtung höherer Qualität zu erreichen. Konventionellerweise konnte dieses Problem gelöst werden, indem das Licht, das auf dem Integrator zum Einfallen gebracht wird, im Wesentlichen oval geformt wurde und dadurch die Divergenzwinkel im Wesentlichen ausgeglichen wurden, aber dies war in etwa die Grenze des einstellbaren Bereichs.
- Die
US 2005/0219493 A1 - Die
US 2005/0168829 A1 - Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist die Bereitstellung einer Belichtungsvorrichtung, die eine Belichtung höherer Qualität und eine höhere Betriebsgeschwindigkeit erlauben, selbst wenn das Verhältnis Hx/Hy zwischen der Querdimension Hx und der Längsdimension Hy (wobei die Längsrichtung die Bewegungsrichtung des zu belichtenden Substrats ist) der Ebene der optischen Modulation eines zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators beispielsweise 1,5 oder mehr beträgt.
- Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß mit einer Substratbelichtungsvorrichtung mit den Merkmalen des Patentanspruchs gelöst.
- Gemäß der Erfindung können eine Belichtung höherer Qualität und eine höhere Betriebsgeschwindigkeit selbst dort erreicht werden, wo das Verhältnis Hx/Hy zwischen der Querdimension Hx und der Längsdimension Hy (wobei die Längsrichtung die Bewegungsrichtung des zu belichtenden Substrats ist) der Ebene der optischen Modulation eines zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators beispielsweise 1,5 oder mehr beträgt.
- Figurenliste
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1 zeigt die Konfiguration einer Substratbelichtungsvorrichtung gemäß der Erfindung; -
2 zeigt eine perspektivische Ansicht einer Lichtquelleneinheit gemäß der Erfindung; -
3 zeigt eine Draufsicht auf die Einfallsebene eines Integrators; -
4A und4B zeigen die Beziehung zwischen dem vorderen Objektivbrennpunkt und dem hinteren Objektivbrennpunkt eines zweiten optischen Systems gemäß der Erfindung; -
5 zeigt die Konfiguration eines Projektionssystems längs der Mittelachse in O-Richtung; -
6A und6B zeigen die Konfiguration einer Mikrolinsenanordnung; -
7A und7B zeigen die Konfiguration einer Lochanordnung; -
8 zeigt die Beziehung zwischen der Mikrolinsenanordnung und der Lochanordnung; -
9 zeigt die Beziehung zwischen Licht, das auf eine Mikrolinse fällt und das auf ein Loch fällt; -
10 zeigt ein Bild der Lochanordnung, die auf einem Belichtungssubstrat ausgebildet ist; und -
11 zeigt eine Draufsicht eines zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators. - Detaillierte Beschreibung der bevorzugten Ausführungsformen
-
1 zeigt die Konfiguration einer Belichtungsvorrichtung gemäß der Erfindung. - Zuerst wird die Gesamtkonfiguration beschrieben.
- N Laserstrahlen, deren Hauptsstrahlen parallel zur Mittelachse
O sind, werden von einer Lichtquelleneinheit100 ausgegeben. Wenn die Lichtquelleneinheit100 vorliegend als einzelne bzw. einzige Lichtquelle angenommen wird, wird die Mittelachse der Lichtausgabe von der Lichtquelleneinheit100 als MittelachseO bezeichnet. Auf der MittelachseO sind ein optisches System12 , ein Integrator13 , ein zweites optisches System15 , ein Spiegel16 , ein zweidimensionaler räumlicher Lichtmodulator2 und ein Projektionssystem3 angeordnet. Ein auf einem Tisch4 angebrachtes Belichtungssubstrat5 ist auf der Emissionsseite des Projektionssystems3 angeordnet. - Als Nächstes wird jedes einzelne Element in entsprechender Reihenfolge beschrieben.
- Zuerst wird die Lichtquelleneinheit
100 beschrieben. -
2 zeigt eine perspektivische Ansicht der Lichtquelleneinheit100 . Die Lichtquelleneinheit100 beinhaltet eine Halbleiterlaseranordnung111 und eine Strahlformungsvorrichtung11 . In der Halbleiterlaseranordnung111 sind mehrere Halbleiterlaser (nachstehend als LDs abgekürzt)1111 mit einer Wellenlänge von 407 nm (oder 375 nm) in gleichen Abständen bzw. Pitches in den xy-Richtungen angeordnet. Die Divergenzwinkel der LD-emittierten Strahlen in2 betragen 22° in Vertikalrichtung und 8° in Horizontalrichtung. Die Strahlformungsvorrichtung11 ist aus einer Zylinderlinsenanordnung112 und einer Zylinderlinsenanordnung113 ausgebildet. Die Zylinderlinsenanordnung112 beinhaltet Zylinderlinsen1121 , die in Vertikalrichtung angeordnet sind. Die Zylinderlinsen1121 , deren Brennweite kurz ist (7 mm), erzeugen Strahlen von 22° im Divergenzwinkel, der im Wesentlichen parallel zur Vertikalrichtung ist. Die Zylinderlinsenanordnung113 beinhaltet Zylinderlinsen1131 , die in Horizontalrichtung angeordnet sind. Die Zylinderlinsen1131 , deren Brennweite lang ist (23 mm), erzeugen Strahlen von 8° im Divergenzwinkel, der im Wesentlichen parallel zur Horizontalrichtung ist. Die vorstehend beschriebene Konfiguration lässt die Hauptstrahlen der aus der großen Anzahl von LDs1111 emittierten Laserstrahlen im Wesentlichen parallel zueinander (d. h. hoch gerichtet) werden. - Das optische System
12 , das zum Beispiel aus einer Kondensorlinse zusammengesetzt ist, richtet die hauptsächlichen der aus der Strahlformungsvorrichtung11 ausgegebenen N Laserstrahlen auf die Mitte der Einfallsebene des Integrators13 und die aus den LDs emittierten Strahlen auf die äußere Form des Integrators13 (formt sie beispielsweise zu einem Strahl mit einem Durchmesser, der den Integrator13 umschreibt). - Als Nächstes wird der Integrator
13 beschrieben. -
3 zeigt eine Draufsicht auf die Einfallsebene des Integrators13 . - Der Integrator
13 beinhaltet J und K Stablinsen131 , die in x-Richtung bzw. y-Richtung angeordnet sind. Jede der Stablinsen131 misst dx in x-Richtung und dy in y-Richtung. Daher sind die äußeren Dimensionen Dx und Dy des Integrators in den xy-Richtungen Jdx bzw. Kdy. - Mit der Länge und dem Brechungsindex von jeder Stablinse
131 , die durch L bzw. n dargestellt sind, sind die Krümmungen R der Stablinse131 auf den Einfalls- und Austrittsseiten (n - 1)L/n. Die Hauptstrahlen der Strahlen, die aus der Austrittsebene13A des aus solchen Stablinsen131 zusammengesetzten Integrators13 emittiert werden, sind, von welcher Stablinse131 sie auch immer kommen mögen, ebenfalls parallel zur MittelachseO . Die Divergenzwinkel θx und θy in den xy-Richtungen der aus den Stablinsen131 in xy-Richtungen austretenden Strahlen sind durch die Gleichungen 1 und 2 dargestellt. - Wie durch die Gleichungen 1 und 2 angegeben ist, sind die Divergenzwinkel in den xy-Richtungen der aus den Stablinsen
131 austretenden Strahlen proportional zu den Quer- und Längslängen der Endeinfalls- und -austrittsebenen der Stablinsen131 . - Als Nächstes wird das zweite optische System
15 beschrieben. - Wie in
1 gezeigt ist, beinhaltet das zweite optische System15 sphärische Linsen151 und156 und zylindrische Linsen152 bis155 . Die sphärische Linse151 , die zylindrische Linse153 mit Leistung in x-Richtung und die sphärische Linse156 bilden die Brennweite in der x-Richtung fx, während die sphärische Linse151 , die zylindrischen Linsen152 ,154 und155 mit Leistung in y-Richtung und die sphärische Linse156 die Brennweite in der y-Richtung fy bilden. -
4A und4B zeigen die Beziehung zwischen dem vorderen Objektivbrennpunkt und dem hinteren Objektivbrennpunkt des zweiten optischen Systems15 gemäß der Erfindung, wobei4A die x-Richtung und4B die y-Richtung zeigt. - Wie in
4A gezeigt ist, ist die Austrittsebene13A des Integrators13 am vorderen Objektivbrennpunkt und die Ebene der optischen Modulation21B des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators2 am hinteren Objektivbrennpunkt, in x-Richtung, angeordnet. Des Weiteren ist, wie in4B gezeigt, die Austrittsebene13A des Integrators13 am vorderen Objektivbrennpunkt und die Ebene der optischen Modulation21B des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators21 am hinteren Objektivbrennpunkt, in y-Richtung, angeordnet. Pf in den4A und4B gibt die Position der vorderen Hauptebene an und Pb gibt diejenige der hinteren Hauptebene an. WD steht für den Abstand von dem zweiten optischen System15 zu dem zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulator2 . Wie darin gezeigt ist, ist die Brennweite fx länger als die Brennweite fy. - Da die Divergenzwinkel in x-Richtung und in y-Richtung von Strahlen, die aus den Stablinsen
131 austreten, welche den Integrator13 bilden, durch θx bzw. θy dargestellt sind, sind die Breiten Wx und Wy der Beleuchtungsstrahlen, die hauptsächlich die Ebene der optischen Modulation21B des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators2 bestrahlen, durch die Gleichungen 3 bzw. 4 angegeben. - Indem diese beleuchtete Fläche Wx x Wy so nahe wie möglich an die Anzeigefläche Hx x Hy des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators gebracht wird, kann die Effizienz der Lichtverwendung verbessert werden.
- Als Nächstes wird das Projektionssystem
3 beschrieben. -
5 zeigt die Konfiguration des Projektionssystems3 längs der Mittelachse in O-Richtung.6A und6B zeigen die Konfiguration einer Mikrolinsenanordnung und7A und7B zeigen die Konfiguration einer Lochanordnung, wobei in jeder A ein Profil und B eine Draufsicht zeigt.8 zeigt die Beziehung zwischen einer Mikrolinsenanordnung331 und einer Lochanordnung332 . - Das Projektions-/Bildformungslinsensystem
3 in dieser Ausführungsform beinhaltet eine erste Projektions-/Bildformungslinse31 , die in Richtung der optischen Achse angeordnet ist, eine Mikrolinseneinheit33 und eine zweite Projektions-/Bildformungslinse32 . Die Mikrolinseneinheit33 beinhaltet die Mikrolinsenanordnung331 und die Lochanordnung332 , in der Löcher3321 mit der Bohrung w gebohrt sind, wobei die Anordnungen einander mit einem Abstandhalter333 dazwischen gegenüberliegen. - Licht (Anzeigebildelemente), das durch die Ebene der optischen Modulation
21B des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators2 moduliert wird, wird veranlasst, ein Bild auf den Mikrolinsen3311 der Mikrolinsenanordnung331 durch die erste Projektions-/ Bildformungslinse31 zu formen, und wird in den Löchern3321 verdichtet. Die Brennweite der Mikrolinsen3331 beträgt 300 µm und die Löcher3321 öffnen sich in den Fokalpositionen dieser Mikrolinsen. Licht, das durch die Mikrolinsen3311 und die Löcher3321 hindurchgegangen ist, wird durch die zweite Projektions-/Bildformungslinse32 veranlasst, ein Lochbild auf der lichtempfindlichen Schicht des auf dem Tisch4 angebrachten Belichtungssubstrats5 zu formen. - Als Nächstes wird die Notwendigkeit beschrieben, die Beleuchtungs-Richtcharakteristiken NAσx und NAσy in den xy-Richtungen im Wesentlichen gleich zu machen, wobei NA die numerische Apertur der Projektions-/Bildformungslinse
3 ist bzw. σx, σy die Sigmawerte in den xy-Richtungen sind. -
9 zeigt die Beziehung zwischen Licht, das auf eine Mikrolinse3311 und ein Loch3321 fällt. In dieser Zeichnung stehtLc für die Mittelachse des Hauptlichtstrahls undLd steht für diejenige des auf den äußersten Umfang einfallenden Strahls. - Wie vorstehend beschrieben, beleuchten die aus dem Integrator
13 austretenden Beleuchtungsstrahlen den zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulator mit den Beleuchtungs-Richtcharakteristiken NAσx und NAσy in den xy-Richtungen. Da die Vergrößerung der Bildformation durch die erste Projektions-/Bildformungslinse31 durch M1 dargestellt ist, wird nun der StrahlLd auf den äußersten Umfang von den Strahlen, die auf die Mikrolinsen einfallen, um Δθ von dem HauptstrahlLc , der auf die in9 gezeigte Mikrolinse3311 einfällt, geneigt und die Werte Δθx und Δθy in den xy-Richtungen von Δθ sind durch die Gleichungen 5 bzw. 6 gegeben. - Dieses Schmalbündel von Lichtstrahlen auf dem äußersten Umfang wird, nachdem es die Mikrolinse
3311 passiert hat, in einer von der Mitte des Lochs3321 um Δw entfernten Position verdichtet. Da die x-Komponente und die y-Komponente von Δw durch Δwx bzw. Δwy dargestellt werden, sind Δwx und Δwy durch die Gleichungen 7 und 8 in Bezug zur Brennweite fML dargestellt. - Wenn sich diese Lichtverdichtungsposition aus der Apertur der Löcher herausbewegt, wird die Effizienz der Lichtverwendung verringert, da von den Löchern entfernte Strahlen nicht zur Belichtung beitragen. Da die Löcher
3321 kreisförmig sind, ist es wünschenswert, dass NAσx und NAσy gleich sind, damit die Schmalbündel von Lichtstrahlen, die durch Δθx und Δθy, die die äußerste Umfangskomponente darstellen, geneigt sind, in die Löcher3321 eintreten. - Das durch die Mikrolinsenanordnung
331 und die Lochanordnung332 übertragende Licht bildet, nachdem es durch die zweite Projektions-/Bildformungslinse32 übertragen worden ist, ein Bild auf dem Belichtungssubstrat5 der Lochanordnung332 aus, wie in10 gezeigt. Die Breite (Größe) des Lochbilds71 relativ zu der Steigung des Lochanordnungsbilds7 ist normalerweise 1/10 bis 1/2. Daher würde ein Abtasten des Tischs4 in der Anordnungsrichtung der Lochanordnung7 Teile unbelichtet lassen. Zur Lösung dieses Problems sind die Abtastrichtung und die Anordnungsrichtung des Lochanordnungsbilds7 um ΔΦ geneigt, indem der Tisch4 in die durch einen Pfeil in10 angegebene Richtung abgetastet wird. Dies führt zu einem Überlappen der Bilder71A und71B durch das Abtasten (das heißt, dieselbe Position auf dem Substrat wird wieder belichtet). Des Weiteren ist es in dem veranschaulichten Fall möglich, da Reihen, die der Steigung18 entsprechen, zwischen 71A und 71B liegen, eine Belichtung bei 1/18 der Entsprechung Pi der Steigung eins des Lochanordnungsbilds zu erreichen, das heißt mit einer Auflösung von Pi/ 18. Da ein kleineres Lochbild als das Bild der Apertur des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators2 im Wesentlichen ausgebildet wird, ist nicht nur die Definitionsauflösung verbessert, sondern eine Belichtung bei dieser Auflösung von 1/ 18 der Lochsteigung wird möglich. - Die Hinzufügung einer zu feinen Auflösung hätte eine geringe praktische Wirkung, während eine zu grobe Auflösung die Glätte durch Neigen des Musters oder Ausbilden des Rands im Zickzack beeinträchtigen würde. Daher ist es wünschenswert, die Auflösung zwischen 1/60 und 1/7 der Entsprechung Pi der Steigung eins des Lochanordnungsbilds (Δδ = 0,5° bis 8°) zu wählen.
- Als Nächstes wird die Beziehung zwischen dem Integrator
13 , den Stablinsen131 und der bestrahlten Fläche Hx x Hy beschrieben. - Wie vorstehend angegeben ist, sind die Dimensionen des Integrators in den x- und y-Richtungen Dx bzw. Dy. Des Weiteren sind die Dimensionen der Stablinsen
131 in den x- und y-Richtungen dx und dy, die Expansionswinkel (Divergenzwinkel) des Lichts, das aus den Stablinsen131 in den x- und y-Richtungen austritt, sind θx bzw. θy. Die Brennweiten des zweiten optischen Systems sind fx und fy und die Dimensionen des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators in den x- und y-Richtungen sind Hx bzw. Hy. -
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- Daher wird, wenn Wx = Hx und Wy = Hy angenommen wird, Hx/Hy bestimmt, wobei
- (1) die Bestimmung von θx und θy fy und fx auf der Basis der Gleichungen 12 und 13 ergibt, und
- (2) die Bestimmung von fy und fx Dx und Dy auf der Basis der Gleichung 11 ergibt.
- Als Nächstes wird ein bestimmter Fall von zum Beispiel Hx/Hy = 2,5 beschrieben.
- Nun ist unter der Annahme, dass θx:θy = 1,6:1, aus den Gleichungen 12 und 13 fx/fy = 1,6 gegeben. Das Einsetzen von fx/fy = 1,6 in Gleichung 11 ergibt Dx/ Dy = 1,6.
- Da Dx/Dy = θx/θy = 1,6, kann ein Integrator einschließlich Stablinsen
131 , die in gleicher Anzahl in den x- und y-Richtungen gestapelt sind, verwendet werden. - Das heißt, ein zweites optisches System
15 mit fx:fy = 1,6:1 kann, selbst wenn ein Integrator13 mit Dx:Dy = 1,6:1 verwendet wird, das Verhältnis der Ebene der optischen Modulation21B des zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators zu 2,5:1 machen. Die Form jeder einzelnen Stablinse kann nahe an dx:dy = 1,6:1, ausreichend nahe an 1, gebracht werden. - Mit anderen Worten kann, indem die Brennweiten des zweiten optischen Systems in den xy-Richtungen fx:fy = 1,6:1 gemacht werden, das Aperturverhältnis Kh der Ebene der optischen Modulation
21B zu 2,5:1 gemacht werden, selbst wenn das Aperturverhältnis Kr der Stablinsen131 1,6:1 beträgt. - Im Übrigen ist in tatsächlichen Vorrichtungen die Wahl nicht auf diese Werte beschränkt und jede Beziehung kann eine Toleranz von ungefähr ±25% aufweisen. Somit kann NAσx/NAσy beispielsweise zu 0,75 bis 1,25 gemacht werden. Es wurde bestätigt, dass Hx/Hy auf diese Weise zum Beispiel zu 3,5 oder mehr gemacht werden kann.
- Wie bisher beschrieben wurde, kann die Belichtungsgeschwindigkeit beschleunigt werden, da die Erfindung es ermöglicht, dass aus der Lichtquelle emittiertes Licht einen zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulator von hohem Aperturverhältnis effizient und gleichmäßig beleuchtet.
- Zusätzlich können, obwohl die oben beschriebene Ausführungsform Halbleiterlaser (LDs) als Lichtquelle verwendet, andere Laser als Halbleiterlaser, Quecksilberlampen, lichtemittierende Dioden, die in ihrer Richtcharakteristik relativ erhöht sind, oder dergleichen genauso gut anstelle von LDs verwendet werden.
- Das zweite optische System kann entweder nur eine Zylinderlinse mit Leistung in x-Richtung oder y-Richtung oder eine Toroidlinse mit verschiedenen Leistungen in den xy-Richtungen verwenden.
Claims (1)
- Substratbelichtungsvorrichtung mit: einer Belichtungslichtquelle; einer Strahlformungsvorrichtung (100), die aus der Belichtungslichtquelle (111) emittiertes Licht zu gerichtetem Licht formt; einem ersten optischen System (12), das das gerichtete Licht zu einem Integrator (13) führt, wobei der Integrator (13) aus J und K Stablinsen (131) besteht, die in x-Richtung und y-Richtung angeordnet sind, wobei jede der Stablinsen (131) dx in x-Richtung und dy in y-Richtung misst, und die Länge und der Brechungsindex mit L und n bezeichnet sind, und die Divergenzwinkel der aus den Stablinsen austretenden Strahlen mit θx und θy bezeichnet sind; einem zweiten optischen System (15), das eine Fläche mit den Ausdehnungen Wx und Wy in der Ebene eines zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulators mit Licht bestrahlt, das aus dem Integrator austritt, wobei die Brennweiten in x- und y-Richtung mit fx und fy bezeichnet sind; dem zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulator (2), dessen räumliche Abmessungen in x- und y-Richtung Hx und Hy sind; und einem Tisch (4), auf dem das Belichtungssubstrat angeordnet ist und der das Belichtungssubstrat in mindestens einer Richtung abtastet, gekennzeichnet durch ein optisches Projektionssystem (3), das das Licht, das von dem zweidimensionalen räumlichen Lichtmodulator reflektiert oder übertragen wird, auf ein Belichtungssubstrat projiziert und dieses belichtet und eine Mikrolinseneinheit (33) mit einer Mikrolinsenanordnung (331) und einer Lochanordnung (332) aufweist; wobei Wx = Hx und Wy = Hy festgelegt wird, und die Parameter Wx, Wy, dx, dy, J, K, L, n, fx und fy folgende Gleichungen erfüllen:
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