DE102006009212A1 - Optische Vorrichtung und optisches Verfahren zur Homogenisierung von Laserstrahlung - Google Patents

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Abstract

Es wird bereitgestellt eine optische Vorrichtung zur Homogenisierung von Lasertrahlung, mit zwei hintereinander angeordneten Homogenisierungsmodulen (2, 3) und einem dazwischen angeordneten Kohärenzminderungsmodul (4), wobei das erste Homogenisierungsmodul (2) die Laserstrahlung (P1) in lateral zueinander inkohärente Teilstrahlen (T1, T2) aufteilt und diese als kollimierte Teilstrahlen (T1, T2) mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen (R1, R2) zu einem ersten Laserstrahlenbündel (P2) überlagert und dem Kohärenzminderungsmodul (4) zuführt, das dem ersten Laserstrahlenbündel (P2) unterschiedliche Phasenverschiebungen in Abhängigkeit der Position im Strahlquerschnitt einprägt, um die laterale Kohärenz des ersten Laserstrahlenbündels (P2) zu verringern, und es als zweites Laserstrahlenbündel (P3) dem zweiten Homogenisierungsmodul (4) zuführt, das eine Vielzahl von nebeneinander angeordneten Optikelementen (16) aufweist, die jeweils jeden auf sie treffenden Teilstrahl des zweiten Laserstrahlenbündels (P3) in eine der Ausbreitungsrichtung des Teilstrahls entsprechende Position in einer Pupillenebene (P) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) fokussieren, so daß eine homogen ausgeleuchtete Pupille vorliegt, die mit einer Optikeinheit (18) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) in die Feldebene (5) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) transformierbar ist.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine optische Vorrichtung und ein optisches Verfahren zur Homogenisierung von Laserstrahlung, die insbesondere zu Beleuchtungszwecken in optischen Geräten eingesetzt werden soll.
  • Bekannt ist es beispielsweise, daß unter Verwendung bewegter Teile eine stetige Variation einer specklebehafteten räumlichen Intensitätsverteilung generiert und diese durch zeitliche Integration (entsprechend lange Belichtungszeiten durch Auge oder Kamera) geglättet wird. Eine solche zeitliche Mittelung kann jedoch nicht für den Einzelpulsbetrieb bei beispielsweise Excimerlasern eingesetzt werden.
  • In der DE 101 48 167 A1 wird die gewünschte Homogenisierung und die gewünschte Speckleunterdrückung ohne zeitliche Mittelung erreicht. Nachteilig ist hierbei jedoch, daß sich das Strahlprofil der Quelle auf die Ausleuchtung in der Pupillenebene der Beleuchtung niederschlägt, wobei unter Pupille hier die Intensitätsverteilung über das Winkelspektrum des in die Feldebene des Beleuchtungssystems einfallenden Strahlenbündels verstanden wird.
  • Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der Erfindung, eine optische Vorrichtung und ein optisches Verfahren zur Homogenisierung von Laserstrahlung bereitzustellen, mit denen auch die Ausleuchtung in der Pupillenebene möglichst gleichmäßig ist.
  • Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch eine optische Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung, mit zwei hintereinander angeordneten Homogenisierungsmodulen und einem dazwischen angeordneten Kohärenzminderungsmodul, wobei das erste Homogenisierungsmodul die Laserstrahlung in lateral zueinander inkohärente Teilstrahlen aufteilt und diese als kollimierte Teilstrahlen mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen zu einem ersten Laserstrahlenbündel überlagert und dem Kohärenzminderungsmodul zuführt, das dem ersten Laserstrahlenbündel unterschiedliche Phasenverschiebungen in Abhängigkeit der Position im Strahlquerschnitt einprägt, um die laterale Kohärenz des ersten Laserstrahlenbündels zu verringern, und es als zweites Laserstrahlenbündel dem zweiten Homogenisierungsmodul zuführt, das eine Vielzahl von nebeneinander angeordneten Optikelementen aufweist, die jeweils jeden auf sie treffenden Teilstrahl des zweiten Laserstrahlenbündels in eine der Ausbreitungsrichtung des Teilstrahls entsprechende Position in einer Pupillenebene des zweiten Homogenisierungsmoduls fokussieren, so daß eine homogen ausgeleuchtete Pupille vorliegt, die mit einer Optikeinheit des zweiten Homogenisierungsmoduls in die Feldebene des zweiten Homogenisierungsmodul transformierbar ist.
  • Mit dieser Vorrichtung wird vorteilhaft erreicht, daß die Inhomogenität des zu homogenisierenden Laserstrahls sich nur noch in den Foki jeweils eines einzelnen Optikelementes niederschlägt. Nachdem jedoch die Energieverteilung in den Foki für jedes Optikelement gleich ist, ist die globale Energieverteilung in der Fokusebene (nahezu) unabhängig von den Inhomogenitäten der zu homogenisierenden Laserstrahlung. Damit wird eine ausgezeichnet homogen ausgeleuchtete Pupille erreicht, so daß in der Fokus- bzw. Pupillenebene auch von der Kreisform abweichende Pupillenblenden angeordnet werden können, die immer noch äußerst homogen ausgeleuchtet sind.
  • Das erste Homogenisierungsmodul kann die Teilstrahlen in einer Ausgangsebene zum ersten Laserstrahlenbündel überlagern, wobei die Optikelemente des zweiten Homogenisierungsmoduls in einer zur Ausgangsebene konjugierten Ebene liegen. Somit dient das erste Homogenisierungsmodul zur Beleuchtung des zweiten Homogenisierungsmoduls.
  • Insbesondere kann das erste Homogenisierungsmodul als abbildender Wabenkondensor ausgebildet sein. Damit ist es möglich, die Laserstrahlung in überlagerte, kollimierte und inkohärente Teilstrahlen mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen umzuwandeln. Durch die unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen kann eine Vervielfachung der Foki in der Fokusebene des zweiten Homogenisierungsmoduls erreicht werden. Ferner wird noch vorteilhaft erreicht, daß die Optikelemente des zweiten Homogenisierungsmoduls gleichmäßig ausgeleuchtet werden, da die kollimierten Teilstrahlen der zugeführten Laserstrahlung überlagert sind.
  • Die Optikelemente und die Optikeinheit des zweiten Homogenisierungsmoduls können als abbildender Wabenkondensor ausgebildet sein. Damit wird eine ausgezeichnete Pupillenfüllung in der Fokusebene des zweiten Homogenisierungsmoduls erreicht.
  • Insbesondere können die Optikelemente als Linsen oder als beugende Elemente ausgebildet sein. Man kann die Optikelemente dann auch als Multiaperturoptik bezeichnen, die beispielsweise als Mikrolinsen- oder Lochmaskenarray ausgebildet ist. Die Form der Subaperturen bestimmt die Form der Beleuchtung in der Feldebene.
  • Insbesondere kann die optische Vorrichtung in der Pupillenebene des zweiten Homogenisierungsmoduls eine Pupillenblende aufweisen, die eine von der Kreisform abweichende Form umfaßt.
  • Zwischen dem Kohärenzminderungsmodul und dem ersten und/oder zweiten Homogenisierungsmodul kann (jeweils) eine 1:1-Abbildungsoptik angeordnet sein. Die 1:1-Abbildungsoptik kann als 4f-Abbildungsoptik ausgebildet sein.
  • Das Kohärenzminderungsmodul ist bevorzugt so ausgebildet, daß sich die unterschiedlichen Phasenverschiebungen um mindestens der zeitlichen Kohärenzlänge der zu homogenisierenden Laserstrahlung unterscheiden.
  • Die Vorrichtung kann insbesondere in der Beleuchtung von Mikroskopen und bei Vorrichtungen zur Maskensimulation für die Halbleiterindustrie eingesetzt werden.
  • Die Aufgabe wird ferner gelöst durch ein optisches Verfahren zur Homogenisierung von Laserstrahlung, bei dem die Laserstrahlung in lateral zueinander inkohärente Teilstrahlen aufteilt und diese als kollimierte Teilstrahlen mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen zu einem ersten Laserstrahlenbündel überlagert werden, dem ersten Laserstrahlenbündel unterschiedliche Phasenverschiebungen in Abhängigkeit der Position im Strahlquerschnitt eingeprägt werden, um somit ein zweites Laserstrahlenbündel mit verringerter lateralen Kohärenz zu erzeugen, und bei dem jede Subapertur einer Multiaperturoptik jeweils jeden auf sie treffenden Teilstrahl des zweiten Laserstrahlenbündels in eine der Ausbreitungsrichtung des Teilstrahls entsprechenden Position in einer Pupillenebene fokussiert, so daß eine homogen ausgeleuchtete Pupille vorliegt.
  • Mit diesem Verfahren ist es möglich, eine quasi kontinuierlich gefüllte und äußerst homogen ausgeleuchtete Pupille zu erzeugen. Solche homogen ausgeleuchteten Pupillen können zur Beleuchtung in optischen Geräten, insbesondere in Mikroskopen und in Vorrichtungen zur Maskensimulation für die Halbleiterindustrie eingesetzt werden.
  • Die Erfindung wird nachfolgend beispielshalber anhand der beigefügten Zeichnungen noch näher erläutert. Es zeigen:
  • 1 eine schematische Ansicht einer Ausführungsform der optischen Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung;
  • 2 eine Detailansicht des ersten Homogenisierungsmoduls 2 von 1;
  • 3 eine perspektivische Darstellung zur Erläuterung der lateralen und zeitlichen Kohärenzlänge;
  • 4 eine Querschnittsdarstellung des vom ersten Array 6 kommenden Laserstrahlenbündels;
  • 5 eine detaillierte Darstellung des zweiten Homogenisierungsmoduls 3 von 1;
  • 6 und 7 Darstellungen zur Erläuterung der Foki in der Pupillenebene P von 5;
  • 8 eine perspektivische Detaildarstellung der Vorrichtung von 1, und
  • 9 eine Darstellung einer 4f-Abbildungsoptik.
  • Bei der in 1 gezeigten Ausführungsform umfaßt die optische Vorrichtung zum Homogenisieren von Laserstrahlung einen Laser 1 (hier ein ArF-Excimerlaser mit einer Wellenlänge von 193 nm), ein erstes und ein zweites Homogenisierungsmodul 2, 3, die jeweils als abbildender Wabenkondensor ausgebildet sind, sowie ein Kohärenzminderungsmodul 4, das zwischen den beiden Homogenisierungsmodulen 2, 3 angeordnet ist.
  • Der Laser 1 gibt Laserstrahlung ab (Pfeil P1), die mittels der Homogenisierungsmodule 2 und 3 und dem Kohärenzminderungsmodul 4 homogenisiert wird und mit der dann eine Beleuchtungsebene 5 gleichmäßig beleuchtet werden kann.
  • Zur Erläuterung der Funktionsweise der optischen Vorrichtung zum Homogenisieren von Laserstrahlung wird zunächst das Kohärenzminderungsmodul 4 nicht berücksichtigt. Somit umfaßt die optische Vorrichtung zwei hintereinander geschaltete abbildende Wabenkondensoren 2, 3, wobei der zweite Wabenkondensor 3 mit dem homogenisierten Feld des ersten Wabenkondensors 2 beleuchtet wird.
  • In 2 ist ein schematischer Aufbau des ersten Wabenkondensors 2 gezeigt. Der Wabenkondensor 2 umfaßt zwei hintereinander angeordnete Mikrolinsenarrays 6, 7 sowie eine Kondensorlinse 8. Das Mikrolinsenarray 6 umfaßt eine Vielzahl von in Zeilen und Spalten angeordneten Mikrolinsen 9, deren Größe so gewählt ist, daß sie zumindest so groß wie die laterale Kohärenzlänge des einfallenden Laserstrahlenbündels P1 ist. Bevorzugt weisen die Mikrolinsen 9 eine gekreuzte Zylinderlinsenstruktur auf oder sind als Kissenlinsen ausgebildet. Dies führt zur einem hohen Flächenfüllfaktor bei einem rechteckigen Querschnitt der Laserstrahlung P1. Der Linsenpitch (= Abstand der Linsenmittelpunkte zweier unmittelbar benachbarter Linsen) ist bevorzugt sehr viel größer als die laterale Kohärenzlänge der Laserstrahlung P1. Das zweite Array 7 weist Linsen 10 auf und ist bevorzugt gleich wie das erste Array 6 aufgebaut. Das zweite Array 7 ist das abbildende Array des Wabenkondensors 2.
  • Wie aus der perspektivischen Darstellung des Laserstrahlenbündels P1 in 3 ersichtlich ist, wird unter der lateralen Kohärenzlänge die Kohärenzlänge im Strahlquerschnitt verstanden. Dies beschreibt den Abstand D1 bzw. D2 zweier Teilstrahlen in x- bzw. y-Richtung im Strahlquerschnitt, den die Teilstrahlen mindestens aufweisen müssen, um nicht mehr miteinander interferenzfähig zu sein. Entsprechend wird unter zeitlicher Kohärenzlänge der entsprechende Abstand D3 in Ausbreitungsrichtung der Laserstrahlung verstanden. Die laterale Kohärenzlänge (die mit jeder Querschnittsänderung der Laserstrahlung mitskaliert) beträgt bei dem hier verwendeten ArF-Lasers ca. 1/10 des Strahlquerschnitts am Laserausgang. Die zeitliche Kohärenzlänge beträgt ca. 100 μm.
  • Mit dem Wabenkondensor 2 von 2 wird somit die einfallende Laserstrahlung P1 in lateral zueinander inkohärente Teilstrahlen T1, T2 aufgeteilt, die als kollimierte Teilstrahlen T1, T2 in der Ausgangsebene 12 des ersten Wabenkondensors 2 überlagert werden. Die überlagerten Teilstrahlen T1 und T2 weisen dabei unterschiedliche Ausbreitungsrichtungen, wie durch die Pfeile R1 und R2 angedeutet ist, sowie bevorzugt die gleiche Querschnittsfläche in der Ausgangsebene 12 auf. Die auf die Ausgangsebene treffende Laserstrahlung bildet das erste Laserstrahlenbündel P2.
  • In 2 sind lediglich zwei Teilstrahlen zur Vereinfachung der Darstellung eingezeichnet. Für die nachfolgende Beschreibung wird jedoch angenommen, daß die Laserstrahlung in 9 Teilstrahlen (3 × 3 Teilstrahlen) aufgeteilt wird, wie in 4, das eine Querschnittsdarstellung der das Mikrolinsenarray 6 verlassenden Laserstrahlung zeigt, schematisch dargestellt ist. Für jeden Teilstrahl T1, T2, T3, ... T9 ist im ersten Mikrolinsenarray 6 eine Mikrolinse 9 vorgesehen, die entsprechend in einer 3 × 3-Matrix angeordnet sind.
  • Wie nachfolgend noch beschrieben wird, wird mittels des Kohärenzminderungsmodul 4 die Ausgangsebene 12 des ersten Wabenkondensors 2 in die Eingangsebene des zweiten Wabenkondensors 3 abgebildet, der wiederum zwei Mikrolinsenarrays 14 und 15 aufweist (5). Die Mikrolinsenarrays 14 und 15 weisen eine Vielzahl von in Zeilen und Spalten angeordneten Mikrolinsen 16, 17 auf.
  • Nachdem die Teilstrahlen T1–T9 auf das gesamte Mikrolinsenarray 14 treffen, fokussiert jede der Linsen 16 (zusammen mit den Linsen 17 des Linsenarrays 15) den entsprechenden auf die Linsen 16 treffenden Teil der Teilstrahlen T1–T9 in eine dem Linsenarray 15 nachgeordnete Fokusebene P. Da die Ausbreitungsrichtungen R1, R2 der Teilstrahlen T1–T9 voneinander verschieden sind, liegen die Foki in der Fokusebene P etwas voneinander beabstandet. Jede Linse 16 erzeugt so viele Foki wie Teilstrahlen mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen R1, R2 auf das Linsenarray 14 treffen (hier also 9).
  • Wenn man 3 × 3 Linsen 16 des Linsenarrays 14 betrachtet, werden im Vergleich zu dem Fall, bei dem nur ein einziges kollimiertes Strahlenbündel auf das Mikrolinsenarray 14 trifft, nicht nur neun Foki FP1 (in 6 sind die Foki als schwarze Kreise, von denen nur einer mit einem Bezugszeichen bezeichnet ist, in einer Draufsicht auf die Fokusebene P dargestellt), sondern 81 Foki in der Fokusebene P erzeugt (7). Diese Foki können mit der Kondensorlinse 18 des zweiten Wabenkondensors 3 in die Beleuchtungsebene 5 abgebildet werden und diese gleichmäßig beleuchten.
  • Die Foki jeder Linse 16 bilden eine Fokusgruppe F1 (in 7 ist eine Fokusgruppe F1 mit einer gestrichelten Umrandung dargestellt), wobei nur noch in jeder Fokusgruppe F1 die Energieverteilung von der ursprünglichen Laserstrahlung (z. B. dessen Inhomogenitäten), die auf den ersten Wabenkondensor 2 trifft, abhängt. Die globale Energieverteilung (die Energieverteilung der Fokusgruppen F1 zueinander) ist jedoch (nahezu) unabhängig von Inhomogenitäten der ursprünglichen Laserstrahlung, so daß in der Fokus- bzw. Pupillenebene P eine äußerst homogene Energieverteilung vorliegt. Es ist daher möglich, in der Pupillenebene P auch von der Kreisform abweichende Pupillenblenden vorzusehen, die immer noch äußerst homogen ausgeleuchtet sind.
  • Die Linsen 16 bzw. deren Form der Öffnung für die vom Kohärenzminderungsmodul 4 kommende Laserstrahlung bestimmt die Form des Feldes in der Beleuchtungsebene 5. Wenn die Linsen z.B. eine kreisringförmige Außenkontur aufweisen, ist das Feld kreisförmig. Bei einer rechteckigen Außenkontur der Linsen, ist das Feld rechteckförmig.
  • Durch den ersten Wabenkondensor 2 wird in der Ausgangsebene 12 die laterale Kohärenzlänge bezogen auf den Bündelquerschnitt stark erhöht, weil durch das Prinzip des Wabenkondensors kleine Bereiche des Querschnitts des ursprünglichen Laserstrahlenbündels auf den vollen Querschnitt des ausgehenden Strahlenbündels aufgezogen werden. Ohne eine Kohärenzminderung des vom ersten Wabenkondensors 2 kommenden ersten Laserstrahlenbündels P2 würde dies zu einer ausgeprägten Vielstrahlinterferenz in der Beleuchtungsebene 5 führen. Daher ist zwischen beiden Wabenkondensoren 2, 3 das Kohärenzminderungsmodul 4 angeordnet, das durch Verminderung der zeitlichen Kohärenz des ersten Strahlenbündels P2 eine Verringerung der lateralen Kohärenz bewirkt. Dazu werden dem einfallenden ersten Strahlenbündel P2 in Abhängigkeit der Position im Strahlquerschnitt unterschiedliche Phasenverschiebungen eingeprägt, so daß das ausfallende Strahlenbündel (zweites Laserstrahlenbündel P3) im Strahlquerschnitt zueinander inkohärente Teilbereiche aufweist.
  • Das Kohärenzminderungsmodul kann beispielsweise zwei Stufenspiegel aufweisen, wie sie in der DE 101 48 167 A1 beschrieben sind.
  • Die gesamte optische Vorrichtung ist in 8 perspektivisch dargestellt. Das Kohärenzminderungsmodul 4 umfaßt hier zwei Stufenspiegel 19, 20, die so angeordnet sind, daß sie dem Strahlenbündel unterschiedliche Phasenverschiebungen in x-Richtung (im Strahlquerschnitt) und in y-Richtung einprägen. Dazu weisen die beiden Stufenspiegel 19, 20 unterschiedliche Stufenhöhen auf. Die Feld- bzw. Ausgangsebene 12 des ersten Wabenkondensors 2 fällt mit dem ersten Stufenspiegel 18 zusammen. Wie anhand der eingezeichneten Referenzebene E zu sehen ist, führt die Reflexion an den beiden Stufenspiegeln 19, 20 zu der gewünschten zeitlichen Verschiebung der miteinander interterierbaren Abschnitte Pfeile E1, E2. Dies führt dazu, daß die zu einem Zeitpunkt auf die verschiedenen Linsen 16 des Linsenarrays 14 treffende Laserstrahlung (zweites Laserstrahlenbündel) zueinander inkohärent ist, so daß die unerwünschte Vielstrahlinterferenz in der Beleuchtungsebene 5 nicht auftritt.
  • Bevorzugt ist zwischen dem ersten Wabenkondensor 2 und dem Kohärenzminderungsmodul 4 sowie zwischen dem Kohärenzminderungsmodul 4 und dem zweiten Wabenkondensor 3 jeweils eine 4f-Abbildungsoptik 21 (9) angeordnet, die zwei Optikgruppen 22, 23 umfaßt, die jeweils eine objekt- und bildseitige Brennweite f aufweisen. Hier umfaßt jede Optikgruppe 22, 23 jeweils eine Linse. Die beiden Optikgruppen bzw. Linsen 22, 23 sind um 2f voneinander beabstandet. Der Abstand der Ausgangsebene 12 bzw. des zweiten Stufenspiegels 20 zur ersten Linse 22 beträgt f und der Abstand der zweiten Linse 23 zum ersten Stufenspiegel 19 bzw. zur Eingangsebene des zweiten Wabenkondensors 3 beträgt f. Durch die 4f-Abbildungsoptiken 21 wird vorteilhaft sichergestellt, daß trotz der Divergenz des ersten Laserstrahlenbündels und Fresnelbeugung an den optischen Elementen der Module 2, 3 die nicht mehr untereinander interferenzfähigen Abschnitte (siehe E2 in 8) im zweiten Laserstrahlenbündel P2 auf die zugeordneten Linsen 16 treffen.

Claims (9)

  1. Optische Vorrichtung zur Homogenisierung von Laserstrahlung, mit zwei hintereinander angeordneten Homogenisierungsmodulen (2, 3) und einem dazwischen angeordneten Kohärenzminderungsmodul (4), wobei das erste Homogenisierungsmodul (2) die Laserstrahlung (P1) in lateral zueinander inkohärente Teilstrahlen (T1, T2) aufteilt und diese als kollimierte Teilstrahlen (T1, T2) mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen (R1, R2) zu einem ersten Laserstrahlenbündel (P2) überlagert und dem Kohärenzminderungsmodul (4) zuführt, das dem ersten Laserstrahlenbündel (P2) unterschiedliche Phasenverschiebungen in Abhängigkeit der Position im Strahlquerschnitt einprägt, um die laterale Kohärenz des ersten Laserstrahlenbündels (P2) zu verringern, und es als zweites Laserstrahlenbündel (P3) dem zweiten Homogenisierungsmodul (4) zuführt, das eine Vielzahl von nebeneinander angeordneten Optikelementen (16) aufweist, die jeweils jeden auf sie treffenden Teilstrahl des zweiten Laserstrahlenbündels (P3) in eine der Ausbreitungsrichtung des Teilstrahls entsprechende Position in einer Pupillenebene (P) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) fokussieren, so daß eine homogen ausgeleuchtete Pupille vorliegt, die mit einer Optikeinheit (18) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) in die Feldebene (5) des zweiten Homogenisierungsmodul (3) transformierbar ist.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, bei der das erste Homogenisierungsmodul (2) die Teilstrahlen (T1, T2, ... T9) in einer Ausgangsebene (12) zum ersten Laserstrahlenbündel (P2) überlagert und die Optikelemente (16) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) in einer zur Ausgangsebene (12) konjugierten Ebene liegen.
  3. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei dem das erste Homogenisierungsmodul (2) einen abbildenden Wabenkondensor aufweist.
  4. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der die Optikelemente (16) und die Optikeinheit (18) des zweiten Homogenisierungsmoduls (3) Teil eines abbildenden Wabenkondensors sind.
  5. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der die Optikelemente (16) als Linsen ausgebildet sind.
  6. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der sich die unterschiedlichen Phasenverschiebungen, die das Kohärenzminderungsmodul (4) dem ersten Laserstrahlenbündel einprägt, jeweils um mindestens die zeitliche Kohärenzlänge der Laserstrahlung unterscheiden.
  7. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der zwischen dem ersten Homogenisierungsmodul (2) und dem Kohärenzminderungsmodul (4) eine 1:1-Abbildungsoptik (21) angeordnet ist.
  8. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der zwischen dem Kohärenzminderungsmodul (4) und dem zweiten Homogenisierungsmodul (3) eine 1:1-Abbildungsoptik (21) angeordnet ist.
  9. Optisches Verfahren zur Homogenisierung von Laserstrahlung, bei dem die Laserstrahlung in lateral zueinander inkohärente Teilstrahlen aufgeteilt und diese als kollimierte Teilstrahlen mit unterschiedlichen Ausbreitungsrichtungen zu einem ersten Laserstrahlenbündel überlagert werden, dem ersten Laserstrahlenbündel unterschiedliche Phasenverschiebungen in Abhängigkeit der Position im Strahlschnitt eingeprägt werden, um somit ein zweites Laserstrahlenbündel mit geringerer lateralen Kohärenz zu erzeugen, und bei dem Subaperturen einer Multiaperturoptik jeweils jeden auf sie treffenden Teilstrahl des zweiten Laserstrahlenbündels in einer der Ausbreitungsrichtungen des Teilstrahls entsprechende Position in einer Pupillenebene fokussieren.
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100195198A1 (en) * 2007-06-12 2010-08-05 Laengle Mario Microscope illumination
DE102009037141A1 (de) * 2009-07-31 2011-02-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines Substrats
DE102011051590A1 (de) * 2011-07-05 2013-01-10 Jena-Optronik Gmbh Extraterrestrisches optisches Instrument mit mikrooptischem Strahlformungselement und Verfahren zu dessen Kalibration
EP2752689A1 (de) * 2013-01-02 2014-07-09 Jena-Optronik GmbH Kalibriereinrichtung zur Kalibration eines extraterrestrischen optischen Instruments und Kalibrierverfahren mit dieser
US10012544B2 (en) 2016-11-29 2018-07-03 Cymer, Llc Homogenization of light beam for spectral feature metrology
WO2018177587A1 (de) * 2017-03-28 2018-10-04 LIMO GmbH Vorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung einer laserstrahlung
DE102018215601B4 (de) 2018-09-13 2023-10-12 Zf Friedrichshafen Ag Anordnung von Mikrospiegeln, Mikrospiegelvorrichtung, Verwendung einer Mikrospiegelvorrichtung, Abbildungssystem, Verfahren und Computerprogrammprodukt zur Aufweitung eines Schärfebereichs des Abbildungssystems und/oder zur Erzeugung eines Tiefenbildes

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5471345A (en) * 1992-11-27 1995-11-28 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Wavefront corrector for scanning microlens arrays
DE10148167A1 (de) * 2001-09-28 2003-04-17 Zeiss Carl Jena Gmbh Beleuchtungsanordnung
JP2003167213A (ja) * 2001-12-04 2003-06-13 Sumitomo Heavy Ind Ltd 可干渉性解消素子およびビームホモジナイザ
DE10345784A1 (de) * 2003-10-01 2005-04-21 Zeiss Carl Sms Gmbh Kohärenzminderer

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5471345A (en) * 1992-11-27 1995-11-28 Lockheed Missiles & Space Company, Inc. Wavefront corrector for scanning microlens arrays
DE10148167A1 (de) * 2001-09-28 2003-04-17 Zeiss Carl Jena Gmbh Beleuchtungsanordnung
JP2003167213A (ja) * 2001-12-04 2003-06-13 Sumitomo Heavy Ind Ltd 可干渉性解消素子およびビームホモジナイザ
DE10345784A1 (de) * 2003-10-01 2005-04-21 Zeiss Carl Sms Gmbh Kohärenzminderer

Cited By (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100195198A1 (en) * 2007-06-12 2010-08-05 Laengle Mario Microscope illumination
US9097911B2 (en) * 2007-06-12 2015-08-04 Carl Zeiss Sms Gmbh Microscope illumination
DE102009037141A1 (de) * 2009-07-31 2011-02-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines Substrats
DE102009037141B4 (de) * 2009-07-31 2013-01-03 Carl Zeiss Laser Optics Gmbh Optisches System zum Erzeugen eines Lichtstrahls zur Behandlung eines Substrats
DE102011051590A1 (de) * 2011-07-05 2013-01-10 Jena-Optronik Gmbh Extraterrestrisches optisches Instrument mit mikrooptischem Strahlformungselement und Verfahren zu dessen Kalibration
EP2752689A1 (de) * 2013-01-02 2014-07-09 Jena-Optronik GmbH Kalibriereinrichtung zur Kalibration eines extraterrestrischen optischen Instruments und Kalibrierverfahren mit dieser
US10012544B2 (en) 2016-11-29 2018-07-03 Cymer, Llc Homogenization of light beam for spectral feature metrology
US10288484B2 (en) 2016-11-29 2019-05-14 Cymer, Llc Homogenization of light beam for spectral feature metrology
WO2018177587A1 (de) * 2017-03-28 2018-10-04 LIMO GmbH Vorrichtung zur erzeugung einer linienförmigen intensitätsverteilung einer laserstrahlung
DE102018215601B4 (de) 2018-09-13 2023-10-12 Zf Friedrichshafen Ag Anordnung von Mikrospiegeln, Mikrospiegelvorrichtung, Verwendung einer Mikrospiegelvorrichtung, Abbildungssystem, Verfahren und Computerprogrammprodukt zur Aufweitung eines Schärfebereichs des Abbildungssystems und/oder zur Erzeugung eines Tiefenbildes

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