DE102007001196A1 - Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises - Google Patents

Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises Download PDF

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises, bei welchem Zellen (1-5) bereitgestellt werden, deren maximale Ausdehnungen in einer ersten Richtung (10) gleich sind. Eine äußere Begrenzungslinie mindestens einer ersten Zelle (3-5) weist die Form eines Polygons mit mindestens fünf Eckpunkten auf. Zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises werden die Zellen (1-5) platziert.

Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises. Ferner betrifft die Erfindung Computerprogrammprodukte, Datenträger und Computersysteme, die es ermöglichen, das Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises auszuführen.
  • Beim Erstellen des Layouts eines integrierten Schaltkreises wird üblicherweise eine Abfolge wohldefinierter Arbeitsschritte durchlaufen mit dem Ziel, eine grafische Repräsentation einer elektronischen Schaltung, die der späteren tatsächlichen Anordnung der Schaltung auf dem Halbleitersubstrat entspricht, zu entwerfen. Dies kann beispielsweise das Erstellen eines logischen Schaltungskonzepts, das Definieren der Bauteile und deren Verknüpfung sowie das Bestimmen von Positionierung und Verdrahtung der Bauelemente beinhalten. Da in integrierten Schaltungen regelmäßig vielfach wiederkehrende Elemente auftreten, wird beim Entwerfen des Layouts oftmals auf vordefinierte Bausteine zurückgegriffen. Diese Bausteine werden beim Entwerfen des Schaltkreises grafisch durch Zellen repräsentiert. Die Zellen werden in der Fachliteratur auch häufig als Standardzellen bezeichnet und können in maschinenlesbaren Zellbibliotheken abgelegt werden.
  • Vor diesem Hintergrund werden Verfahren gemäß den unabhängigen Ansprüchen 1, 12 und 23 sowie Vorrichtungen gemäß den unabhängigen Ansprüchen 30 bis 33 angegeben. Vorteilhafte Weiterbildungen und Ausgestaltungen sind in den Unteransprüchen angegeben.
  • Gemäß einer Ausgestaltung werden bei einem Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises Zellen bereitgestellt, deren maximale Ausdehnungen in einer ersten Richtung gleich sind. Eine äußere Begrenzungslinie mindestens einer ersten Zelle der bereitgestellten Zellen weist die Form eines Polygons mit mindestens fünf Eckpunkten auf. Die bereitgestellten Zellen werden zum Erstellen des Layouts platziert.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung werden bei einem Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises Zellen bereitgestellt, deren maximale Ausdehnungen in einer ersten Richtung gleich sind. Mindestens eine erste Zelle der bereitgestellten Zellen weist in einer zur ersten Richtung senkrechten zweiten Richtung mindestens zwei unterschiedliche Ausdehnungen auf. Die bereitgestellten Zellen werden zum Erstellen des Layouts platziert.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung werden bei einem Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises Zellen bereitgestellt. Die äußere Begrenzungslinie mindestens einer ersten Zelle der bereitgestellten Zellen hat die Form eines Polygons und weist an mindestens einem ersten Eckpunkt des Polygons einen ersten Winkel auf, der ungleich 90° ist. Die bereitgestellten Zellen werden zum Erstellen des Layouts platziert.
  • Gemäß einer weiteren Ausgestaltung werden die Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises in Computerprogrammprodukte integriert und beispielsweise auf einem Datenträger gespeichert. Die Verfahren können z. B. von einem Computersystem ausgeführt werden.
  • Die Erfindung wird nachfolgend in beispielhafter Weise unter Bezugnahme auf die Zeichnungen näher erläutert. In diesen zeigen:
  • 1A eine schematische Darstellung von Zellen mit unterschiedlich geformten äußeren Begrenzungslinien;
  • 1B eine schematische Darstellung einer Anordnung der in 1A gezeigten Zellen in einer Reihe;
  • 2 eine schematische Darstellung mehrerer Zellreihen;
  • 3A eine schematische Darstellung zweier, in CMOS-Technologie ausgeführter L-förmiger Zellen;
  • 3B eine schematische Darstellung einer Gruppierung der in 3A gezeigten Zellen;
  • 4A eine schematische Darstellung von weiteren Zellen mit unterschiedlich geformten äußeren Begrenzungslinien;
  • 4B eine schematische Darstellung einer Anordnung der in 4A gezeigten Zellen in einer Reihe;
  • 4C eine schematische Darstellung einer weiteren Anordnung der in 4A gezeigten Zellen in einer Reihe;
  • 5 eine schematische Darstellung mehrerer Zellreihen; und
  • 6 eine schematische Darstellung von weiteren Zellen mit unterschiedlich geformten äußeren Begrenzungslinien.
  • Im Folgenden werden Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises beispielhaft dargestellt.
  • In 1A sind als Ausführungsbeispiel der Erfindung die äußeren Begrenzungslinien mehrerer Zellen 1 bis 5 schematisch dargestellt. Die Zellen 1 bis 5 repräsentieren vordefinierte Logik-Bausteine, aus denen ein integrierter Schaltkreis aufgebaut werden kann. Die Zellen 1 bis 5 weisen in einer Richtung 10 eine gleiche maximale Ausdehnung auf. Die maximale Ausdehnung der Zellen 1 bis 5 in einer zur Richtung 10 senkrechten Richtung 11 unterliegt keinerlei Beschränkungen und kann von Zelle zu Zelle und auch innerhalb einer Zelle variieren.
  • Die Zellen 1 und 2 sind rechteckförmige Zellen, die sich durch ihre Ausdehnungen in der Richtung 11 unterscheiden. Die Ausdehnung der Zellen 1 und 2 in Richtung 11 ist dabei für jede der beiden Zellen 1 und 2 konstant. Die äußeren Begrenzungslinien der Zellen 1 und 2 sind Polygone mit vier Eckpunkten und jeweils rechten Winkeln zwischen den die Eckpunkte verbindenden Geraden.
  • Die äußeren Begrenzungslinien der Zellen 3 bis 5 stellen Polygone mit mehr als vier Eckpunkten dar. Die Zellen 3 und 5 haben jeweils sechs Eckpunkte, die Zelle 4 hat acht Eckpunkte. Jede der Zellen 3 bis 5 hat mindestens zwei verschiedene Ausdehnungen in Richtung 11 und damit auch verschiedene Ausdehnungen in Richtung 10. Die maximale Ausdehnung in Richtung 10 ist jedoch für alle Zellen 3 bis 5 gleich. Beispielsweise können die Zellen wie die Zellen 3 und 5 L-förmig oder wie die Zelle 4 T-förmig ausgestaltet sein.
  • Die in 1A dargestellten äußeren Begrenzungslinien der Zellen 1 bis 5 stellen nur eine beispielhafte Auswahl der möglichen äußeren Zellformen dar. Die Zellen müssen insbesondere nicht notwendigerweise symmetrisch sein oder rechtwinklige Ecken aufweisen oder auf lediglich zwei unterschiedliche Ausdehnungen in Richtung 11 beschränkt sein.
  • Die Zellen 1 bis 5 können beispielsweise zum Entwerfen des Layouts von integrierten Schaltkreisen verwendet werden. Gemäß einem Ausführungsbeispiel werden die Zellen 1 bis 5 zunächst bereitgestellt (vgl. 1A) und anschließend zum Erstellen des Layouts platziert. Beispielhaft ist eine solche Platzierung der Zellen 1 bis 5 in 1B dargestellt, wobei die Zellen 1 bis 5 entlang der Richtung 11 in einer Reihe angeordnet werden.
  • Aufgrund der nicht rechteckförmigen Begrenzungslinien der Zellen 3 bis 5 kann vorgesehen sein, dass diese Zellen, wie dies in 1B am Beispiel der Zellen 3 und 5 dargestellt ist, ineinander eingreifen, d. h. zusammen geschoben sind und dadurch verzahnen. Durch das Zusammenschieben benachbarter Zellen der Form 3 bis 5 kann die für die Realisierung des integrierten Schaltkreises benötigte Fläche reduziert werden.
  • Des Weiteren ist in 1B am Beispiel der benachbarten Zellen 1 und 3 gezeigt, dass durch eine Aneinanderreihung zweier Zellen, von denen mindestens eine Zelle nicht rechteckförmig ist, ein Freiraum 12 entstehen kann. Der Freiraum 12 ist in 1B schraffiert dargestellt. Der Freiraum 12 kann beispielsweise für weitere Bauelemente 13 oder andere physikalische Strukturen genutzt werden. Derartige Bauelemente 13 können z. B. Wannenkontakte, Dioden zur Vermeidung von Prozess- Antennen-Effekten oder kapazitive Füllstrukturen sein. Wannenkontakte und Dioden zur Vermeidung von Prozess-Antennen-Effekten sind Strukturen, die regelmäßig in integrierten Schaltkreisen verwendet werden, und die beispielsweise auch die Schaltungsgröße beeinflussen. Die Verwendung von nicht-rechteckförmigen Zellen trägt dazu bei, dass zwischen den Zellen vermehrt Freiräume 12 entstehen, wodurch sich die Zahl der Platzierungsmöglichkeiten für die Bauelemente 13, insbesondere für die angesprochenen Dioden, erhöht. Die in 1B dargestellte Anordnung weist weitere Freiräume zwischen den nebeneinander angeordneten Zellen 5, 4 und 1 auf.
  • Gemäß einem weiteren Ausführungsbeispiel der Erfindung beinhaltet ein Verfahren neben den in den 1A und 1B dargestellten Schritten weitere Schritte zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises. Zu diesen Schritten zählen beispielsweise die Beschreibung eines gedanklichen Schaltungskonzepts in einer geeigneten Hardware-Beschreibungssprache, wie beispielsweise VHDL (Very High Speed Hardware Description Language); die Synthese eines logischen Schaltungs-Designs, beispielsweise durch das Erstellen einer synthetisierten Netzliste, die eine Beschreibung der für die Schaltung notwendigen Bausteine sowie deren logische Verknüpfung enthält; und das Ermitteln der Positionierung sowie der Verdrahtung der Bausteine auf dem Halbleitersubstrat. In mehreren Zwischenschritten kann das entwickelte Layout darüber hinaus auf die an die Schaltung gestellten Anforderungen hin geprüft und gegebenenfalls modifiziert werden.
  • Die Verfahren lassen sich in automatisierte Verfahren und Verfahren mit manuellen Eingriffen unterteilen. Im Full Custom Chip Layout werden die Bauelemente beispielsweise manuell platziert und dimensioniert, im Semi Custom Chip Layout hingegen werden die Bauelemente automatisch platziert und dimensioniert.
  • Sich in einem integrierten Schaltkreis mehrfach wiederholende Bauteile, wie beispielsweise AND-, NAND-, OR- oder NOR-Gatter, Invertierer oder Flip-Flops, können in Form vordefinierter, optimierter Zellen, wie beispielsweise den in 1A dargestellten Zellen 1 bis 5, realisiert werden. Die Zellen können in verschiedenen Ausgestaltungen und Dimensionierungen, z. B. in verschiedenen Leistungsstufen, vorliegen und müssen zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises platziert werden. Eine Standardisierung der Form dieser Zellen, beispielsweise definiert durch deren äußere Begrenzungslinien, kann die Platzierung sowie die Verdrahtung der Zellen erleichtern. So können die Zellen beispielsweise aufgrund ihrer in Richtung 10 gleichen maximalen Ausdehnung in Reihen angeordnet werden und an ihren oberen und/oder unteren Randbereichen an gemeinsame, entlang den Reihen verlaufende Versorgungsspannungsleitungen angeschlossen werden. Da die Ausdehnung der Zellen in der zur Richtung 10 senkrechten Richtung 11 nicht beschränkt ist, können die Zellen in Richtung 11 verschiedene maximale Ausdehnungen annehmen, sodass beispielsweise unterschiedlich dimensionierte und damit in Richtung 11 unterschiedlich ausgedehnte Zellen verwendet werden können. Vorhandene Zellen können in Bibliotheken zusammengefasst werden, aus denen beispielsweise bei der Synthetisierung der Netzliste manuell oder automatisch passende Zellen ausgewählt werden.
  • In 2 ist als weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung gezeigt, dass die aus 1A bekannten Zellen 1 bis 5 in mehreren Reihen 20, 21, 22 angeordnet werden können, wobei die Reihen 20 bis 22 entlang der Richtung 11 ausgerichtet sind. Zur Spannungs- und Stromversorgung der durch die Zellen repräsentierten Schaltungen wird eine Versorgungsspannung bereitgestellt, die der Potentialdifferenz zwischen einem Versorgungspotential VDD und einem Massepotential VSS ent spricht. Zwischen den Reihen 20 bis 22 sind Leitungen angeordnet, die jeweils abwechselnd mit dem Versorgungspotential VDD und dem Massepotential VSS beaufschlagt sind. Somit werden durch jeweils eine Leitung die Zellen der beiden an die jeweilige Leitung angrenzenden Reihen mit dem Versorgungspotential VDD bzw. dem Massepotential VSS versorgt.
  • Aufgrund der nicht notwendigerweise rechteckförmigen Ausgestaltung der äußeren Begrenzungslinie einer Zelle können die Eigenschaften der in der Zelle enthaltenen Bauelemente bzw. Schaltungen besser berücksichtigt werden als bei ausschließlich rechteckförmigen Zellen. Beispielsweise kann es aufgrund der Anzahl der in einer Zelle enthaltenen P- und N-Kanal-Transistoren vorteilhaft sein, für die äußere Form der Zelle kein Rechteck zu verwenden, sondern ein Polygon mit fünf oder mehr Eckpunkten. Insbesondere kann die Zellform von dem Verhältnis der Anzahl der P-Kanal-Transistoren zu der Anzahl der N-Kanal-Transistoren abhängen und kann je nach Zellfunktion und Zelltyp variieren, beispielsweise aufgrund einer zellfunktionsbedingten Reihen- oder Parallelschaltung von Transistoren oder aufgrund der gewünschten Zeitcharakteristik bei Signalübergängen. Elektrisch und/oder logisch funktionsgleiche Zellen können in mehreren geometrischen Ausgestaltungen vorkommen, insbesondere kann eine Zelle sowohl in L-förmiger Ausgestaltung als auch in T-förmiger Ausgestaltung vorkommen.
  • In 3A ist als Ausführungsbeispiel der Erfindung das Layout von L-förmigen Zellen 30 und 31 dargestellt. In der Richtung 10 ist die Ausdehnung der Zellen 30 und 31 durch die Leitungen für das Versorgungspotential VDD und das Massepotential VSS begrenzt. In Richtung 11 weisen die Zellen 30 und 31 jeweils zwei unterschiedliche Breiten auf. Die Zellen 30 und 31 enthalten in CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor)-Technologie ausgeführte Schaltungen, wobei die Zelle 30 eine NAND-Schaltung mit zwei Eingängen und die Zelle 31 eine NOR-Schaltung mit zwei Eingängen beinhalten.
  • Da die Leitfähigkeit eines P-Kanal-Transistors um etwa die Hälfte schlechter ist als diejenige eines N-Kanal-Transistors mit gleicher Geometrie, wird die Fläche von P-Kanal-Transistoren in der Regel doppelt so groß wie die von N-Kanal-Transistoren ausgelegt, um der grundsätzlich schlechteren Leitfähigkeit von Lochleitern entgegenzuwirken. Bei der NAND-Schaltung der Zelle 30 sind zwei N-Kanal-Transistoren in Reihe geschaltet und mit zwei parallel geschalteten P-Kanal-Transistoren verbunden, wohingegen bei der NOR-Schaltung der Zelle 31 zwei N-Kanal-Transistoren parallel geschaltet und zwei P-Kanal-Transistoren in Reihe geschaltet sind. Damit bei der NOR-Schaltung durch die P-Kanal-Transistoren im Wesentlichen der gleiche Strom wie durch die N-Kanal-Transistoren fließen kann, ist die Fläche der P-Transistoren etwa vier mal so groß ausgestaltet wie die Fläche der N-Kanal-Transistoren. Bei der NAND-Schaltung kann für P- und N-Kanal-Transistoren in etwa die gleiche Fläche gewählt werden. Die unterschiedlichen Flächenverhältnisse sind aus 3A ersichtlich. Dort sind die Diffusionsgebiete für die P-Kanal-Transistoren mit den Bezugszeichen 32 und 34 gekennzeichnet und die Diffusionsgebiete für die N-Kanal-Transistoren mit den Bezugszeichen 33 und 35.
  • Würden für die in 3A gezeigten NAND- und NOR-Schaltungen rechteckförmige Zellen verwendet, so würden aufgrund der Größe und Ausgestaltung der Diffusionsgebiete 32 bis 35 ungenutzte Freiräume in den Zellen entstehen. Demgegenüber ermöglicht es die L-förmige Ausgestaltung der Zellen 30 und 31, die Zellen 30 und 31 ineinander zu schieben, wie dies beispielhaft in 3B gezeigt ist, und dadurch Chipfläche einzusparen. Des Weiteren können durch die L-förmige Ausgestaltung der Zellen 30 und 31 Freiräume außerhalb der Zellen 30 oder 31 geschaffen werden, die für weitere Bauelemente, wie z. B. das in 1B gezeigte Bauelement 13, genutzt werden können.
  • Ein weiterer mit der frei wählbaren Zellgeometrie verbundener Vorteil ist, dass sich durch eine Änderung der Geometrie der Zellen Parameter der von den Zellen umfassten Schaltungen variieren lassen. Beispielsweise können die Signalübergänge von 0 nach 1 und von 1 nach 0 durch die Größe der Diffusionsgebiete beeinflusst werden. Würde beispielsweise bei der Zelle 30 das Diffusionsgebiet 32 derart vergrößert, dass seine Ausdehnung in der Richtung 11 der Ausdehnung des Diffusionsgebiets 33 entsprechen würde, so würde dadurch der Schaltvorgang von 0 nach 1 im Vergleich zu dem Schaltvorgang von l nach 0 schneller ausgeführt werden. In entsprechender Weise würde bei einer Vergrößerung des Diffusionsgebiets 35 auf die Ausdehnung des Diffusionsgebiets 34 in Richtung 11 die Geschwindigkeit des Schaltvorgangs der NOR-Schaltung von 1 nach 0 gegenüber dem Schaltvorgang von 0 nach 1 erhöht werden. Derartig unterschiedliche Signalübergänge müssten durch schaltungstechnische Maßnahmen wieder ausgeglichen werden.
  • Des Weiteren ist die nicht-rechteckförmige Ausgestaltung der Zellen 30 und 31 in dem Sinne vorteilhaft, dass sich für jeweils einen der beiden Transistortypen tendenziell kleinere Transistorweiten ergeben, wodurch Leckströme verringert werden.
  • In 4A sind als weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung die äußeren Begrenzungslinien von Zellen 40 bis 45 dargestellt. Die Zellen 40 bis 45 repräsentieren Logik-Bausteine, aus denen ein integrierter Schaltkreis aufgebaut sein kann. Die äußeren Begrenzungslinien der Zellen 41 bis 45 sind Polygone. Die Polygone der Zellen 41 bis 45 weisen jeweils mindestens einen Eckpunkt auf, an welchem die äußeren Begrenzungslinien einen Winkel 46 bzw. 47 bilden, der ungleich 90° ist.
  • In dem vorliegenden Ausführungsbeispiel liegt der Winkel 46 im Bereich von 90° bis 180°, insbesondere im Bereich von 120° bis 180° und ist insbesondere 135° groß.
  • Der Winkel 47 kann beispielsweise der Differenz des Winkels 46 zu 360° entsprechen. Sofern darüber hinaus die Winkel 46 und 47 auf gleicher Höhe entlang der Richtung 10 angeordnet sind, „knicken" die Zellen auf gleicher Höhe ab, wie dies bei den Zellen 41 bis 43 der Fall ist. In diesem Fall lassen sich ferner die äußeren Begrenzungslinien der Zellen 41 bis 43 in jeweils sechs Abschnitte untergliedern, wobei jeweils zwei der sechs Abschnitte zueinander parallel verlaufen.
  • Die Zellen 40 bis 45 können, wie in 4A dargestellt ist, in der Richtung 10 alle die gleiche Höhe aufweisen, müssen dies aber nicht notwendigerweise.
  • In 4B und 4C ist gezeigt, dass die Zellen 40 bis 45 in Reihen angeordnet werden können. Aufgrund der Ausgestaltung der Zellen 41 bis 45 können diese so angeordnet werden, dass sie ineinander eingreifen, ohne dass zwischen den Zellen 41 bis 45 Freiräume entstehen. Die Zellen 40 bis 45 können aber auch so aneinander gereiht werden, dass Freiräume 48 entstehen, welche für die Platzierung weiterer Bauelemente oder anderer physikalischer Strukturen genutzt werden können.
  • Ferner ist aus den 4B und 4C ersichtlich, dass die Zellen 44 und 45, deren rechte Seite jeweils keinen Knick aufweist, zum Abschluss einer Reihe verwendet werden können. Es ist auch denkbar, die Zellen 44 und 45 als Bindeglied zwischen einem rechteckförmigen Teil einer Zellreihe und einem nicht-rechteckförmigen Teil der Zellreihe einzusetzen.
  • Zu beachten ist des Weiteren, dass die Zellen 40 bis 45 auch gespiegelt werden können. Beispielhaft ist dies in 4C anhand der Zelle 41 gezeigt, die an der Richtung 10 gespiegelt worden ist.
  • Es ist auch denkbar, die in 1 gezeigten Zellen 1 bis 5 mit den Zellen 40 bis 45 in einer Reihe zu kombinieren.
  • In 5 ist als weiteres Ausführungsbeispiel der Erfindung gezeigt, dass die aus 4A bekannten Zellen 40 bis 45 in mehreren Reihen 50, 51 und 52 angeordnet werden können, wobei die Reihen 50 bis 52 entlang der Richtung 11 ausgerichtet sind. Zwischen den Reihen 50 bis 52 sind Leitungen angeordnet, die jeweils abwechselnd mit dem Versorgungspotential VDD und dem Massepotential VSS beaufschlagt sind. Somit werden durch jeweils eine Leitung die Zellen der beiden an die jeweilige Leitung angrenzenden Reihen mit dem Versorgungspotential VDD bzw. dem Massepotential VSS versorgt.
  • In 6 sind beispielhaft weitere Zellformen 60 bis 62 dargestellt. Jede der Zellen 60 bis 62 zeigt im Vergleich zu den Zellen 40 bis 45 eine Besonderheit. Bei der Zelle 60 verläuft kein Abschnitt ihrer äußeren Begrenzungslinie parallel zu der Richtung 10. Bei der Zelle 61 ist der „Knick" auf einer anderen Höhe als bei den Zellen 41 bis 45 angeordnet. Bei der Zelle 62 ist der obere Teil parallel zur Richtung 10 ausgerichtet, während der untere Teil einen Winkel mit der Richtung 10 bildet.
  • Die vorstehenden, anhand der 1 bis 6 beschriebenen Verfahren zum Erstellen des Layouts eines integrierten Schaltkreises können beispielsweise in Computerprogrammprodukte integriert werden und beispielsweise auf einem Datenträger ge speichert werden. Zur Ausführung der Verfahren kann beispielsweise ein Computersystem verwendet werden.

Claims (33)

  1. Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises, bei welchem – Zellen (15; 30, 31; 4045; 6062) bereitgestellt werden, wobei die maximalen Ausdehnungen der Zellen (15; 30, 31; 4045; 6062) in einer ersten Richtung (10) gleich sind und wobei eine äußere Begrenzungslinie mindestens einer ersten Zelle (35; 30, 31; 4144; 6062) die Form eines Polygons mit mindestens fünf Eckpunkten aufweist, und – die Zellen (15; 30, 31; 4045; 6062) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises platziert werden.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die äußere Begrenzungslinie der mindestens einen ersten Zelle (35; 30, 31) die Form eines rechtwinkligen Polygons aufweist.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei eine äußere Begrenzungslinie mindestens einer zweiten Zelle (35; 30, 31; 4144) die Form eines Polygons mit mindestens fünf Eckpunkten aufweist und die äußeren Begrenzungslinien der mindestens einen ersten Zelle (35; 30, 31; 4144) und der mindestens einen zweiten Zelle (35; 30, 31; 4144) derart ausgestaltet sind, dass sie ineinander eingreifen.
  4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei mindestens zwei elektrisch und/oder logisch funktionsgleiche Zellen (15; 30, 31; 4045; 6062) unterschiedlich geformte äußere Begrenzungslinien aufweisen.
  5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die äußere Begrenzungslinie der mindestens einen ersten Zelle L-förmig (3, 5; 30, 31) oder T-förmig (4) ist.
  6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die maximalen Ausdehnungen der Zellen (15; 30, 31; 4045; 6062) in die erste Richtung (10) durch Versorgungsspannungsleitungen (VDD, VSS) begrenzt sind.
  7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die mindestens eine erste Zelle (3; 41) mit einer dritten Zelle (1; 42) in einer Reihe entlang einer zur ersten Richtung (10) senkrechten zweiten Richtung (11) platziert wird und aufgrund der äußeren Begrenzungslinien zwischen der mindestens einen ersten Zelle (3; 41) und der dritten Zelle (1; 42) ein Freiraum (12; 48) entsteht.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, wobei in den Freiraum (12) ein Bauelement (13) oder andere physikalische Strukturen platziert werden.
  9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Zellen (15; 4045) in Reihen (2022; 5052) angeordnet werden und zwischen benachbarten Reihen (2022; 5052) in alternierender Folge die Pole (VDD, VSS) einer Versorgungsspannung angeordnet sind.
  10. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei die Zellen (15; 30, 31; 4045; 6062) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises untereinander verdrahtet werden.
  11. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche, wobei der integrierte Schaltkreis mittels CMOS-Technologie realisiert wird.
  12. Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises, bei welchem – Zellen (15; 30, 31) bereitgestellt werden, wobei die maximalen Ausdehnungen der Zellen in einer ersten Richtung (10) gleich sind und wobei mindestens eine erste Zelle (35; 30, 31) in einer zur ersten Richtung (10) senkrechten zweiten Richtung (11) mindestens zwei unterschiedliche Ausdehnungen aufweist, und – die Zellen (15; 30, 31) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises platziert werden.
  13. Verfahren nach Anspruch 12, wobei eine äußere Begrenzungslinie der mindestens einen ersten Zelle (35; 30, 31) die Form eines rechtwinkligen Polygons aufweist.
  14. Verfahren nach Anspruch 12 oder 13, wobei mindestens eine zweite Zelle (35; 30, 31) in der zweiten Richtung (11) mindestens zwei unterschiedliche Ausdehnungen aufweist und die äußeren Begrenzungslinien der mindestens einen ersten Zelle (3, 5; 30, 31) und der mindestens einen zweiten Zelle (3, 5; 30, 31) derart ausgestaltet sind, dass sie oder ihre an der ersten Richtung (10) gespiegelte Form ineinander eingreifen.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 14, wobei mindestens zwei elektrisch und/oder logisch funktionsgleiche Zellen (15; 30, 31) unterschiedlich geformte äußere Begrenzungslinien aufweisen.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 15, wobei die äußere Begrenzungslinie der mindestens einen ersten Zelle L-förmig (3, 5; 30, 31) oder T-förmig (4) ist.
  17. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 16, wobei die maximalen Ausdehnungen der Zellen (15; 30, 31) in die erste Richtung (10) durch Versorgungsspannungsleitungen (VDD, VSS) begrenzt sind.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 17, wobei die mindestens eine erste Zelle (3) mit einer dritte Zelle (1) in einer Reihe entlang der zweiten Richtung (11) platziert wird und aufgrund der äußeren Begrenzungslinien zwischen der mindestens einen ersten Zelle (3) und der dritten Zelle (1) ein Freiraum (12) entsteht.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, wobei in den Freiraum (12) ein Bauelement (13) oder andere physikalische Strukturen platziert wird.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 19, wobei die Zellen (15) in Reihen (2022) angeordnet werden und zwischen benachbarten Reihen (2022) in alternierender Folge die Pole (VDD, VSS) einer Versorgungsspannung angeordnet sind.
  21. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 20, wobei die Zellen (15; 30, 31) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises untereinander verdrahtet werden.
  22. Verfahren nach einem der Ansprüche 12 bis 21, wobei der integrierte Schaltkreis mittels CMOS-Technologie realisiert wird.
  23. Verfahren zum Entwerfen des Layouts eines integrierten Schaltkreises, bei welchem – Zellen (4045; 6062) bereitgestellt werden, wobei eine äußere Begrenzungslinie mindestens einer ersten Zelle (4145; 6062) die Form eines Polygons aufweist und die äußere Begrenzungslinie der mindestens einen ersten Zelle (4145; 6062) an mindestens einem ersten Eckpunkt des Polygons einen ersten Winkel (46, 47) bildet, der ungleich 90° ist, und – die Zellen (4045; 6062) zum Erstellen des Layouts des integrierten Schaltkreises platziert werden.
  24. Verfahren nach Anspruch 23, wobei die maximalen Ausdehnungen der Zellen (4045; 6062) in einer ersten Richtung (10) gleich sind.
  25. Verfahren nach Anspruch 23 oder 24, wobei die äußere Begrenzungslinie der mindestens einen ersten Zelle (4143; 6062) in Abschnitte unterteilbar ist und jeweils zwei Abschnitte zueinander parallel verlaufen.
  26. Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 25, wobei die äußeren Begrenzungslinien einer Mehrzahl von ersten Zellen (4145) derart ausgestaltet sind, dass sie ineinander engreifen.
  27. Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 26, wobei die äußeren Begrenzungslinien einer Mehrzahl von ersten Zellen (4145) auf gleicher Höhe entlang der ersten Richtung (10) jeweils den gleichen ersten Winkel (46, 47) aufweisen.
  28. Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 27, wobei mindestens zwei elektrisch und/oder logisch funktionsgleiche Zellen (4045; 6062) unterschiedlich geformte äußere Begrenzungslinien aufweisen.
  29. Verfahren nach einem der Ansprüche 23 bis 28, wobei der integrierte Schaltkreis mittels CMOS-Technologie realisiert wird.
  30. Computerprogrammprodukt, welches dazu ausgelegt ist, in einen Speicher eines Computers geladen zu werden, und welches Computerprogrammcode zur Ausführung eines Verfahrens nach ei nem der Ansprüche 1 bis 11 oder nach einem der Ansprüche 12 bis 22 oder nach einem der Ansprüche 23 bis 29 umfasst.
  31. Computerprogrammprodukt, welches auf einem Medium gespeichert ist und computerlesbare Programmmittel umfasst, die es einem Computer ermöglichen, ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11 oder nach einem der Ansprüche 12 bis 22 oder nach einem der Ansprüche 23 bis 29 auszuführen.
  32. Datenträger, auf dem ein Computerprogramm gespeichert ist, das es einem Computer ermöglicht, ein Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 11 oder nach einem der Ansprüche 12 bis 22 oder nach einem der Ansprüche 23 bis 29 auszuführen.
  33. Computersystem, insbesondere Computer oder Computernetzwerk, mit Mitteln zum Ausführen eines Verfahrens nach einem der Ansprüche 1 bis 11 oder nach einem der Ansprüche 12 bis 22 oder nach einem der Ansprüche 23 bis 29.
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Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10445453B2 (en) * 2015-04-08 2019-10-15 Mediatek Inc. Cell layout utilizing boundary cell with mixed poly pitch within integrated circuit
US10755017B2 (en) * 2018-07-12 2020-08-25 International Business Machines Corporation Cell placement in a circuit with shared inputs and outputs
US10742218B2 (en) 2018-07-23 2020-08-11 International Business Machines Corpoartion Vertical transport logic circuit cell with shared pitch
US12039242B2 (en) * 2020-08-31 2024-07-16 Taiwan Semiconductor Manufacturing Company Ltd. Structure and method of non-rectangular cell in semiconductor device

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55165668A (en) * 1979-06-11 1980-12-24 Fujitsu Ltd Semiconductor integrated circuit device
KR0141419B1 (ko) * 1994-10-31 1998-07-15 곽정소 아날로그 주문자요구형 집적회로의 칩배치방법
US20030023935A1 (en) * 2001-06-01 2003-01-30 Mcmanus Michael J. Method and apparatus for integrated circuit design with library cells

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5404047A (en) * 1992-07-17 1995-04-04 Lsi Logic Corporation Semiconductor die having a high density array of composite bond pads
US5822214A (en) * 1994-11-02 1998-10-13 Lsi Logic Corporation CAD for hexagonal architecture
US5768146A (en) 1995-03-28 1998-06-16 Intel Corporation Method of cell contouring to increase device density
TW377493B (en) * 1996-12-27 1999-12-21 Matsushita Electric Ind Co Ltd Semiconductor integrated circuit device
DE10025583A1 (de) 2000-05-24 2001-12-06 Infineon Technologies Ag Verfahren zur Optimierung integrierter Schaltungen, Vorrichtung zum Entwurf von Halbleitern und Programmobjekt zum Entwerfen integrierter Schaltungen

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS55165668A (en) * 1979-06-11 1980-12-24 Fujitsu Ltd Semiconductor integrated circuit device
KR0141419B1 (ko) * 1994-10-31 1998-07-15 곽정소 아날로그 주문자요구형 집적회로의 칩배치방법
US20030023935A1 (en) * 2001-06-01 2003-01-30 Mcmanus Michael J. Method and apparatus for integrated circuit design with library cells

Non-Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Title
Chang, R.-I. et al.: Force Directed Self-Organ- izing Maps for L-Shaped Cell Placement using Delta Learning Rule. In: Proceedings of the IEEE World Congress on Computational Intelligence, 1994, S. 3381-3386
Chang, R.-I. et al.: Force Directed Self-Organizing Maps for L-Shaped Cell Placement using Delta Learning Rule. In: Proceedings of the IEEE World Congress on Computational Intelligence, 1994, S. 3381-3386 *
Korean Patent Abstract & KR 100141419 B1 *
Korean Patent Abstract: KR 10-0141 419 B1
Sakanushi, K. et al.: Placement Algorithm for Rectilinear Core Cells by Multilayered Parametric BSG. In: Electronics and Communications in Japan, Part 3, Vol. 87, No. 7, 2004, S. 66-78 *

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