DE102005049572A1 - Homogenisier- und Strahlformvorrichtung - Google Patents

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Abstract

Es wird bereitgestellt eine Homogenisier- und Strahlformvorrichtung mit DOLLAR A einer ersten Optik (2), DOLLAR A einem der ersten Optik (2) nachgeordneten Linsenarray (4), das eine Mehrzahl von Linsen (5) umfaßt, deren Brennpunkte in einer Brennebene (B) zwischen der ersten Optik (2) und dem Linsenarray (4) liegen, DOLLAR A und einer dem Linsenarray (4) nachgeordneten zweiten Optik (6), DOLLAR A wobei die erste Optik (2) ein einfallendes optisches Strahlenbündel (7) so aufteilt, daß in der Brennebene (B) eine vorbestimmte geometrische Grundverteilung der Stahlintensität periodisch wiederholt vorliegt und jeder Linse (5) des Linsenarrays (2) eine der Grundverteilungen zugeordnet ist, DOLLAR A wobei jede Linse (5) die ihr zugeordnete Grundverteilung zusammen mit der zweiten Optik (6) in einer der zweiten Optik (6) nachgeordneten Ausgangsebene (8) so abbildet, daß alle Grundverteilungen überlagert ausgebildet sind, wodurch in der Ausgangsebene (8) eine einzige, den Grundverteilungen entsprechende Intensitätsverteilung vorliegt.

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft eine Homogenisier- und Strahlformvorrichtung. Eine solche Vorrichtung wird häufig bei Mikroskopbeleuchtungen eingesetzt, um eine gewünschte geometrische Intensitätsverteilung eines Strahlenbündels in einer Pupillenebene (beispielweise mit dem Ziel einer Auflösungssteigerung) zu erreichen. Dazu wird in der Regel eine Blende entsprechend angeordnet, die unerwünschte Abschnitte des Strahlenbündels abschattet. Dies führt nachteilig dazu, daß die Beleuchtungsintensität sinkt.
  • Ausgehend hiervon ist es Aufgabe der Erfindung, eine Homogenisier- und Strahlformvorrichtung zur Verfügung zu stellen, mit der eine gewünschte geometrische Intensitätsverteilung des Strahlenbündels in einer vorbestimmten Ausgangsebene mit geringerem Intensitätsverlust als bisher erzeugt werden kann.
  • Erfindungsgemäß wird die Aufgabe gelöst durch eine Homogenisier- und Strahlformvorrichtung mit einer ersten Optik, einem der ersten Optik nachgeordneten Linsenarray, das eine Mehrzahl von Linsen umfaßt, deren Brennpunkte in einer Brennebene zwischen der ersten Optik und dem Linsenarray liegen, und einer dem Linsenarray nachgeordneten zweiten Optik, wobei die erste Optik ein einfallendes optischen Strahlenbündel so aufteilt, daß in der Brennebene eine vorbestimmte geometrische Grundverteilung der Strahlintensität periodisch wiederholt vorliegt und jeder Linse des Linsenarrays eine der Grundverteilung zugeordnet ist, wobei jede Linse die ihr zugeordnete Grundverteilung zusammen mit der zweiten Optik in einer der zweiten Optik nachgeordneten Ausgangsebene so abbildet, daß alle Grundverteilungen überlagert abgebildet sind, wodurch in der Ausgangsebene eine einzige, den Grundverteilungen entsprechende Intensitätsverteilung vorliegt.
  • Damit kann mit einfachen Mitteln die gewünschte Intensitätsverteilung in der Ausgangsebene erreicht werden.
  • Insbesondere ist es möglich, einen herkömmlichen abbildenden Wabenkondensor mit zwei Linsenarrays und einer zweiten Optik dadurch als Homogenisier- und Strahlformvorrichtung auszubilden, daß das weiter von der zweiten Optik entfernte Linsenarray entfernt und statt dessen die erste Optik entgegen der Strahlrichtung zurückgesetzt so vorgesehen wird, daß die periodisch wiederholt vorliegenden Grundverteilungen in der eingangsseitigen Brennebene des Linsenarrays erzeugt werden. Damit wird so wenig wie möglich in den Gesamtaufbau eines schon vorhandenen abbildenden Wabenkondensors eingegriffen, was vorteilhaft bei bestehenden Systemen ist. Ferner ist es möglich, die erste Optik austauschbar vorzusehen, wobei verschiedene ausgebildete erste Optiken vorhanden sind, so daß durch Auswechseln der ersten Optik die gewünschte Intensitätsverteilung in der Ausgangsebene verändert werden kann.
  • Als gewünschte Intensitätsverteilungen sind beispielsweise kreisringförmige Intensitätsverteilungen sowie Dipol-, Multipol-, Disar- und Quasar-Intensitätsverteilungen zu nennen.
  • Bei der Vorrichtung kann die erste Optik als Optikarray mit einer Mehrzahl von Optikelementen ausgebildet werden, wobei zur Erzeugung jeder Grundstruktur in der Brennebene jeweils mindestens eines der Optikelemente dient. Alle Optikelemente können gleich ausgebildet sein. Insbesondere können refraktive und/oder diffraktive Optikelemente eingesetzt werden. Wesentlich ist nur, daß die Optikelemente die gewünschte Grundverteilung der Strahlungsintensität in der Brennebene erzeugen.
  • Insbesondere kann zur Erzeugung jeder Grundstruktur jeweils genau eines der Optikelemente des Optikarrays dienen. In diesem Fall ist es bevorzugt, daß die Optikelemente in gleicher Weise angeordnet sind, wie die Linsen des Linsenarrays, wobei insbesondere die Anzahl der Optikelemente der Anzahl der Linsen entspricht.
  • Die Optikelemente und Linsen können in gleicher Weise periodisch wiederholt angeordnet seien. Dabei kann beispielsweise eine orthogonale oder hexagonale Anordnung gewählt werden.
  • Wenn refraktive Optikelemente eingesetzt werden, weisen diese bevorzugt jeweils eine gekrümmte Seite auf, deren Krümmung weder eine Sphäre noch eine Asphäre ist. Insbesondere kann die Krümmung auch nicht rotationssymmetrisch sein. In diesem Fall wird die Krümmung der Seite als Freiformfläche bezeichnet.
  • Die Optikelemente können jeweils eine diffraktive Struktur aufweisen. Diese diffraktive Struktur kann nur auf einer Seite der Optikelemente vorgesehen sein. Insbesondere ist es dann möglich, daß auf der anderen Seite der Optikelemente eine refraktive Struktur bzw. Formgebung vorliegt.
  • Ferner kann die Vorrichtung noch ein Homogenisiersystem aufweisen, das der Ausgangsebene nachgeordnet ist, wobei die Ausgangsebene der Pupillenebene der nachgeordneten Homogenisiereinrichtung entspricht, wodurch in der Feldebene (also der zur Pupillenebene konjugierten Ebene) des Homogenisiersystems eine gleichmäßige Intensitätsverteilung mit der durch die Intensitätsverteilung in der Pupillenebene vorgegebenen Winkelverteilung vorliegt. Das Homogenisiersystem kann insbesondere ein herkömmlicher abbildender Wabenkondensor mit zwei Linsenarrays und einer Kollimatoroptik sein. Der Abstand der Linsenarrays ist bevorzugt so gewählt, daß das erste Linsenarray, das weiter von der Kollimatoroptik beabstandet ist als das zweite Linsenarray, vom zweiten Linsenarray um die Brennweite der Linsen des zweiten Linsenarrays beabstandet ist. Ferner kann das Homogenisiersystem auch diffraktiv ausgebildet sein.
  • Die erfindungsgemäße Vorrichtung mit Homogenisiersystem dient insbesondere als Beleuchtungsvorrichtung, wie z.B. als Mikroskop-Beleuchtungsvorrichtung.
  • Ferner wird noch ein Homogenisier- und Strahlformverfahren für eine oben beschriebene Homogenisier- und Strahlformvorrichtung bereitgestellt, bei dem das einfallende optische Strahlenbündel mittels der ersten Optik so aufgeteilt wird, daß in der Brennebene eine vorbestimmte geometrische Grundverteilung der Strahlintensität periodisch wiederholt vorliegt und jeder Linse des Linsenarrays eine der Grundverteilungen zugeordnet ist, wobei jede Linse die ihr zugeordnete Grundverteilung zusammen mit der zweiten Optik in eine der zweiten Optik nachgeordnete Ausgangsebene so abbildet, daß alle Grundverteilungen überlagert abgebildet werden, wodurch in der Ausgangsebene eine einzige, den Grundverteilungen entsprechende Intensitätsverteilung vorliegt.
  • Das erfindungsgemäße Verfahren kann so weitergebildet werden, daß der Ausgangsebene ein weiteres Homogenisiersystem nachgeordnet ist, dessen Pupillenebene mit der Ausgangsebene zusammenfällt, so daß in der Feldebene des Homogenisiersystems eine gleichmäßige Ausleuchtung mit einer durch die Intensitätsverteilung in der Pupillenebene vorgegebenen Winkelverteilung vorliegt. Es liegt somit ein homogenisiertes Feld sowie eine geformte Beleuchtungspupille vor. Dies ist bei abbildenden Anwendungen, wie z.B. in der Mikroskopie, von Vorteil.
  • Die Erfindung wird nachfolgend unter Bezugnahme auf die Zeichnung beispielhalber noch näher erläutert, wobei auch in den Zeichnungen erfindungswesentliche Merkmale offenbart sind. Es zeigen:
  • 1 eine schematische Ansicht der Homogenisier- und Strahlformvorrichtung gemäß einer ersten Ausführungsform;
  • 2 eine Draufsicht der Optikelemente des Optikarrays 2 von 1;
  • 3 eine Draufsicht der Linsen des Linsenarrays 4 von 1;
  • 4 eine Draufsicht auf die Brennebene von 1 mit dem periodisch erzeugten Grundstrukturen;
  • 5 eine Draufsicht auf die Feldebene von 1 mit der in der Feldebene erzeugten Intensitätsverteilung;
  • 6 eine schematische Ansicht einer Homogenisiereinrichtung, die der Feldebene in 1 nachgeordnet werden kann;
  • 7 eine Draufsicht auf eine alternative Ausführungsform des Optikarrays 2 mit einer hexagonalen Anordnung der Optikelemente, und
  • 8 eine Draufsicht einer alternativen Ausführungsform des Linsenarrays 4 von 1 mit einer hexagonalen Anordnung der Linsen.
  • Bei der Ausführungsform von 1 umfaßt die Homogenisier- und Strahlformvorrichtung 1 ein Optikarray 2 mit neun Optikelementen 3, ein dem Optikarray 2 nachgeordnetes Linsenarray 4 mit neun Linsen 5 sowie eine dem Linsenarray 4 nachgeordnete Kondensorlinse 6.
  • Die Optikelemente 3 sind jeweils so ausgebildet, daß sie aus dem Teil eines kollimierten optischen Strahlenbündels 7, der auf sie trifft, eine ringförmige Intensitätsverteilung in einer Brennebene B erzeugen. In der Brennebene B, die zwischen dem Optikarray 2 und dem Linsenarray 4 ist, liegen die eingangsseitigen Brennpunkte der Linsen 5 des Linsenarrays 4. Nachdem das Optikarray 2 neun gleich ausgebildete Optikelemente 3 umfaßt, wird das einfallende Strahlenbündel 7 in neun periodisch angeordnete ringförmige Intensitätsverteilungen (Grundstrukturen G) aufgeteilt, wie dies in 4 angedeutet ist. Die periodische Anordnung der Grundstrukturen G entspricht der periodischen Anordnung der Das Optikarray 2 ist hier so ausgebildet und angeordnet, daß jeder der erzeugten ringförmigen Intensitätsverteilungen G genau einer Linse 5 des Linsenarrays 4 zugeordnet ist. Dies wird hier dadurch erreicht, daß die Optikelemente 3 des Optikarrays 2 und die Linsen 5 des Linsenarrays 4 in gleicher Weise periodisch angeordnet sind, hier in Zeilen und Spalten. Dies ist so durchgeführt, daß die eingangsseitigen Brennpunkte des Linsenarrays 4 für ein gedachtes, aus dem positiven Unendlichen kommendes Strahlenbündel (also von rechts nach links in 1) in den Zentren der Grundstrukturen G in der Brennebene liegen.
  • Nachdem die ringförmigen Intensitätsverteilungen G in der Brennebene B vorliegen, führt jede der Linsen 5 eine Abbildung der entsprechenden ringförmigen Intensitätsverteilung G nach Unendlich durch. In Verbindung mit der Kondensorlinse 6 erfolgt daher eine deckungsgleiche überlagernde Abbildung aller ringförmigen Intensitätsverteilungen G der Brennebene in eine der Kondensorlinse 6 nachgeordnete Ausgangsebene 8. Damit liegt in der Ausgangsebene 8 wiederum eine ringförmige Intensitätsverteilung R vor, wie dies in 5 angedeutet ist. Jedoch liegt aufgrund der überlagernden Abbildung nur eine einzige ringförmige Intensitätsverteilung R vor, die den ringförmigen Intensitätsverteilungen G in der Brennebene B entspricht.
  • Da die neun ringförmigen Intensitätsverteilungen G der Brennebene hier in der Ausgangsebene 8 überlagert abgebildet werden, sind unerwünschte Intensitätsvariationen innerhalb der ringförmigen Struktur in der Ausgangsebene 8 im Vergleich zu den einzelnen Intensitätsverteilungen G in der Brennebene B verringert, so daß eine Homogenisierung der Intensitätsverteilung R in der Ausgangsebene 8 vorliegt.
  • Somit kann mit der Homogenisier- und Strahlformvorrichtung aus einem kollimierten optischen Strahlenbündel 7 eine gewünschte geometrische Grundstruktur erzeugt und aufgrund der Wirkung des Linsenarrays 4 und der Kondensorlinse 6 eine gleichzeitige Homogenisierung in der Ausgangsebene 8 erreicht werden. Die Homogenisier- und Strahlformvorrichtung von 1 entspricht im wesentlichen einem herkömmlichen abbildenden Wabenkondensor. Der Unterschied zu dem herkömmlichen Wabenkondensor besteht darin, daß das normalerweise in der Brennebene B vorgesehene Linsenarray entfällt und durch das Optikarray 2 ersetzt ist, das entgegen der Ausbreitungsrichtung des optischen Strahlenbündels 7 etwas zurückgesetzt ist, so daß die Optikelemente 3 aus dem kollimierten Strahlenbündel 7 die entsprechenden Intensitätsverteilungen (Grundstrukturen) periodisch wiederholt in der Brennebene B erzeugen können.
  • Zur Erzeugung der gewünschten ringförmigen Intensitätsverteilung ist die Krümmung der der Brennebene B zugewandten Seite der Optikelemente 3 entsprechend gewählt. Im Querschnitt gesehen entspricht die Kontur der Zahl 3 bzw. kommt die Kontur zweier sich schneidender flacher Kreisbögen gleich, wobei der Schnittpunkt der Mitte des Elements entspricht. Die Seite weist also weder eine sphärische noch eine asphärische Krümmung auf.
  • Die Ausgangsebene 8 der Homogenisier- und Strahlformvorrichtung kann als Feldebene genutzt werden, z.B. zur Beleuchtung eines zu untersuchenden Objekts in einem Mikroskop.
  • Alternativ ist es auch möglich, daß die Ausgangsebene 8 eine Pupillenebene 9 einer nachfolgenden Optikeinrichtung 10 sein kann bzw. mit dieser zusammenfällt. Bei dieser nachfolgenden Optikeinrichtung 10 kann es sich um eine Homogenisiereinrichtung handeln, die z.B. als herkömmlicher abbildender Wabenkondensor ausgebildet ist, wie dies in 6 gezeigt ist (die Vorrichtung weist dann die Homogenisier- und Strahlformvorrichtung von 1 sowie die Optikeinrichtung 10 von 6 auf). In diesem Fall wird dann in der Feldebene 11 des Wabenkondensors 10 eine entsprechend der Form der Linsen 12 des Linsenarrays gleichmäßige Ausleuchtung erreicht, wobei jedoch die Winkelverteilung der einfallenden Strahlen gemäß der ringförmigen Intensitätsverteilung in der Ausgangsebene 8 gegeben ist. Eine solche Weiterbildung kann beispielsweise bei Mikroskopen und insbesondere bei Maskeninspektionsmikroskopen verwendet werden, bei denen die Beleuchtungsbedingungen eines Steppers simuliert werden müssen.
  • Die Optikelemente 3 des Optikarrays können unter anderem so ausgebildet sein, daß in der Ausgangsebene eine Dipol-, Multipol-, Disar- oder Quasar-Intensitätsverteilung vorliegt.
  • Insbesondere ist auch möglich, daß jeweils mehrere Optikelemente 3 eine Grundstruktur G in der Brennebene B erzeugen und somit einer Linse 5 des Linsenarrays 4 zugeordnet sind. So kann beispielsweise durch die Verwendung von vier Optikelementen 3, die alle als herkömmliche Linsen ausgebildet sind, eine Quatrupol-Intensitätsverteilung erzeugt werden.
  • Die Optikelemente 3 und die Linsen 5 sind in dem beschriebenen Ausführungsbeispiel von 1 jeweils orthogonal periodisch angeordnet. Es ist aber beispielsweise auch eine hexagonale periodische Anordnung möglich (7, 8). Dies ist insbesondere bei einer kreisförmigen Außenkontur der Optikelemente 3 und der Linsen 5 von Vorteil, da dies der dichtesten Packung entspricht, so daß die Totzonen zwischen den Optikelementen 3 und den Linsen 5 minimiert sind.

Claims (11)

  1. Homogenisier- und Strahlformvorrichtung (1) mit einer ersten Optik (2), einem der ersten Optik (2) nachgeordneten Linsenarray (4), das eine Mehrzahl von Linsen (5) umfaßt, deren Brennpunkte in einer Brennebene (B) zwischen der ersten Optik (2) und dem Linsenarray (4) liegen, und einer dem Linsenarray (4) nachgeordneten zweiten Optik (6), wobei die erste Optik (2) ein einfallendes optisches Strahlenbündel (7) so aufteilt, daß in der Brennebene (B) eine vorbestimmte geometrische Grundverteilung der Strahlintensität periodisch wiederholt vorliegt und jeder Linse (5) des Linsenarrays (2) eine der Grundverteilungen zugeordnet ist, wobei jede Linse (5) die ihr zugeordnete Grundverteilung zusammen mit der zweiten Optik (6) in einer der zweiten Optik (6) nachgeordneten Ausgangsebene (8) so abbildet, daß alle Grundverteilungen überlagert abgebildet sind, wodurch in der Ausgangsebene (8) eine einzige, den Grundverteilungen entsprechende Intensitätsverteilung vorliegt.
  2. Vorrichtung nach Anspruch 1, wobei die erste Optik (2) als Optikarray (2) mit einer Mehrzahl von Optikelementen (3) ausgebildet ist und zur Erzeugung jeder Grundstruktur in der Brennebene (B) jeweils mindestens eines der Optikelemente (3) dient.
  3. Vorrichtung nach Anspruch 2, wobei zur Erzeugung jeder Grundstruktur jeweils genau eines der Optikelemente (3) des Optikarrays (2) dient.
  4. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, wobei die Optikelemente (3) jeweils als refraktives Element ausgebildet sind, bei denen bevorzugt eine der beiden Seiten gekrümmt ist, jedoch weder sphärisch noch asphärisch.
  5. Vorrichtung nach Anspruch 2 oder 3, wobei die Optikelemente (3) jeweils eine diffraktive Struktur aufweisen.
  6. Vorrichtung nach Anspruch 5, wobei die Optikelemente (3) jeweils auf einer Seite die diffraktive Struktur und auf ihrer anderen Seite eine refraktive Struktur aufweisen.
  7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 6, wobei die Anzahl der Optikelemente (3) der Anzahl der Linsen (5) entspricht.
  8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 2 bis 7, wobei die Optikelemente (3) und die Linsen (5) in gleicher Weise periodisch angeordnet sind.
  9. Vorrichtung nach Anspruch 8, wobei als periodische Anordnung eine orthogonale oder hexagonale Anordnung gewählt ist.
  10. Vorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei der ein Homogenisiersystem (10) der Ausgangsebene (8) nachgeordnet ist, wobei die Ausgangsebene (8) der Pupillenebene (9) des Homogenisiersystems (10) entspricht, so daß in der Feldebene (11) des Homogenisiersystems (10) eine gleichmäßige Intensitätsverteilung mit der durch die Intensitätsverteilung in der Pupillenebene (9) vorgegebenen Winkelverteilung vorliegt.
  11. Homogenisier- und Strahlformverfahren für eine Homogenisier- und Strahlformvorrichtung nach einem der obigen Ansprüche, bei dem das einfallende optische Strahlenbündel mittels der ersten Optik so aufgeteilt wird, daß in der Brennebene eine vorbestimmte geometrische Grundverteilung der Strahlintensität periodisch wiederholt vorliegt und jeder Linse des Linsenarrays eine der Grundverteilung zugeordnet ist, wobei jede Linse die ihr zugeordnete Grundverteilung zusammen mit der zweiten Optik in eine der zweiten Optik nachgeordnete Ausgangsebene so abbildet, daß alle Grundverteilungen überlagert abgebildet werden, wodurch in der Ausgangsebene eine einzige, den Grundverteilungen entsprechende Intensitätsverteilung vorliegt.
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008023802A1 (de) 2008-05-15 2009-11-19 Carl Zeiss Microlmaging Gmbh Beleuchtungssystem, insbesondere für Mikroskope
US9116447B2 (en) 2008-09-26 2015-08-25 Carl Zeiss Sms Gmbh Microscope for reticle inspection with variable illumination settings
CN112180579A (zh) * 2020-09-11 2021-01-05 中国科学院西安光学精密机械研究所 采用阵列式物镜的显微成像组件、装置、系统及成像方法

Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB742970A (en) * 1952-10-25 1956-01-04 Eastman Kodak Co Improvements in or relating to optical apparatus
DE4220705A1 (de) * 1992-06-24 1994-01-05 Lambda Physik Gmbh Vorrichtung zum Aufteilen eines Lichtstrahles in homogene Teilstrahlen
DE10049557A1 (de) * 2000-10-06 2002-04-25 Microlas Lasersystem Gmbh Vorrichtung zum Umwandeln der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls und Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Laserstrahls mit einer Intensität, dielängs einer Achse von einer Seite des Strahls zur anderen beständig abfällt

Patent Citations (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB742970A (en) * 1952-10-25 1956-01-04 Eastman Kodak Co Improvements in or relating to optical apparatus
DE4220705A1 (de) * 1992-06-24 1994-01-05 Lambda Physik Gmbh Vorrichtung zum Aufteilen eines Lichtstrahles in homogene Teilstrahlen
DE10049557A1 (de) * 2000-10-06 2002-04-25 Microlas Lasersystem Gmbh Vorrichtung zum Umwandeln der Intensitätsverteilung eines Laserstrahls und Vorrichtung und Verfahren zum Erzeugen eines Laserstrahls mit einer Intensität, dielängs einer Achse von einer Seite des Strahls zur anderen beständig abfällt

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008023802A1 (de) 2008-05-15 2009-11-19 Carl Zeiss Microlmaging Gmbh Beleuchtungssystem, insbesondere für Mikroskope
US9116447B2 (en) 2008-09-26 2015-08-25 Carl Zeiss Sms Gmbh Microscope for reticle inspection with variable illumination settings
CN112180579A (zh) * 2020-09-11 2021-01-05 中国科学院西安光学精密机械研究所 采用阵列式物镜的显微成像组件、装置、系统及成像方法
CN112180579B (zh) * 2020-09-11 2021-11-16 中国科学院西安光学精密机械研究所 采用阵列式物镜的显微成像组件、装置、系统及成像方法

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